The utility model discloses a diffusion furnace, which relates to the technical field of solar cell preparation. The diffusion furnace comprises a furnace body, an air inlet pipe and an exhaust pipe extending into the furnace body from the root of the furnace body. The air inlet pipe is arranged above the exhaust pipe, and a space is formed between the air inlet pipe and the exhaust pipe to accommodate the carrier carrying the silicon chip. The air inlet pipe includes a main pipe and a plurality of auxiliary pipes, which are arranged along the axial direction of the furnace body; the plurality of auxiliary pipes are horizontally arranged and communicated with the peripheral surface of the main pipe, and the auxiliary pipes are arranged horizontally A plurality of spray holes are arranged on the peripheral surface of the main pipeline and the main pipeline, and a plurality of vent holes with openings upward are arranged on the exhaust pipe along the axial direction. In the diffusion furnace, a spray hole is arranged on the air inlet pipe, and an exhaust hole is arranged on the exhaust pipe, which can make the gas in the furnace flow up and down, which is conducive to improving the uniformity of the diffusion gas in the furnace body, so as to improve the diffusion effect; the air inlet pipe includes a sub pipe arranged horizontally, which can diffuse the gas in the main pipe to both sides, so as to improve the uniformity of the radial distribution of the gas along the furnace body.
【技术实现步骤摘要】
一种扩散炉
本技术涉及太阳能电池制备
,尤其涉及一种扩散炉。
技术介绍
太阳能电池又称为“太阳能芯片”或“光电池”,是一种利用太阳光直接发电的光电半导体薄片。它只要被满足一定照度条件的光照到,瞬间就可输出电压及在有回路的情况下产生电流。太阳能电池的制备过程中,硅片需要依次经过制绒、扩散、刻蚀、镀膜以及印刷等工序。扩散工艺是太阳能电池制备过程中的一个核心工序,即硅片以石英舟为载体放入扩散炉中,在一定温度下,向扩散炉内通入氮气和扩散源,以使硅片的表面扩散沉积PN结。现有的扩散炉如图1所示,包括炉体1'、进气管2'和排气管3',炉体1'内部中空,用于放置承载硅片的石英舟,进气管2'和排气管3'的端部开口并伸入炉体1'内,扩散气体由进气管2'的端部开口进入炉体1'后,与硅片反应后,经炉体1'底部的排气管3'的端口排出。这种结构使得扩散炉内靠近进气管2'的端部开口的区域内扩散气体的浓度大,靠近排气管3'的端部开口的区域的扩散气体的浓度小,使得炉体1'内的硅片的反应速度和扩散速度不同,从而影响硅片扩散的良品率。此外,扩散时,扩散炉内的硅片竖直放置,扩散气体在扩散炉内的流动方向与硅片表面垂直,这种横向流动不利于硅片表面扩散气体的均匀分布,影响硅片表面与扩散气体的均匀反应,从而降低了硅片的性能。因此,亟需一种扩散炉以解决扩散不均的问题。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种扩散炉,扩散气体的浓度分布均匀,扩散效果好。为达此目的,本技术采用以下技术方案:一种扩散炉,包括炉体、由所述炉体的根部伸入 ...
【技术保护点】
1.一种扩散炉,包括炉体(1)、由所述炉体(1)的根部伸入所述炉体(1)内的进气管(2)和排气管(3),所述进气管(2)设置于所述排气管(3)的上方,所述进气管(2)和所述排气管(3)之间形成容纳承载硅片(5)的载体的空间,其特征在于,所述进气管(2)包括:/n主管路(21),所述主管路(21)沿所述炉体(1)轴向设置;及/n多个副管路(22),多个所述副管路(22)水平设置并与所述主管路(21)的外周面连通,所述副管路(22)和所述主管路(21)的外周面上均设置有多个喷淋孔(211);/n所述排气管(3)上沿轴向设置有多个开口向上的排气孔(31)。/n
【技术特征摘要】
1.一种扩散炉,包括炉体(1)、由所述炉体(1)的根部伸入所述炉体(1)内的进气管(2)和排气管(3),所述进气管(2)设置于所述排气管(3)的上方,所述进气管(2)和所述排气管(3)之间形成容纳承载硅片(5)的载体的空间,其特征在于,所述进气管(2)包括:
主管路(21),所述主管路(21)沿所述炉体(1)轴向设置;及
多个副管路(22),多个所述副管路(22)水平设置并与所述主管路(21)的外周面连通,所述副管路(22)和所述主管路(21)的外周面上均设置有多个喷淋孔(211);
所述排气管(3)上沿轴向设置有多个开口向上的排气孔(31)。
2.如权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,多个所述副管路(22)互相平行且等间距设置。
3.如权利要求1所述的扩散炉,其特征在于,所述主管路(21)上的所述喷淋孔(211)沿远离所述炉体(1)根部的方向逐渐增大。
4.如权利要求1所述的扩散...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨健,费正洪,
申请(专利权)人:盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司,阿特斯阳光电力集团有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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