一种应用于直写式曝光机的吸盘制造技术

一种应用于直写式曝光机的吸盘，所述吸盘包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘构成所述吸盘的真空区域，所述真空区域内包括至少一个隔断筋，所述隔断筋将所述真空区域划分为至少两个独立的真空区域，所述每个独立的真空区域均包括一个通孔。通过在所述真空区域内设置隔断筋将所述真空区域划分为多个独立区域，并每个独立真空区域设置通孔连通至所述吸真空转接盒，或者所述副真空区域通过通孔连通至所述主真空区域。通过设定所述通孔的直径或者面积，减少漏气的流量和速度，达到控制漏气的影响。无需复杂的控制，结构简单方便。

A suction cup for direct writing exposure machine

A suction cup applied to a direct writing exposure machine, the suction cup includes an upper suction cup and a lower suction cup, the upper suction cup and the lower suction cup form a vacuum area of the suction cup, the vacuum area includes at least one partition bar, the partition bar divides the vacuum area into at least two independent vacuum areas, and each independent vacuum area includes a through hole. The vacuum area is divided into a plurality of independent areas by setting a partition bar in the vacuum area, and each independent vacuum area is provided with a through hole to connect to the vacuum absorbing transfer box, or the sub vacuum area is connected to the main vacuum area through the through hole. By setting the diameter or area of the through hole, reducing the flow rate and speed of air leakage, the influence of air leakage can be controlled. Without complex control, the structure is simple and convenient.

【技术实现步骤摘要】
一种应用于直写式曝光机的吸盘
：本专利技术涉及直写式曝光机
，具体为应用于直写式曝光机的吸盘结构。
技术介绍
：直写式曝光是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图，相比于传统的掩膜版和菲林底片等曝光的影像直接转移技术，直写式曝光技术产能高，对位精度高。在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。在对PCB板进行曝光时，需要将PCB板放置在吸盘上，通常所述PCB板能够覆盖全部的吸盘真空气孔，但在曝光小尺寸的PCB板时，小尺寸的PCB板无法完全覆盖大尺寸吸盘，吸盘面的大部分真空气孔漏在外面未被PCB板覆盖，泄露空气，使得吸盘整体的真空环境被破坏，吸盘吸附PCB板的真空度达不到需求。在曝光小尺寸的PCB板时，需要人工干预，去堵住漏气的真空气孔。而对于自动线或者自动车间来说，为了解决该问题，行业内通常会通过复杂的软件与电气控制，把吸盘划分成不同区域，每个区域都需要软件与电气元件配合去控制真空气路的通断，以达到吸盘的分区域吸真空效果，该方法会使得吸盘下有太多附加结构，并且分区域越多，电气控制越复杂。
技术实现思路
：本专利技术所要解决的技术问题是提供一种简便控制的吸盘。为了实现上述目的，本专利技术提供一种应用于直写式曝光机的吸盘，所述吸盘包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘构成所述吸盘的真空区域，所述上吸盘和所述下吸盘所构成的真空区域内包括至少一个隔断筋，所述隔断筋将所述真空区域划分为至少两个独立的真空区域，所述每个独立的真空区域均包括一个通孔。进一步的，所述通孔设置于所述下吸盘，并连通至真空转接盒。进一步的，所述通孔通过气管连接至真空转接盒。进一步的，所述通孔设置于所述隔断筋。进一步的，所述隔断筋相互平行或者相互垂直或者相互交叉。进一步的，所述隔断筋之间具有平行关系、垂直关系、交叉关系中的至少两种。进一步的，所述独立的真空区域中其中包含定位原点的区域为主真空区域，其余真空区域为副真空区域，所述副真空区域的通孔小于所述主真空区域的通孔。进一步的，所述副真空区域的通孔的面积为30-100mm2。进一步的，所述隔断筋与所述上吸盘相连，或者与所述下吸盘相连，或者与上吸盘和下吸盘相连。进一步的，所述真空气压表连通真空区域，监测真空度是否达到需求。本专利技术通过在所述真空区域内设置隔断筋将所述真空区域划分为多个独立区域，并每个独立真空区域设置通孔，通过设定所述通孔的直径或者面积，减少漏气的流量和速度，达到控制漏气的影响。无需复杂的控制，结构简单方便。附图说明：图1是吸盘的示意图。图2是下吸盘背面示意图。图3是第一实施例下吸盘示意图。图4是第一实施例下吸盘与上吸盘气孔的示意图。图5是第二实施例下吸盘示意图。图6是第二实施例下吸盘与上吸盘气孔的示意图。图7是第三实施例下吸盘示意图。图8是第三实施例下吸盘与上吸盘气孔的示意图。具体实施方式：为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面通过附图中示出的具体实施例来描述本专利技术。如图1-8所示，本专利技术涉及一种应用于直写式曝光机的吸盘，所述吸盘包括上吸盘1和下吸盘2，所述上吸盘1和下吸盘2构成所述吸盘的真空区域。待曝光的基板放置于所述上吸盘1的表面，所述下吸盘2的背面设置有真空气压表3、吸真空转接盒4，所述真空气压表3连通真空区域，监测真空度是否达到需求。所述吸真空转接盒4连接至吸真空装置（未示出），所述吸真空装置通过所述吸真空转接盒4完成吸真空操作。所述上吸盘1包括多个连通至所述真空区域的气孔10，所述气孔10为柱形朝向下吸盘2延伸至所述真空区域内，并与所述下吸盘2具有间隙；所述上吸盘1和所述下吸盘2所构成的真空区域内包括多个隔断筋5，所述隔断筋5将所述真空区域划分为多个独立的真空区域，所述隔断筋5可以与上吸盘1相连，或者与下吸盘2相连，或者与上、下吸盘（1、2）相连；所述每个独立的真空区域均包括一个通孔，所述通孔连通所述独立的真空区域至所述吸真空转接盒4，所述吸真空设备通过了所述吸真空转接盒4和所述通孔完成对所述独立的真空区域的吸真空操作，所述通孔可以设置于所述下吸盘2，或者所述通孔设置于所述隔断筋5。如图1-4所示，为本专利技术的第一实施例，所述真空区域内包含两个隔断筋5，所述两个隔断筋5平行设置将所述真空区域分为三个区域（A、B、C），所述三个区域（A、B、C）分别为主真空区域A和第一副真空区域B和第二副真空区域C，所述主真空区域A包含定位原点。所述主真空区域A内的所述下吸盘2设有第一通孔20，所述第一通孔20与所述吸真空转接盒4相连；所述第一副真空区域B内的所述下吸盘2设有第二通孔21，所述第二通孔21与所述下吸盘2背部的第一气管接头22连通，所述第一气管接头22通过气管23连接至所述吸真空转接盒4；所述第二副真空区域C内的所述下吸盘2设有第三通孔24，所述第三通孔24与所述下吸盘背部的第二气管接头25连通，所述第二气管接头25通过气管23连接至所述吸真空转接盒4。所述第二通孔21和所述第三通孔24的面积小于所述第一通孔20的面积。当所述基板仅覆盖所述主真空区域A时，所述吸真空装置进行吸气操作，所述第一副真空区域B和所述第二副真空区域C会产生漏气现象，所述第一副真空区域B和所述第二副真空区域C是通过第二通孔21和第三通孔24连通至所述吸真空装置，根据流量、压力差、直径之间的关系：Q=[P/(ρgSL)]^(1/2)式中：Q——流量,m^3/s；P——管道两端压力差,Pa；ρ——密度,kg/m^3；g——重力加速度,m/s^2；S——管道摩阻，S=10.3*n^2/d^5.33,n为管内壁糙率，d为管内径,m；L——管道长度,m。流速:V=4Q/(3.1416*d^2),流速单位m/s。由上述三个公式可知，所述气体的流量和流速与管内径有关，而管内径与所述第二通孔21和所述第三通孔24的直径有关，所述管内径对应于所述第二通孔21和所述第三通孔24的直径，所述第二通孔21和所述第三通孔24的直径大，相对应的管内径大，所述第二通孔21和所述第三通孔24的直径小，相应的管内径小。即所述第二通孔21和所述第三通孔24的直径越小，所述气体的流量和流速越小，所述第一副真空区域B和所述第二副真空区域C漏气的流量和流速都会减小。本专利技术通过隔断筋5隔离所述主真空区域A和第一副真空区域B、第二副真空区域C，在所述第一副真空区域B和所述第二副真空区域C设置直径较小的第二通孔21和第三通孔24连通至所述吸真空装置，漏气的面积不再取决于第一副真空区域B和第二副真空区C对应的气孔10的面积，而是取决于所述第二通孔21和所述第三通孔24的面积，通过设定所述第二通孔21和第三通孔24直径或者面积，减少漏气的流量和速度。所述吸真空装置进行吸气操作时，所述第二副真空区域B和所述第三副真空区域C具有较小的气体流量和速度，不会对主真空区域A产生影响。如图所示，为本专利技术的第二实施例，所述真空本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种应用于直写式曝光机的吸盘，所述吸盘包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘构成所述吸盘的真空区域，其特征在于：所述上吸盘和所述下吸盘所构成的真空区域内包括至少一个隔断筋，所述隔断筋将所述真空区域划分为至少两个独立的真空区域，所述每个独立的真空区域均包括一个通孔。/n

【技术特征摘要】
1.一种应用于直写式曝光机的吸盘，所述吸盘包括上吸盘和下吸盘，所述上吸盘和下吸盘构成所述吸盘的真空区域，其特征在于：所述上吸盘和所述下吸盘所构成的真空区域内包括至少一个隔断筋，所述隔断筋将所述真空区域划分为至少两个独立的真空区域，所述每个独立的真空区域均包括一个通孔。


2.根据权利要求1所述的吸盘，其特征在于：所述通孔设置于所述下吸盘，并连通至真空转接盒。


3.根据权利要求2所述的吸盘，其特征在于：所述通孔通过气管连接至真空转接盒。


4.根据权利要求1所述的吸盘，其特征在于：所述通孔设置于所述隔断筋。


5.根据权利要求1所述的吸盘，其特征在于：所述隔断筋相互平行或者相互垂直或者相互交叉。

【专利技术属性】
技术研发人员：刘栋，蔡瑞，钱志斌，李伟成，张雷，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32