一种基站高度测量方法、装置、电子设备和存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基站高度测量方法、装置、电子设备和存储介质。其技术方案为：一种基站高度测量方法，包括如下步骤：S1：取长度为m的参考物放置于待测基站的中心线上，使参考物保持竖直；S2：依次测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ；测量时，取相对于水平面朝上的方向为正方向；S3：根据公式h＝m(tanα‑tanθ)/(tanβ‑tanγ)，计算得到基站高度h。本发明专利技术提供了一种测量误差小、方便操作的基站高度测量方法、装置、电子设备和存储介质。

A base station height measurement method, device, electronic equipment and storage medium

The invention relates to a base station height measurement method, a device, an electronic device and a storage medium. The technical scheme is as follows: a base station height measurement method, which includes the following steps: S1: take a reference with a length of M and place it on the center line of the base station to be tested, so that the reference remains vertical; S2: measure the top inclination angle \u03b1 of the base station, the top inclination \u03b2 of the reference, the bottom inclination \u03b3 of the reference, and the bottom inclination \u03b8 of the base station in turn; when measuring, take the upward direction relative to the horizontal plane as Positive direction; S3: according to the formula H = m (Tan \u03b1 - Tan \u03b8) / (Tan \u03b2 - Tan \u03b3), calculate the height of base station H. The invention provides a base station height measurement method, a device, an electronic device and a storage medium with small measurement error and convenient operation.

【技术实现步骤摘要】
一种基站高度测量方法、装置、电子设备和存储介质
本专利技术属于基站高度测量
，具体涉及一种基站高度测量方法、装置、电子设备和存储介质。
技术介绍
目前用于基站高度测量的方法分为两种：1)应用固定标尺(百米绳)从基站顶端自然垂下，获得基站高度数据；2)应用激光测距仪，从基站底部以一定角度照射基站顶端获得基站高度数据；3)应用手机终端测量，手机程序计算基站高度；4)应用专用高度测量仪为基于气压数据进行换算以上两种方案存在的弊端：1)采用固定标尺方式，需要人员站在基站顶端，标尺绳自然垂落，且无法测量基站中间任意高度，时间成本高，容易受风影响且存在一定危险性；2)应用激光测距，无法以垂直角度测量基站高度，且无法精准指向基站顶端进行测量，获得高度数据误差很大。目前应用手机终端进行高度测量需要输入较多参数，且待测物与测量者之间距离需要额外工具进行测量，便携性较差。应用专用高度测量仪为基于气压数据进行换算，所得到数据为海拔高度，考虑到空气流动的影响，误差在20米～200米之间，无法进行基站高度测量。
技术实现思路
为了解决现有技术存在的上述问题，本专利技术目的在于提供一种测量误差小、方便操作的基站高度测量方法、装置、电子设备和存储介质。本专利技术所采用的技术方案为：一种基站高度测量方法，包括如下步骤：S1：取长度为m的参考物放置于待测基站的中心线上，使参考物保持竖直；S2：依次测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ；测量时，取相对于水平面朝上的方向为正方向；S3：根据公式h＝m(tanα-tanθ)/(tanβ-tanγ)，计算得到基站高度h。优选地，在步骤S1中，参考物的底部与待测基站的底部位于同一水平面上，基站高度h＝m(tanα-tanγ)/(tanβ-tanγ)。优选地，在步骤S2中，测量点的位置高于参考物的顶部，基站高度h＝m[tanα+tan(-γ)]/[tan(-γ)-tan(-β)]。优选地，在步骤S2中，分别多次测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ，再取平均值。一种基站高度测量装置，包括参考物，参考物放置于待测基站的中心线上；参考物的长度为m，参考物竖直设置；倾角测量机构：用于依次测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ；测量时，取相对于水平面朝上的方向为正方向；计算模块：根据公式h＝m(tanα-tanθ)/(tanβ-tanγ)，计算得到基站高度h。优选地，所述倾角测量机构包括用于瞄准待测倾角点的智能终端，智能终端上连接有倾角传感器。优选地，所述参考物的底部与待测基站的底部位于同一水平面上。优选地，所述倾角测量机构的位置高于参考物的顶部。本专利技术的有益效果为：1.利用本专利技术的方法测量基站高度的过程中，只需要测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ。利用现有的设备即可完成各倾角的测量，如倾角传感器。再根据公式计算基站高度即可。因此，本专利技术的测量方法简单，所需的设备较少，操作较为简单。使用本专利技术的方法的测量结果不受气流等环境影响，且倾角测量装置能更容易瞄准待测倾角点，使得各倾角测量精确，计算所得的基站高度也更加准确。参考物可放置于任何高度位置，不需要将参考物的位置进行严格限定，进一步简化了测量操作的程序，方便快速测量。2.当参考物的底部与待测基站的底部位于同一水平面上时，θ＝γ，则基站高度h＝m(tanα-tanγ)/(tanβ-tanγ)，可少测量一个倾角，进一步简化了操作，提高倾角测量效率，方便快速根据公式计算得到基站高度。3.当参考物的底部与待测基站的底部位于同一水平面上、且测量点的位置高于参考物的顶部时，β和γ均为负值。则基站高度h＝m[tanα+tan(-γ)]/[tanβ+tan(-γ)]。此时，本专利技术适用于大部分测量条件，即参考物的高度比测量者高、基站的底部和测量者位置同一平面上的情况，方便快速计算基站高度。4.在测量各倾角时，分别多次测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ，再取平均值，则各倾角的测量精度提高，相应地，基站高度的计算结果准确度提高。5.倾角测量机构能将基站的顶部、参考物的顶部、参考物的底部、基站的底部依次瞄准，并分别测出基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ。只需要测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ，再根据公式计算基站高度即可。因此，本专利技术的装置可简化测量操作，所需的设备较少。使用本专利技术的装置，可不受气流等环境影响，且倾角测量装置能更容易瞄准待测倾角点，使得各倾角测量精确，计算所得的基站高度也更加准确。参考物可放置于任何高度位置，不需要将参考物的位置进行严格限定，进一步简化了测量操作的程序，方便快速测量。6.智能终端可瞄准待测倾角点，倾角传感器随即测出倾角，测量效率高。倾角传感器能快速准确地测出各倾角，方便快速计算出基站高度，提高了基站高度测量整体效率。7.在测量各倾角时，倾角测量机构分别多次测量基站的顶部倾角α、参考物的顶部倾角β、参考物的底部倾角γ、基站的底部倾角θ，再取平均值，则各倾角的测量精度提高，相应地，基站高度的计算结果准确度提高。8.本专利技术的电子设备的处理器能够执行本专利技术的方法，则方便自动控制基站高度测量，减少工作人员的工作量。9.本专利技术的非暂态计算机可读存储介质可存储计算机指令，且该计算机指令使计算机执行本专利技术的方法，方便自动控制。本专利技术的有益效果不限于此描述，为了更好的便于理解，在具体实施方式部分进行了更加详细的描述。本专利技术的附加优点、目的，以及特征将在下面的描述中将部分地加以阐述，且将对于本领域普通技术人员在研究下文后部分地变得明显，或者可以根据本专利技术的实践而获知。本专利技术的目的和其它优点可以通过在书面说明及其权利要求书以及附图中具体指出的结构实现到并获得。本领域技术人员将会理解的是，能够用本专利技术实现的目的和优点不限于以上具体所述，并且根据以下详细说明将更清楚地理解本专利技术能够实现的上述和其他目的。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术的基站高度测量方法的流程示意图；图2是本专利技术实施例1中提供的基站高度测量原理示意图；图3是本专利技术实施例2中提供的基站高度测量原理示意图；图4是本专利技术实施例3中提供的基站高度测量原理示意图；图5是本专利技术的装置的结构示意图图中：本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基站高度测量方法，其特征在于：包括如下步骤：/nS1：取长度为m的参考物(1)放置于待测基站(2)的中心线上，使参考物保持竖直；/nS2：依次测量基站(2)的顶部倾角α、参考物(1)的顶部倾角β、参考物(1)的底部倾角γ、基站(2)的底部倾角θ；测量时，取相对于水平面朝上的方向为正方向；/nS3：根据公式h＝m(tanα-tanθ)/(tanβ-tanγ)，计算得到基站(2)高度h。/n

【技术特征摘要】
1.一种基站高度测量方法，其特征在于：包括如下步骤：
S1：取长度为m的参考物(1)放置于待测基站(2)的中心线上，使参考物保持竖直；
S2：依次测量基站(2)的顶部倾角α、参考物(1)的顶部倾角β、参考物(1)的底部倾角γ、基站(2)的底部倾角θ；测量时，取相对于水平面朝上的方向为正方向；
S3：根据公式h＝m(tanα-tanθ)/(tanβ-tanγ)，计算得到基站(2)高度h。


2.权利要求1所述的一种基站高度测量方法，其特征在于：
在步骤S1中，参考物(1)的底部与待测基站(2)的底部位于同一水平面上，
基站(2)高度h＝m(tanα-tanγ)/(tanβ-tanγ)。


3.权利要求2所述的一种基站高度测量方法，其特征在于：
在步骤S2中，测量点的位置高于参考物(1)的顶部，
基站(2)高度h＝m[tanα+tan(-γ)]/[tan(-γ)-tan(-β)]。


4.权利要求1所述的一种基站高度测量方法，其特征在于：
在步骤S2中，分别多次测量基站(2)的顶部倾角α、参考物(1)的顶部倾角β、参考物(1)的底部倾角γ、基站(2)的底部倾角θ，再取平均值。


5.一种基站高度测量装置，其特征在于：包括参考物，参考物(1)放置于待测基站(2)的中心线上；...

【专利技术属性】
技术研发人员：兰宇时，任柏松，刘斌，王通，陈奇柏，赵姗姗，杜敏，
申请(专利权)人：兰宇时，
类型：发明
国别省市：河北;13