【技术实现步骤摘要】
一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵
本专利技术属于太赫兹波调控
,具体涉及一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵,特别涉及一种以液晶材料为调谐单元,基于数字和可编程超材料(也称为超表面、超构材料、超构表面、人工电磁媒质)的太赫兹天线阵的制备和应用。
技术介绍
太赫兹技术在过去二十多年得到飞速发展,在成像、生物医学、高速无线通信、国防安全等领域都展现出巨大的应用潜力。其中在太赫兹通信和雷达成像等领域,高效率、大扫描范围的波束调控器件必不可少。但是,相比于微波波段有较成熟半导体移相器和铁氧体移相器,在太赫兹波段缺少调谐性能强的材料,且材料损耗高和寄生电容大等因素,导致太赫兹频段波束调控的器件较为缺乏。最近十多年,基于液晶、石墨烯、氧化钒等可调谐材料和太赫兹超材料的相位调控器件得到了迅速发展。这类器件对太赫兹波的相移调控范围通常较小,插入损耗较大,导致太赫兹波束调控效率较低。
技术实现思路
本专利技术提供了一种以液晶材料为调谐单元,基于数字和可编程超材料的太赫兹天线阵的制备、表征和编码控制方法,提出了一种新型的太赫兹波段液晶数字和可编程超材料天线阵,为太赫兹空间波束的主动调控提供了一种方法。为实现上述专利技术目的,本专利技术采用的第一部分技术方案是一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵,其特征在于,包括上层石英衬底、下层石英衬底,生长在所述上层石英衬底上的金属超材料结构,生长在所述下层石英衬底上的金属接地面结构及所述金属超材料结构和金属接地面结构间封住的液晶材料。进一步的,所述液晶材料的电磁介电常数特性随金属超材料结构和金属接地面结构上施加的偏置电压 ...
【技术保护点】
1.一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵,其特征在于,包括上层石英衬底、下层石英衬底,生长在所述上层石英衬底上的金属超材料结构,生长在所述下层石英衬底上的金属接地面结构及所述金属超材料结构和金属接地面结构间封住的液晶材料。
【技术特征摘要】
1.一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵,其特征在于,包括上层石英衬底、下层石英衬底,生长在所述上层石英衬底上的金属超材料结构,生长在所述下层石英衬底上的金属接地面结构及所述金属超材料结构和金属接地面结构间封住的液晶材料。2.根据权利要求1所述一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵,其特征在于,所述液晶材料的电磁介电常数特性随金属超材料结构和金属接地面结构上施加的偏置电压而改变。3.根据权利要求1所述一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵,其特征在于,所述上层石英衬底的厚度为300微米,下层石英衬底的厚度为500微米。4.如权利要求1所述一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)衬底预处理:清洗上层石英衬底和下层石英衬底并烘干;(2)光刻胶旋涂:分别在上层石英衬底和下层石英衬底的表面旋涂两层光刻胶LOR10b和AZ1500并烘干;(3)衬底光刻:在光刻机上放置涂好光刻胶的上层石英衬底和掩模板并对准,所使用掩膜版的结构为超材料金属结构,曝光完以后用正胶显影液进行显影,然后进行后烘,之后在光刻机上选择金属接地面结构的掩膜版区域,对下层石英衬底重复步骤光刻显影操作;(4)金属溅射与剥离:使用磁控溅射仪器,在所述步骤(3)操作后的上层石英衬底和下层石英衬底上分别溅射一层金属,对溅射完成的衬底在有机溶液中剥离,去除剩余的光刻胶得到在上层石英衬底上生长的金属超材料结构与下层石英衬底上生长的金属接地面结构;(5)上层电极转移:在上层石英衬底未转移金属超材料结构的另一面重复所述步骤(3)和步骤(4)中的光刻、显影、溅射、剥离操作,使得在该面生长出上层金属电极;(6)紫外光取向处理:在所述步骤(4)完成后的所述金属超材料结构与金属接地面结构的表面分别旋涂一层液晶取向剂并烘干处理,之后对所述表面采用紫外光照射并再次加热烘干;(7)制作液晶盒并灌注液晶:将所述步骤(6)处理完成后的金属超材料结构与金属接地面结构相对放置,中间采用麦拉膜作为间隔,使用塑料夹将所述上层石英衬底和下层石英衬底夹紧后在麦拉膜两边涂上环氧树脂胶,待所述环氧树脂胶固化后灌注液晶。5.根据权利要求4所述一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,在所述上层石英衬底和下层石英衬底上,先旋涂第一层光刻胶LOR10b,预转速600rpm,稳定转速4000rpm,预转速和稳定转速的时间分别为6秒和40秒,烘烤温度为150℃,时间为5分钟;再旋涂第二层光刻胶AZ1500,预转速600rpm,稳定转速4000rpm,预转速和稳定转速的时间分别为6秒和40秒,烘烤温度为90℃,时间为5分钟。6.根据权利要求4所述一种用于太赫兹波束调控的液晶超材料天线阵的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中,在所述上层石英衬底和下层石英衬底上,利用光刻机对所述光刻胶LOR10b与AZ1500进行曝光,时间为18秒,曝光完以后用正胶显影液进行显影,时间为14秒,然...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴敬波,沈泽,陈本纹,王涛锋,金飚兵,张彩虹,陈健,吴培亨,
申请(专利权)人:南京大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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