一种硅片抛光用废料回收装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片抛光用废料回收装置，包括设备撑架、废料筒、集料漏斗和排废漏斗，设备撑架的中部螺丝固定有废料筒，废料筒的上方设有集料漏斗，废料筒与集料漏斗之间连接有颈管，颈管内设有空腔，空腔内设有拨料盘，颈管通过转轴与拨料盘转动连接，颈管的外侧螺丝固定有伺服电机，伺服电机的输出端穿过颈管外壁与拨料盘焊接，拨料盘的曲面上等距分布有四个凹槽，本实用新型专利技术通过设置风管、离子风机和废料筒，可在装置内部形成旋风，气流沿废料筒内壁旋转上升，正负电荷可消除废料筒内壁的静电，使得抛光碎屑不会粘附在废料筒内壁上，多个泄压管可有效将高压气体排出，泄压管管口远离废料筒内壁，可避免抛光废料被离心力甩出。

A waste recycling device for wafer polishing

The utility model discloses a waste recycling device for silicon wafer polishing, which comprises a device bracket, a waste cylinder, an aggregate funnel and a waste discharge funnel. The middle screw of the device bracket is fixed with a waste cylinder, the upper part of the waste cylinder is provided with an aggregate funnel, a neck pipe is connected between the waste cylinder and the aggregate funnel, a cavity is arranged in the neck pipe, and a material shifting disc is arranged in the cavity, and the neck pipe is rotated with the material shifting disc through a rotating shaft The output end of the servo motor passes through the outer wall of the neck pipe and is welded with the material shifting plate. Four grooves are equally distributed on the curved surface of the material shifting plate. The utility model can form a cyclone inside the device by setting the air pipe, the ion fan and the waste cylinder, and the air flow rotates and rises along the inner wall of the waste cylinder, and the positive and negative charges can eliminate the static of the inner wall of the waste cylinder Electricity, so that polishing debris will not adhere to the inner wall of the waste drum, multiple pressure relief pipes can effectively discharge the high-pressure gas, the pressure relief pipe orifice is far away from the inner wall of the waste drum, which can avoid polishing waste being thrown out by centrifugal force.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片抛光用废料回收装置
本技术涉及废料回收装置，特别涉及一种硅片抛光用废料回收装置，属于废料回收设备

技术介绍
硅片是制作晶体管和集成电路的原料，一般是单晶硅的切片，硅片是制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成各种半导体器件，硅片生产过程中需要进行抛光作业，为节省单晶硅资源，避免生产污染，需要对硅片抛光废料进行收集，硅片抛光废料为细小碎屑，且抛光碎屑具有一定电荷，极易粘附在废料回收装置内壁上，这使得抛光废料难以清除完全，给废料的回收工作带来了不便，且自带电荷的废料给废料加工流程也带来了不便。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的缺陷而提供通过设置风管、离子风机、泄压管、拨料盘和废料筒，解决了抛光碎屑具有一定电荷，极易粘附在废料回收装置内壁上，这使得抛光废料难以清除完全，给废料的回收工作带来了极大不便的问题。实现上述目的的技术方案是：一种硅片抛光用废料回收装置，包括设备撑架、废料筒、集料漏斗和排废漏斗，所述设备撑架的中部螺丝固定有废料筒，所述废料筒的上方设有集料漏斗，所述废料筒与集料漏斗之间连接有颈管，所述颈管内设有空腔，所述空腔内设有拨料盘，所述颈管通过转轴与拨料盘转动连接，所述颈管的外侧螺丝固定有伺服电机，所述伺服电机的输出端穿过颈管外壁与拨料盘焊接，所述拨料盘的曲面上等距分布有四个凹槽，所述废料筒的下端焊接有排废漏斗，所述排废漏斗的下侧焊接有废料管，所述废料管固定安装有废料阀，所述设备撑架的上侧且位于废料筒的一侧螺丝固定有离子风机，所述离子风机的输出端套有风管，所述风管远离离子风机的一端插入废料筒内，所述废料筒的外壁嵌设有若干泄压管，所述泄压管位于废料筒内的一端固定安装有过滤网。作为本技术的一种优选技术方案，若干所述泄压管均位于废料筒的上端。作为本技术的一种优选技术方案，所述风管与废料筒内壁相切。作为本技术的一种优选技术方案，所述离子风机为SL-028型号的离子风机。作为本技术的一种优选技术方案，所述伺服电机和离子风机均通过导线连接有电源。本技术的有益效果是：本技术通过设置风管、离子风机和废料筒，可在装置内部形成旋风，气流沿废料筒内壁旋转上升，正负电荷可消除废料筒内壁的静电，使得抛光碎屑不会粘附在废料筒内壁上，多个泄压管可有效将高压气体排出，泄压管管口远离废料筒内壁，可避免抛光废料被离心力甩出，凹槽可不断填装进料，拨料盘曲面与空腔内壁紧密贴合，具有密封作用，解决了抛光废料容易粘附储筒内壁的问题，且本硅片抛光用废料回收装置可消除抛光废料本身的静电，可方便抛光废料的加工流程。附图说明图1是本技术的外观图；图2是本技术的结构剖视图；图3是图2的A处放大图。图中：1、设备撑架；2、废料筒；3、集料漏斗；4、控制面板；5、排废漏斗；6、废料管；7、废料阀；8、颈管；9、伺服电机；10、空腔；11、拨料盘；12、凹槽；13、泄压管；14、过滤网；15、离子风机；16、风管。具体实施方式下面将结合附图对本技术作进一步说明。如图1-3所示，本技术提供一种硅片抛光用废料回收装置，包括设备撑架1、废料筒2、集料漏斗3和排废漏斗5，设备撑架1的中部螺丝固定有废料筒2，废料筒2的上方设有集料漏斗3，废料筒2与集料漏斗3之间连接有颈管8，颈管8内设有空腔10，空腔10内设有拨料盘11，颈管8通过转轴与拨料盘11转动连接，颈管8的外侧螺丝固定有伺服电机9，伺服电机9的输出端穿过颈管8外壁与拨料盘11焊接，拨料盘11的曲面上等距分布有四个凹槽12，废料筒2的下端焊接有排废漏斗5，排废漏斗5的下侧焊接有废料管6，废料管6固定安装有废料阀7，设备撑架1的上侧且位于废料筒2的一侧螺丝固定有离子风机15，离子风机15的输出端套有风管16，风管16远离离子风机15的一端插入废料筒2内，废料筒2的外侧螺丝固定有控制面板4，废料筒2的外壁嵌设有若干泄压管13，泄压管13位于废料筒2内的一端固定安装有过滤网14。若干泄压管13均位于废料筒2的上端，便于排气，风管16与废料筒2内壁相切，使得废料筒2内可形成旋风，离子风机15为SL-028型号的离子风机15，带有正负电荷的气流具有消除静电的作用，伺服电机9和离子风机15均通过导线连接有电源，确保装置可以正常运行。具体的，在使用时，启动伺服电机9，可驱动拨料盘11转动，抛光废料从集料漏斗3内壁滑落至底部，可落入空腔10内，四个凹槽12可以循环填装运输废料，当凹槽12开口向下时，废料将会进入废料筒2内，启动离子风机15，离子风机15内的风扇可驱动空气形成定向气流，离子风机15内的离子发生器可产生正负电荷，正负电荷可随气流进入废料筒2内，由于风管16与废料筒2内壁相切，气流进入废料筒2内后将会形成旋风，气流将会沿废料筒2内壁旋转上升，在此过程中，正负电荷可消除废料筒2内壁的静电，使得抛光碎屑不会粘附在废料筒2内壁上，随着废料筒2内气压不断升高，废料筒2内的高压气体将会从泄压管13排除，泄压管13管口远离废料筒2内壁，可避免抛光废料被离心力甩出，需要取出废料时，关闭离子风机15，废料筒2内的旋风风力将会不断减弱，最终可将抛光废料收卷至排废漏斗5的中部，此时打开废料阀7即可收料。本技术的有益效果是：本技术通过设置风管、离子风机和废料筒，可在装置内部形成旋风，气流沿废料筒内壁旋转上升，正负电荷可消除废料筒内壁的静电，使得抛光碎屑不会粘附在废料筒内壁上，多个泄压管可有效将高压气体排出，泄压管管口远离废料筒内壁，可避免抛光废料被离心力甩出，凹槽可不断填装进料，拨料盘曲面与空腔内壁紧密贴合，具有密封作用，解决了抛光废料容易粘附储筒内壁的问题，且本硅片抛光用废料回收装置可消除抛光废料本身的静电，可方便抛光废料的加工流程。以上实施例仅供说明本技术之用，而非对本技术的限制，有关
的技术人员，在不脱离本技术的精神和范围的情况下，还可以作出各种变换或变型，因此所有等同的技术方案也应该属于本技术的范畴，应由各权利要求所限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片抛光用废料回收装置，包括设备撑架(1)、废料筒(2)、集料漏斗(3)和排废漏斗(5)，其特征在于，所述设备撑架(1)的中部螺丝固定有废料筒(2)，所述废料筒(2)的上方设有集料漏斗(3)，所述废料筒(2)与集料漏斗(3)之间连接有颈管(8)，所述颈管(8)内设有空腔(10)，所述空腔(10)内设有拨料盘(11)，所述颈管(8)通过转轴与拨料盘(11)转动连接，所述颈管(8)的外侧螺丝固定有伺服电机(9)，所述伺服电机(9)的输出端穿过颈管(8)外壁与拨料盘(11)焊接，所述拨料盘(11)的曲面上等距分布有四个凹槽(12)，所述废料筒(2)的下端焊接有排废漏斗(5)，所述排废漏斗(5)的下侧焊接有废料管(6)，所述废料管(6)固定安装有废料阀(7)，所述设备撑架(1)的上侧且位于废料筒(2)的一侧螺丝固定有离子风机(15)，所述离子风机(15)的输出端套有风管(16)，所述风管(16)远离离子风机(15)的一端插入废料筒(2)内，所述废料筒(2)的外壁嵌设有若干泄压管(13)，所述泄压管(13)位于废料筒(2)内的一端固定安装有过滤网(14)。

【技术特征摘要】
1.一种硅片抛光用废料回收装置，包括设备撑架(1)、废料筒(2)、集料漏斗(3)和排废漏斗(5)，其特征在于，所述设备撑架(1)的中部螺丝固定有废料筒(2)，所述废料筒(2)的上方设有集料漏斗(3)，所述废料筒(2)与集料漏斗(3)之间连接有颈管(8)，所述颈管(8)内设有空腔(10)，所述空腔(10)内设有拨料盘(11)，所述颈管(8)通过转轴与拨料盘(11)转动连接，所述颈管(8)的外侧螺丝固定有伺服电机(9)，所述伺服电机(9)的输出端穿过颈管(8)外壁与拨料盘(11)焊接，所述拨料盘(11)的曲面上等距分布有四个凹槽(12)，所述废料筒(2)的下端焊接有排废漏斗(5)，所述排废漏斗(5)的下侧焊接有废料管(6)，所述废料管(6)固定安装有废料阀(7)，所述设备撑架(1)的上侧且位于废料筒(2)的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：张俊杰，
申请(专利权)人：上海合晶硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31