还原炉制造技术

技术编号:22514363 阅读:69 留言:0更新日期:2019-11-09 07:37
本实用新型专利技术公开了一种还原炉,涉及多晶硅生产技术领域,主要目的是提供一种能够使连续生产多晶硅的还原炉。本实用新型专利技术的主要技术方案为:一种还原炉,包括:底盘,底盘上具有电极,电极连接于发热体,发热体用于沉淀多晶硅棒;罩体,罩体的一端连接于底盘,另一端朝向地面的方向延伸;集液部,集液部设置在罩体的另一端,集液部包括壳体、第一阀门、第二阀门和加热部件,第一阀门的一端连接于罩体,另一端连接于壳体的一侧,第二阀门设置在壳体的另一侧,加热部件设置在壳体的外部,用于加热壳体;装载部,装载部设置在集液部的下部,并且靠近第二阀门,用于装载集液部排出的多晶硅。本实用新型专利技术主要用于生产多晶硅。

Reduction furnace

The utility model discloses a reduction furnace, which relates to the technical field of polysilicon production, and the main purpose is to provide a reduction furnace capable of continuously producing polysilicon. The main technical scheme of the utility model is: a reduction furnace, which comprises a chassis, on which there is an electrode, the electrode is connected to the heating body, and the heating body is used to precipitate the polysilicon rod; the cover body, one end of the cover body is connected to the chassis, and the other end is extended towards the ground; the liquid collection part and the liquid collection part are arranged at the other end of the cover body, and the liquid collection part includes a shell, a first valve and a second valve One end of the first valve is connected with the cover, the other end is connected with one side of the shell, the second valve is arranged on the other side of the shell, and the heating part is arranged on the outside of the shell for heating the shell; the loading part is arranged on the lower part of the liquid collecting part, and is close to the second valve for loading the polysilicon discharged from the liquid collecting part. The utility model is mainly used for producing polysilicon.

【技术实现步骤摘要】
还原炉
本技术涉及多晶硅生产
,尤其涉及一种还原炉。
技术介绍
随着社会的快速发展,光伏领域得到越来越多的人的重视,而单晶硅成为太阳能电池板的主要材料。制作硅的过程中,需要通过还原炉对硅料进行加热,通常情况下,会在还原炉内设置硅芯,通过高压对硅芯进行击穿以及加热,使硅芯作为发热体进行多晶硅生长,多晶硅沉淀在发热的硅芯上,逐渐形成硅棒。但是,由于硅芯在使用时必须先进行高压击穿,使得对还原炉的电极以及其他电气设备的要求较高,并且,硅芯的直径较小,生产周期较长,使硅芯的成本增加,同时,在硅棒生产的前期多晶硅的沉淀速度较慢,使还原炉的生产周期增加,不仅增加了硅棒生产的能源消耗,同时还增加了硅棒的生产成本,并且,当硅棒的直径合适后,需要进行停炉,将硅芯上的硅棒取下,从而导致还原炉不能够进行连续生产,增加了非在产的时间,同时,在还原炉内生长的多晶硅经常会出现倒炉、接地等异常问题。
技术实现思路
有鉴于此,本技术实施例提供一种还原炉,主要目的是提供一种能够使连续生产多晶硅的还原炉。为达到上述目的,本技术主要提供如下技术方案:本技术实施例提供了一种还原炉,包括:底盘,所述底盘上具有电极,所述电极连接于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种还原炉,其特征在于,包括:底盘,所述底盘上具有电极,所述电极连接于发热体,所述发热体用于沉淀多晶硅棒;罩体,所述罩体的一端连接于所述底盘,另一端朝向地面的方向延伸;集液部,所述集液部设置在所述罩体的另一端,所述集液部包括壳体、第一阀门、第二阀门和加热部件,所述第一阀门的一端连接于所述罩体,另一端连接于所述壳体的一侧,所述第二阀门设置在所述壳体的另一侧,所述加热部件设置在所述壳体的外部,用于加热所述壳体;装载部,所述装载部设置在所述集液部的下部,并且靠近所述第二阀门,用于装载所述集液部排出的多晶硅。

【技术特征摘要】
1.一种还原炉,其特征在于,包括:底盘,所述底盘上具有电极,所述电极连接于发热体,所述发热体用于沉淀多晶硅棒;罩体,所述罩体的一端连接于所述底盘,另一端朝向地面的方向延伸;集液部,所述集液部设置在所述罩体的另一端,所述集液部包括壳体、第一阀门、第二阀门和加热部件,所述第一阀门的一端连接于所述罩体,另一端连接于所述壳体的一侧,所述第二阀门设置在所述壳体的另一侧,所述加热部件设置在所述壳体的外部,用于加热所述壳体;装载部,所述装载部设置在所述集液部的下部,并且靠近所述第二阀门,用于装载所述集液部排出的多晶硅。2.根据权利要求1所述的还原炉,其特征在于,所述罩体具有连接体和延伸体,连接体的一端连接于所述底盘,另一端固定连接于所述延伸体,所述集液部连接于所述延伸体,其中,所述延伸体的形状为半球体或者圆锥体。3....

【专利技术属性】
技术研发人员:李涛陈文吉
申请(专利权)人:新疆大全新能源股份有限公司
类型:新型
国别省市:新疆,65

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