高精度基于压力的流量控制器制造技术

公开了一种质量流量控制器，其包括主体部分，该主体部分具有在其中形成的第一内部通道和至少第二内部通道，流量控制阀，该流量控制阀连接到该主体部分，并且与该第一和第二内部通道连通，至少一个压力变送器，将该压力变送器耦合到该主体部分，并且与该第一内部通道、第二内部通道和流量限制器中的至少一个连通，耦合到第二内部通道的非线性流量限制器，设置该非线性流量限制器以产生通过其中的高度压缩的层流，热传感器，该热传感器与该第一内部通道、第二内部通道和流量限制器中的至少一个连通，以及排气容器，该排气容器与该流量限制器连通。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求2002年8月28日申请的美国临时专利申请序列No.60/406511的优先权，因此，将该申请的全部内容在此合并作为参考。
技术介绍
多种制造过程都需要对流体的流速和流量的控制。例如，半导体制造过程需要将非常精确数量的流体(主要是气体)释放到处理室。在该制造过程期间，可能需要高达每分钟二十公升到低至每分钟几十分之一立方厘米(CCM)范围的流速。与此相适应，已经开发出了质量流量控制器，其测量并控制流体的流速，其中，流速测量是基于流体的热特性的。典型地，将这些热质量控制器用于监控在半导体器件的制造中使用的流体，如有毒的和高度活性的气体的流量。而且，在多种制造工序中，将不同的气体用在蚀刻和蒸汽沉积过程中。当暴露于环境大气条件时，这些气体可能对人有害，并且高度活性。此外，已经开发了多种流体质量流量控制器，它们通过测量穿过流量限制器或节流孔的压降操作。虽然已经证实了这些装置在测量和控制流量中有用，但是也认识到许多缺点。例如，现有技术的质量流量控制器在有限的流动范围上精确地控制流速，但是，当在更宽的动态范围上控制流体的流速时，则会引入控制误差。因此，已经认识到迫切需要几本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种质量流量控制器，包括：主体部分，该主体部分具有在其中形成的第一内部通道和至少第二内部通道；流量控制阀，该流量控制阀耦合到该主体部分，并且与该第一和第二内部通道连通；至少一个压力变送器，该压力变送器耦合到该主体部分 ，并且与该第一内部通道和第二内部通道中的至少一个连通；耦合到第二内部通道的非线性流量限制器，设置该非线性流量限制器以产生通过其中的高度压缩的层流；热传感器，该热传感器与该第一内部通道、该第二内部通道和该流量限制器中的至少一个 连通；以及排气容器，该排气容器与该流量限制器连通。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：DT穆德，WW怀特，
申请(专利权)人：霍里巴斯特克公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]