转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备制造技术

技术编号:22524476 阅读:24 留言:0更新日期:2019-11-13 03:49
提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质,所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性,所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。

Transfers, laminations, sheet transfers, their applications and equipment for their use

The invention provides a transfer article, a laminated film, a sheet transfer article, an application thereof and a device for using the same. The transfer material has a substrate and a plurality of micro solid substances transferred on the surface of the substrate. The arrangement pattern of the micro solid substances has periodicity along the length direction of the substrate. The defect rate of the micro solid substances is less than 1% relative to the total number of the micro solid substances.

【技术实现步骤摘要】
转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备本申请是原申请的申请日为2015年10月28日、申请号为201580055670.6、专利技术名称为《压花膜、片状膜、转印物以及压花膜的制造方法》的中国专利申请的分案申请。
本专利技术涉及压花膜、片状膜、转印物以及压花膜的制造方法。
技术介绍
近年来,具有各种平面形状的凹凸结构的压花膜被开发和使用。作为这样的压花膜的制作方法,例如可举出:使用压模原盘(原盤),在片状的被转印膜上形成凹凸结构的方法。具体而言,制作压模原盘,该压模原盘在平板状基板的表面(转印面)上形成了要形成于膜的凹凸结构的反向形状,将该压模原盘向被转印膜按压,从而将压模原盘的转印面的形状转印至被转印膜。通过将这样的转印反复实施,能够制作在片状的被转印膜的几乎全部区域形成有所希望的凹凸结构的压花膜。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2009-258751号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而,就使用上述压模原盘制作压花膜的方法而言,难以准确地控制压模原盘对于被转印膜的按压位置。因此存在如下问题:通过压模原盘的一次转印形成的凹凸结构的排列图案与通过下一次转印形成的凹凸结构的排列图案之间产生错位。此外,就压模原盘而言,随着反复进行转印,压模原盘的凸部磨损、或者凹部被剥离的膜填埋的可能性变高。因此存在如下问题:制作的压花膜的面积越大,凹凸结构向被转印膜的转印性越下降,转印的凹凸结构的缺损频率越高。另外,专利文献1中公开了如下方法:利用使用了圆筒或圆柱形原盘的辊对辊方式,制作具有可见光波长以下的周期的蛾眼结构的膜等。然而,专利文献1中公开的技术的目的是形成以可见光波长以下的周期形成的凹凸结构(例如,1μm以下),因此并没有有助于解决上述问题。因此,本专利技术鉴于上述问题而做出的,本专利技术的目的在于,提供被转印膜中的凹部的缺损频率更少、新型且改良的压花膜,将该压花膜切断而成的片状膜,利用该压花膜的转印物,以及该压花膜的制造方法。用于解决课题的方法为了解决上述课题,根据本专利技术的某一观点,提供一种压花膜,其具备膜主体和在上述膜主体的表面形成的多个凹部,上述凹部的开口面的直径大于可见光波长,上述凹部的排列图案具有沿着上述膜主体的长度方向的周期性,上述膜主体的一个端部中的凹部的缺损率与上述膜主体的另一个端部中的凹部的缺损率之差为10ppm以下。上述凹部的缺损率可以基于上述排列图案的一个周期中的相同排列图案所对应的区域的凹部来算出。上述膜主体可以为长膜。形成于上述膜主体的上述凹部可以分别具有大致相同形状。上述凹部的排列图案可以为格子形状。上述凹部的数密度可以为50000000个/cm2以下。上述膜主体在包括上述凹部内的表面的至少一部分具备由无机化合物形成的被覆层。上述膜主体可以由固化性树脂或可塑性树脂形成。此外,为了解决上述课题,根据本专利技术的另一个观点,提供一种片状膜,其是将上述记载的压花膜切断成多张而形成的。此外,为了解决上述课题,根据本专利技术的再另一个观点,提供一种转印物,其是使用上述记载的压花膜或片状膜,在对应于上述排列图案的位置上转印微小固体物质而成的。进一步,为了解决上述课题,根据本专利技术的再另一个观点,提供一种压花膜的制造方法,包括在圆筒或圆柱形状的原盘的周面形成多个凸部的步骤,以及对于被转印膜,一边旋转上述原盘一边按压,将对应于上述原盘的周面形状的凹部转印到上述被转印膜来制作膜主体的步骤;上述凹部的开口面的直径大于可见光波长,上述膜主体的一个端部中的凹部的缺损率与上述膜主体的另一个端部中的凹部的缺损率之差为10ppm以下。专利技术效果如以上说明的那样,根据本专利技术,在将具有直径大于可见光波长的开口面的凹部形成于膜时,能够减小膜的一个端部中的凹部的缺损率与另一个端部中的凹部的缺损率之差。因此,即使在以大面积形成压花膜的情况下,也能够进一步减少凹部的缺损频率。附图说明图1为示意性地示出将本专利技术的一个实施方式涉及的压花膜沿厚度方向切断时的截面形状的截面图。图2为示出同一实施方式涉及的压花膜的凹部的排列图案的一个例子的俯视图。图3为示出用于形成图2中所示的压花膜的凹部的、圆筒形的原盘的一个例子的示意图。图4为示出用于说明同一实施方式涉及的压花膜的一个使用例的说明图。图5A为示意性地示出将使用了同一实施方式涉及的压花膜的转印物沿厚度方向切断时的截面形状的截面图。图5B为示出使用了同一实施方式涉及的压花膜的、转印物的平面状态的俯视图。图6为示出对于同一实施方式中使用的原盘描绘任意图案的曝光装置的构成的说明图。图7为示意性地示出制作同一实施方式涉及的压花膜的、转印装置的说明图。图8为同一实施方式涉及的压花膜的基于SEM的观察图像。图9为同一实施方式涉及的压花膜的基于SEM的观察图像。具体实施方式以下,一边参照附图,一边对本专利技术的优选实施方式进行详细说明。需要说明的是,在本说明书和附图中,对于实质上具有相同功能构成的构成要素,给予相同符号而省略重复说明。<1.压花膜>[1.1.压花膜的结构]首先,参照图1和图2,对于本专利技术的一个实施方式涉及的压花膜的结构进行说明。图1为示意性地示出将本实施方式涉及的压花膜1沿厚度方向切断时的截面形状的截面图。如图1所示,本实施方式涉及的压花膜1具有膜主体10、以及在膜主体10的表面形成的多个凸部11和凹部13。在此,压花膜1的层叠结构并不限于图1所示的结构。例如,压花膜1可以形成为多个树脂层层叠而成的层叠体。例如,压花膜1可以具有如下结构:在膜主体10的与形成有凸部11和凹部13的表面相反的表面,层叠有由树脂等形成的支持体(未图示)。支持体可以由任意树脂形成,例如可以由PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)树脂等形成。膜主体10由具有固化性或可塑性的树脂形成。膜主体10只要是具有固化性或可塑性的树脂,则可以使用公知的任意树脂。具体而言,膜主体10可以由作为固化性树脂的光固化性树脂、热固性树脂形成,也可以由作为可塑性树脂的热塑性树脂(更详细而言为通过热而熔融的结晶性树脂)形成。另外,具有固化性或可塑性的树脂也可以与其它的膜形成材料混合。在膜主体10由热塑性树脂形成的情况下,例如可以通过在将膜主体10加热,使其软化后,按压圆筒或圆柱形原盘,从而将形成于原盘表面的凹凸结构转印至膜主体10。此外,在膜主体10由光固化性树脂形成的情况下,例如可以通过在支持体上涂布光固化性树脂,一边按压圆筒或圆柱形原盘一边照射光使光固化性树脂固化,从而将形成于原盘表面的凹凸结构转印至膜主体10。膜主体10的厚度没有特别限定,例如可以为8μm以上200μm以下。此外,在压花膜1被形成为支持体与膜主体10的层叠体的情况下,压花膜1整体的厚度没有特别限定,例如可以为10μm以上300μm以下。这样的情况下,膜主体10的厚度可以为1μm以上50μm以下,仅支持体的厚度可以为9μm以上250μm以下。凸部11和凹部13是形成于膜主体10上的凹凸结构。其中,凸部11和凹部13的平面和截面形状为任意形状,凸部11和凹部13的平面形状的大小可以形成为大于可见光波长。具体而言,凹部13形成为开口面的直径大于可见光波长。另外,在凹部13的开口面的形状不是圆形的情况(多边形等的情况)下,凹部13形成为开口面的形状的外切圆的直径本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印物,其具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质,所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性,所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。

【技术特征摘要】
2014.10.28 JP 2014-219753;2015.10.23 JP 2015-209371.一种转印物,其具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质,所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性,所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。2.根据权利要求1所述的转印物,在距离所述基材的一个端部为所述微小固体物质的转印所使用的膜的全长的0.67%、20%和100%的全部位置,所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。3.根据权利要求1所述的转印物,所述微小固体物质的总数为排列成所述排列图案的所述微小固体物质中没有缺损的情况下所述微小固体物质的个数。4.一种转印物,其具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质,所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性,所述微小固体物质的不良率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。5.根据权利要求4所述的转印物,在距离所述基材的一个端部为所述微小固体物质的转印所使用的膜的全长的1/150、30/150和150/150的全部位置,所述微小固体物质的不良率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。6.根据权利要求4所述的转印物,在距离所述基材的一个端部为1m、30m、150m的全部位置,所述微小固体物质的不良率相对于所述微小固体物质的总数小于1%。7.根据权利要求5所述的转印物,所述微小固体物质的总数为排列成所述排列图案的所述微小固体物质中没有不良的情况下所述微小固体物质的个数。8...

【专利技术属性】
技术研发人员:村本穰菊池正尚
申请(专利权)人:迪睿合株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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