激光退火装置、激光退火方法和掩模制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够降低掩模连接边界上显示不均匀的激光退火装置、激光退火方法和掩模。激光退火装置具备掩模，在掩模上，在正交于扫描方向的行方向上排列了若干个开口区块，开口区块含有在平行于扫描方向的列方向上排列的若干个开口部，每当使掩模和基板中的至少一者移动到正交于扫描方向的方向上的规定位置后，进行激光照射处理，也就是使掩模和基板中的至少一者沿着平行于扫描方向的方向进行移动并通过若干个开口部对基板的若干个规定区域进行激光照射的处理，至少一组由相邻的两个开口区块构成的组中，作为一个开口区块的第一开口区块的开口部的位置与作为另一个开口区块的第二开口区块的开口部的位置在平行于扫描方向的方向上是错开的。

Laser annealing device, laser annealing method and mask

The invention provides a laser annealing device, a laser annealing method and a mask which can reduce the uneven display on the mask connection boundary. The laser annealing device is provided with a mask, on the mask, a plurality of opening blocks are arranged in the row direction orthogonal to the scanning direction, and the opening blocks contain a plurality of opening parts arranged in the column direction parallel to the scanning direction. Whenever at least one of the mask and the substrate is moved to a specified position orthogonal to the scanning direction, the laser irradiation processing is carried out, that is to say The process of moving at least one of the mask and the substrate in a direction parallel to the scanning direction and laser irradiating a plurality of specified areas of the substrate through a plurality of opening parts. In at least one group consisting of two adjacent opening blocks, the position of the opening part of the first opening block as one opening block and the second opening area as another opening block The position of the opening part of the block is staggered in the direction parallel to the scanning direction.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光退火装置、激光退火方法和掩模
本专利技术涉及激光退火装置、激光退火方法和掩模。
技术介绍
TFT(ThinFilmTransistor：薄膜晶体管)方式的液晶显示器中，TFT基板与具有R(红)、G(绿)、B(蓝)颜色的彩色滤光片基板隔着一定间隙粘贴，在TFT基板与彩色滤光片基板之间注入液晶，并在每个像素上控制液晶分子对光的透射率，从而能够显示影像。在TFT基板上，数据线和扫描线配置成横竖方向的格子状，在数据线与扫描线交叉的位置形成像素。像素由TFT、像素电极、对置电极以及在像素电极与对置电极之间的液晶层构成。还有，在由若干个像素构成的显示区域的周围，形成由TFT构成的驱动电路，驱动电路驱动数据线和扫描线。例如，目前在开发的TFT有使用硅半导体的非晶硅(非晶态、a-Si)TFT、以多晶硅(多晶态、p-Si)作为半导体层的低温多晶硅TFT等。a-SiTFT中，电阻高，漏电流(泄漏电流)小。还有，p-SiTFT与a-SiTFT相比，电子迁移率特别大。通过将激光照射到非晶硅层进行退火处理，能够形成多晶硅层。例如，有一种激光退火装置，利用透镜组使激光源射出的激光形成平行光束，再通过形成有开口部的掩模和微透镜阵列将形成的平行光束照射到基板上。这样的激光退火装置中，在掩模上沿着扫描方向以及与扫描方向正交的方向配置了排列成矩阵状的若干个开口部，每次使掩模或者基板在扫描方向上移动像素的间距后进行激光照射，由此能够使1个循环的扫描中对基板的所需位置(照射区域)照射激光的次数等于在扫描方向上排列的开口部的数量。1个循环的扫描结束后，使掩模或者基板移动到下1个循环的扫描开始位置，进行下1个循环的扫描(参照专利文献1)。〔专利文献〕专利文献1：日本专利第5470519号公报
技术实现思路
图17是用在现有的激光退火装置中的掩模的结构以及扫描周期和掩模位置之间的关系的示意图。如图17所示，在掩模上，沿着扫描方向以及与扫描方向正交的方向配置了排列成矩阵状的若干个开口部。图17的例子中，沿着扫描方向排列了10个开口部。还有，在正交于扫描方向的方向上，由10个开口部构成的开口部列配置的列数是所需的列数。例如，左侧的掩模指出第一次扫描中的掩模位置，右侧的掩模指出下一个循环(即第二次扫描)中的掩模位置。掩模位置可以是各循环的扫描开始位置，也可以是从扫描的开始位置起在扫描方向上移动了任意距离的位置。在第一次扫描中，掩模内的各开口部(例如，在正交于扫描方向的方向上排列的各开口部)上的激光照射位置偏差和照射时刻偏差是相同的。同样地，在第二次扫描中，掩模内的各开口部(例如，在正交于扫描方向的方向上排列的各开口部)上的激光照射位置偏差和照射时刻偏差是相同的。但是，第一次扫描中的激光照射位置偏差和照射时刻偏差与第二次扫描中的激光照射位置偏差和照射时刻偏差是不同的。也就是说，掩模内的照射条件(例如，照射位置和照射时刻等)是相同的，但在第一次扫描和第二次扫描中相邻的掩模之间，受到激光照射位置偏差和照射时刻偏差的影响，该影响与在扫描方向上排列的开口部的数量(即照射次数)相对应。图18是与现有的激光退火装置的激光的照射区域相对应的显示区域的状态示意图。图18中，左侧的矩形表示与第一次扫描中的照射区域相对应的显示区域，右侧的矩形表示与第二次扫描中的照射区域相对应的显示区域。如图18所示，在第一次扫描与第二次扫描之间，由于照射位置偏差和照射时刻偏差的影响，因此产生半导体层的特性差异，从而在扫描的边界部(也称为掩模连接边界)产生显示不均匀。本专利技术是鉴于上述问题而作出的，其目的在于提供能够降低掩模连接边界上显示不均匀的激光退火装置、激光退火方法以及构成所述激光退火装置的掩模。本专利技术的实施方式所涉及的激光退火装置具备掩模，在所述掩模上，在正交于扫描方向的行方向上排列了若干个开口区块，所述开口区块含有在平行于所述扫描方向的列方向上排列的若干个开口部，每当使所述掩模和基板中的至少一者移动到正交于所述扫描方向的方向上的规定位置后，进行激光照射处理，所述激光照射处理是指使所述掩模和所述基板中的至少一者沿着平行于所述扫描方向的方向进行移动并通过所述若干个开口部对所述基板的若干个规定区域进行激光照射的处理，所述激光退火装置中，至少一组由相邻的两个开口区块构成的组中，作为其中一个开口区块的第一开口区块的开口部的位置与作为其中另一个开口区块的第二开口区块的开口部的位置在平行于所述扫描方向的方向上是错开的。本专利技术的实施方式所涉及的激光退火方法中使用本专利技术的实施方式所涉及的激光退火装置，所述激光退火方法包含激光照射步骤，所述激光照射步骤中，使所述基板和所述掩模中的至少一者沿着平行于所述扫描方向的方向进行移动，并通过所述若干个开口部对所述基板进行激光照射，每当使所述掩模和所述基板中的至少一者移动到正交于所述扫描方向的方向上的规定位置后，进行所述激光照射步骤。本专利技术的实施方式所涉及的掩模上，在正交于扫描方向的行方向上排列了若干个开口区块，所述开口区块含有在平行于所述扫描方向的列方向上排列的若干个开口部，所述掩模中，至少一组由相邻的两个开口区块构成的组中，作为其中一个开口区块的第一开口区块的开口部的位置与作为其中另一个开口区块的第二开口区块的开口部的位置在平行于所述扫描方向的方向上是错开的。〔专利技术效果〕根据本专利技术，能够降低掩模连接边界上的显示不均匀。附图说明图1是本实施方式的激光退火装置的结构的一个例子的示意图。图2是本实施方式的掩模结构的一个例子的俯视示意图。图3是本实施方式的开口部和微透镜的位置关系的示意图。图4A是本实施方式的激光退火装置对基板进行扫描的一个例子的示意图。图4B是本实施方式的激光退火装置对基板进行扫描的一个例子的示意图。图4C是本实施方式的激光退火装置对基板进行扫描的一个例子的示意图。图4D是本实施方式的激光退火装置对基板进行扫描的一个例子的示意图。图5是本实施方式的掩模的开口部结构的一个例子的示意图。图6是与本实施方式的激光退火装置的激光的照射区域相对应的显示区域的状态示意图。图7是本实施方式的掩模的开口部的配置第一例的示意图。图8是含有本实施方式的掩模的掩模连接边界时的显示区域的显示不均匀降低的示例图。图9是本实施方式的掩模的开口部的配置第二例的示意图。图10是本实施方式的掩模的开口部的配置第三例的示意图。图11是本实施方式的掩模的开口部的配置第四例的示意图。图12是本实施方式的掩模的开口部的配置第五例的示意图。图13是本实施方式的掩模的开口部的配置第六例的示意图。图14是本实施方式的掩模的开口部的配置第七例的示意图。图15是本实施方式的掩模的开口部的配置第八例的示意图。图16是使用本实施方式的激光退火装置进行的激光退火方法的一个例子的流程图。图17是用在现有的激光退火装置中的掩模的结构以及扫描周期和掩模位置之间的关系的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光退火装置，具备掩模，在所述掩模上，在正交于扫描方向的行方向上排列了若干个开口区块，所述开口区块含有在平行于所述扫描方向的列方向上排列的若干个开口部，每当使所述掩模和基板中的至少一者移动到正交于所述扫描方向的方向上的规定位置后，进行激光照射处理，所述激光照射处理是指使所述掩模和所述基板中的至少一者沿着平行于所述扫描方向的方向进行移动并通过所述若干个开口部对所述基板的若干个规定区域进行激光照射的处理，所述激光退火装置的特征在于，/n至少一组由相邻的两个开口区块构成的组中，作为其中一个开口区块的第一开口区块的开口部的位置与作为其中另一个开口区块的第二开口区块的开口部的位置在平行于所述扫描方向的方向上是错开的。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光退火装置，具备掩模，在所述掩模上，在正交于扫描方向的行方向上排列了若干个开口区块，所述开口区块含有在平行于所述扫描方向的列方向上排列的若干个开口部，每当使所述掩模和基板中的至少一者移动到正交于所述扫描方向的方向上的规定位置后，进行激光照射处理，所述激光照射处理是指使所述掩模和所述基板中的至少一者沿着平行于所述扫描方向的方向进行移动并通过所述若干个开口部对所述基板的若干个规定区域进行激光照射的处理，所述激光退火装置的特征在于，
至少一组由相邻的两个开口区块构成的组中，作为其中一个开口区块的第一开口区块的开口部的位置与作为其中另一个开口区块的第二开口区块的开口部的位置在平行于所述扫描方向的方向上是错开的。


2.根据权利要求1所述的激光退火装置，其特征在于，
相对于所述第一开口区块上沿着所述列方向排列的若干个开口部中从一端侧开始的至少第N个开口部的位置，所述第二开口区块上沿着所述列方向排列的若干个开口部中从所述一端侧开始的第N个开口部的位置在平行于所述扫描方向的方向上错开了规定距离，其中，N是从1到所述开口区块所含开口部的总数的整数。


3.根据权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，
相对于所述第一开口区块的所述第N个开口部的位置，所述第二开口区块的所述第N个开口部的位置在所述扫描方向上是错开的，
相对于所述第二开口区块的所述第N个开口部的位置，与所述第二开口区块相邻但不是所述第一开口部组的第三开口区块上，沿着所述列方向排列的若干个开口部中从所述一端侧开始的第N个开口部的位置在所述扫描方向的反方向上是错开的。


4.根据权利要求2所述的激光退火装置，其特征在于，
所述第一开口区块和所述第二开口区块的组在所述行方向上配置了若干个。


5.根据权利要求4所述的激光退火装置，其特征在于，
所述第一开口区块和所述第二开口区块的相邻两组中，相对于第一组中所述行方向的一侧的所述第一开口区块的所述第N个开口部的位置，所述第一组中所述行方向的另一侧的所述第二开口区块的所述第N个开口部的位置在所述扫描方向上是错开的，
相对于第二组中所述行方向的一侧的所述第一开口区块的所述第N个开口部的位置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：中川英俊，
申请(专利权)人：堺显示器制品株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP