显示基板及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种显示基板及其制备方法，属于显示技术领域。本发明专利技术的一种显示基板，包括基底和设置在所述基底上的像素限定层，所述像素限定层具有多个容纳部；所述像素限定层包括沿背离基底方向依次设置的多层子限定层；对应同一容纳部的位置，每层所述子限定层都具有开口；其中，至少部分相邻两层所述子限定层的对应同一容纳部的开口尺寸不同。

Display substrate and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法
本专利技术属于显示
，具体涉及一种显示基板及其制备方法。
技术介绍
溶液法加工制作OLED(OrganicLight-EmittingDiode；有机发光二极管)以及QLED(QuantumDotLightEmittingDiodes；量子点发光器件)显示器，具有低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是显示技术发展的重要方向。其中，打印工艺被认为是实现OLED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。但是在制备高分辨率的QLED显示器件时，打印工艺常常受限于墨水材料、像素限定层的材料的影响，QLED器件的各膜层的成膜厚度不均匀，导致QLED器件的发光效率较低。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种显示器件的功能层的膜厚较为均匀的显示基板。解决本专利技术技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，包括基底和设置在所述基底上的像素限定层，所述像素限定层具有多个容纳部；所述像素限定层包括沿背离基底方向依次设置的多层子限定层；对应同一容纳部的位置，每层所述子限定层都具有开口；其中，至少部分相邻两层所述子限定层的对应同一容纳部的开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板，包括基底和设置在所述基底上的像素限定层，所述像素限定层具有多个容纳部；其特征在于，所述像素限定层包括沿背离基底方向依次设置的多层子限定层；对应同一容纳部的位置，每层所述子限定层都具有开口；其中，至少部分相邻两层所述子限定层的对应同一容纳部的开口尺寸不同。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板，包括基底和设置在所述基底上的像素限定层，所述像素限定层具有多个容纳部；其特征在于，所述像素限定层包括沿背离基底方向依次设置的多层子限定层；对应同一容纳部的位置，每层所述子限定层都具有开口；其中，至少部分相邻两层所述子限定层的对应同一容纳部的开口尺寸不同。2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，对应同一容纳部的位置处，奇数层的所述子限定层的开口尺寸相同，偶数层的所述子限定层的开口尺寸相同。3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，对应同一容纳部的位置处，奇数层的所述子限定层的开口尺寸大于偶数层的子限定层的开口尺寸。4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，相邻两层所述子限定层的材料不同。5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，奇数层的所述子限定层的材料相同；偶数层的所述子限定层的材料相同。6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，相邻两层所述子限定层中，一者具有亲液性，另一者具有疏液性。7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：张渊明，白宪伟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11