【技术实现步骤摘要】
一种衬底的对位孔的定位装置
本技术涉及光刻
，具体是一种衬底的对位孔的定位装置。
技术介绍
光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可用于包括制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。直写光刻技术以替代传统的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。在采用光刻技术对半导体及PCB印刷具有特征的构图前，需要确定相关构图在衬底表面上的位置，这通常是通过在衬底上设置对位孔来确定构图在衬底上的位置，现有技术中有较多确定对位孔位置的设备，然而随着行业对光刻技术的精度提出了更高的要求，研发一种能够设置高精度的对位孔的设备很有必要。
技术实现思路
本技术旨在提供一种衬底的对位孔的定位装置，能够实现对位孔的高精度定位，从而确保光刻工艺中衬底表面上印刷的构图的位置准确度高，使得对位孔能够实现对衬底表面上印刷的构图的高精度定位。其技术方案是这样的：一种衬底的对位孔的定位装置，包括定位机构，其特征在于：所述定位机构包括顺序设置的光源、准直镜头、光栅，所述...
【技术保护点】
1.一种衬底的对位孔的定位装置，包括定位机构，其特征在于：所述定位机构包括顺序设置的光源、准直镜头、光栅，所述光栅的后侧设置有衬底，所述衬底上涂有光刻胶，从所述光源产生的光斑经过所述准直镜头折射为若干平行光束投射到所述光栅上，所述光栅上设有至少三个透光孔，所述透光孔能够确定一个圆，光束分别透过每个透光孔照射到涂有光刻胶的衬底上且在衬底上对应留下一个光刻标记，所述光刻标记用于确定对位孔的位置，以所述光刻标记确定的圆的圆心作为对位孔的圆心在衬底上设置对位孔。
【技术特征摘要】
1.一种衬底的对位孔的定位装置，包括定位机构，其特征在于：所述定位机构包括顺序设置的光源、准直镜头、光栅，所述光栅的后侧设置有衬底，所述衬底上涂有光刻胶，从所述光源产生的光斑经过所述准直镜头折射为若干平行光束投射到所述光栅上，所述光栅上设有至少三个透光孔，所述透光孔能够确定一个圆，光束分别透过每个透光孔照射到涂有光刻胶的衬底上且在衬底上对应留下一个光刻标记，所述光刻标记用于确定对位孔的位置，以所述光刻标记确定的圆的圆心作为对位孔的圆心在衬底上设置对位孔。...
【专利技术属性】
技术研发人员：张柯，张雷，李伟成，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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