一种单向螺旋COF涂布滚轮制造技术

技术编号:22466489 阅读:54 留言:0更新日期:2019-11-06 10:25
本发明专利技术公开了一种单向螺旋COF涂布滚轮,包括将光刻胶带出的下涂布滚轮,以及用于转移下涂布滚轮上的光刻胶、并涂抹在COF基材的上涂布滚轮;所述上涂布滚轮上设有螺旋状沟槽。本发明专利技术有益技术效果:当光刻胶黏度降低时,上涂布滚轮上的螺旋状沟槽,实现光刻胶在产品上均匀涂布,降低在涂布光刻胶过程中产生的回流。

A kind of one-way spiral COF coating roller

【技术实现步骤摘要】
一种单向螺旋COF涂布滚轮
本专利技术涉及一种单向螺旋COF涂布滚轮,属于制备COF装置
技术背景COF——ChipOnFilm,一种覆晶薄膜。通过在由绝缘薄膜和金属层构成的COF基材上形成线路图案,在线路图案的规定区域进行电镀、设置阻焊剂等表面加工,然后再器件搭载区域搭载IC等电子元器件,形成COF产品,组装在其他电路板上使用。其中,在COF基材(40)的金属层上涂布一层光刻胶,其工作原理是:涂布单元中的下涂布滚轮(20)转动,将光刻胶从储存槽(30)带出,涂布单元中的上涂布滚轮(10)沿与下涂布滚轮(20)相反的方向转动,光刻胶从下涂布滚轮(10)传递到上涂布滚轮(20),然后通过一定的压力,使光刻胶附着在COF基材(40)的金属层表面,形成一层均匀的光刻胶薄膜,用以加工形成线路。如图1所示。在现有的技术中,为了能涂布一层均匀的光刻胶,如图2所示,通常会在涂布单元的上涂布滚轮(10)上设置具有一定间隔排列的沟槽(11),涂布单元转动时,光刻胶带出充满上涂布滚轮(10)的沟槽(11)后,进行光刻胶涂布。从而达到光刻胶涂布在产品上时,光刻胶在COF基材(40)的金属层上形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种单向螺旋COF涂布滚轮,包括将光刻胶带出的下涂布滚轮(20),以及用于转移下涂布滚轮(20)上的光刻胶、并涂抹在COF基材(40)的上涂布滚轮(10);其特征在于:所述上涂布滚轮(10)上设有螺旋状沟槽(11)。

【技术特征摘要】
1.一种单向螺旋COF涂布滚轮,包括将光刻胶带出的下涂布滚轮(20),以及用于转移下涂布滚轮(20)上的光刻胶、并涂抹在COF基材(40)的上涂布滚轮(10);其特征在于:所述上涂布滚轮(10)上设有螺旋状沟槽(11)。2.根据权利要求1所述的一种单向螺旋COF涂布滚轮,其特征在于:所述螺旋状沟槽(11)为左螺旋状沟槽或右螺旋状沟槽。3.根据权利要求1或2所述的一种单向螺旋COF涂布滚轮,其特征在于:所述螺...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶新智王健杨洁孙彬沈洪李晓华
申请(专利权)人:江苏上达电子有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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