显示用基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术实施例提供一种显示用基板及其制备方法、显示面板，涉及显示技术领域，可以降低第一电极与薄膜晶体管的漏极的接触电阻。显示用基板的制备方法包括：在第一衬底上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的漏极包括金属层；在所述薄膜晶体管上形成钝化层薄膜，利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀，在所述钝化层薄膜上形成露出所述漏极的第一过孔，以形成钝化层；所述干法刻蚀的气体包括氧气，所述金属层露出于所述第一过孔的表面被氧化形成氧化层；利用酸溶液去除所述氧化层；形成第一电极，所述第一电极穿过所述第一过孔与所述漏极电连接。

Substrate for display and its preparation method and display panel

【技术实现步骤摘要】
显示用基板及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示用基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
近年来，随着显示技术的快速发展，各种类型的显示装置逐渐进入市场。例如液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)、电致发光显示装置等。其中，电致发光显示装置包括有机电致发光(OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)显示装置和量子点电致发光(QuantumDotLight-EmittingDiode，简称QLED)显示装置。以电致发光显示装置为OLED显示装置为例，OLED显示装置包括PMOLED(Passive-matrixorganiclightemittingdiode，被动式有机电致发光二极管)显示装置和AMOLED(Active-matrixorganiclightemittingdiode，主动驱动式有机电致发光二极管，也称有源矩阵有机电致发光二极管)显示装置。由于AMOLED显示装置具有驱动电压低，反应速度快等优点，因而AMOLED显示装置成为目前OLED显示装置的发展趋势。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示用基板及其制备方法、显示面板，可以降低第一电极与薄膜晶体管的漏极的接触电阻。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种显示用基板的制备方法，包括：在第一衬底上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的漏极包括金属层；在所述薄膜晶体管上形成钝化层薄膜，利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀，在所述钝化层薄膜上形成露出所述漏极的第一过孔，以形成钝化层；所述干法刻蚀的气体包括氧气，所述金属层露出于所述第一过孔的表面被氧化形成氧化层；利用酸溶液去除所述氧化层；形成第一电极，所述第一电极穿过所述第一过孔与所述漏极电连接。在一些实施例中，所述金属层包括：依次层叠设置在所述第一衬底上的第一钛层、铝层和第二钛层。在一些实施例中，所述显示用基板的制备方法还包括：利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀的同时，利用所述干法刻蚀将所述第二钛层中露出于所述第一过孔的部分全部刻蚀掉。在一些实施例中，所述显示用基板的制备方法还包括：利用酸溶液去除所述氧化层的同时，利用所述酸溶液将所述第二钛层中露出于所述第一过孔的部分全部去除掉。在一些实施例中，所述显示用基板的制备方法还包括：利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀的同时，利用干法刻蚀对所述第二钛层中露出于所述第一过孔的部分进行减薄。在一些实施例中，在所述形成钝化层之后，在所述利用酸溶液去除所述氧化层之前，所述显示用基板的制备方法还包括：在所述钝化层上形成平坦层，所述平坦层包括第二过孔；所述第二过孔与所述第一过孔具有重叠区域，以露出所述漏极。在一些实施例中，所述酸溶液为氢氟酸。在一些实施例中，在所述形成第一电极之后，所述显示用基板的制备方法还包括：在所述第一电极上依次形成发光功能层和第二电极。第二方面，提供一种显示用基板，包括依次设置在第一衬底上的薄膜晶体管、钝化层以及第一电极；所述第一电极穿过所述钝化层上的第一过孔与所述薄膜晶体管的漏极电连接；所述漏极包括金属层；所述金属层远离所述第一衬底的表面，且与所述第一电极接触位置处不包括氧化层；所述第一电极与所述金属层接触，所述金属层中与所述第一电极接触位置处的厚度小于其它位置处的厚度。在一些实施例中，所述金属层包括依次层叠设置在所述第一衬底上的第一钛层、铝层和第二钛层。在一些实施例中，所述第二钛层在所述第一过孔处镂空，所述第一电极与所述金属层中的所述铝层接触。在一些实施例中，所述第一电极与所述第二钛层接触，所述第二钛层远离所述第一衬底的表面，且与所述第一电极接触位置处不包括二氧化钛，所述第二钛层中与所述第一电极接触位置处的厚度小于其它位置处的厚度。在一些实施例中，所述显示用基板还包括设置在所述钝化层和所述第一电极之间的平坦层；所述平坦层包括第二过孔，所述第一过孔与所述第二过孔具有重叠区域。在一些实施例中，所述显示用基板还包括：依次设置在所述第一电极上的发光功能层和第二电极。第三方面，提供一种显示面板，包括上述的显示用基板。本专利技术实施例提供一种显示用基板及其制备方法、显示面板，显示用基板的制备方法包括在第一衬底上形成薄膜晶体管，薄膜晶体管的漏极包括金属层，在薄膜晶体管上形成钝化层薄膜，在对钝化层薄膜进行干法刻蚀形成第一过孔时，干法刻蚀气体中的氧气会将金属层露出于第一过孔的表面氧化成氧化层，由于本专利技术实施例在形成第一电极之前，利用酸溶液去除了氧化层，这样一来，在形成第一电极时，第一电极就可以直接与金属层接触。相对于相关技术中第一电极与氧化层接触，由于本专利技术实施例中第一电极与金属层接触，金属层的电阻远小于氧化层的电阻，因而本专利技术实施例降低了第一电极与漏极的接触电阻。在显示用基板应用于显示面板中时，可以提高显示面板的画面品质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种显示面板的区域划分示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种电致发光显示面板的结构示意图一；图4为本专利技术实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图一；图5a为图3或图4中A处的放大示意图一；图5b为图3或图4中A处的放大示意图二；图6为相关技术提供的一种第一电极穿过钝化层上的过孔与漏极电连接的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种显示用基板的制备方法的流程示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种在第一衬底上形成薄膜晶体管的结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种在薄膜晶体管上形成钝化层的结构示意图；图10a为图9中B处的放大示意图一；图10b为图9中B处的放大示意图二；图11a为图10a去除氧化层后的结构示意图；图11b为图10b去除氧化层后的结构示意图；图12为图3或图4中A处的放大示意图三；图13a为图9中B处的放大示意图三；图13b为图9中B处的放大示意图四；图14为本专利技术实施例提供的一种去除氧化层的结构示意图；图15为图9中B处的放大示意图五；图16a为本专利技术实施例提供的一种电致发光显示面板的结构示意图二；图16b为本专利技术实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图二；图16c为图16a或图16b中C处的放大示意图；图17为本专利技术实施例提供的一种在钝化层上形成平坦层的结构示意图。附图标记：1-框架；2-盖板玻璃；3-显示面板；4-电路板；10-漏极；101-第二钛层；102-铝层；103-第一钛层；20-源极；30-有源层；40-栅极；50-栅绝缘层；60-氧化层；31-显示区；32-周边区；33-亚像素区；34-显示用基板；340-第一衬底；341-薄膜晶体管；342-第一电极；343-钝化层；344-平坦层；345-发光功能层；346-第二电极；347-像素界定层；35-封装层；36-对盒基板；360-第二衬底；361-彩色滤光层；362-黑矩阵图案；363-公共电极；37-液晶层。具本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示用基板的制备方法，其特征在于，包括：在第一衬底上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的漏极包括金属层；在所述薄膜晶体管上形成钝化层薄膜，利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀，在所述钝化层薄膜上形成露出所述漏极的第一过孔，以形成钝化层；所述干法刻蚀的气体包括氧气，所述金属层露出于所述第一过孔的表面被氧化形成氧化层；利用酸溶液去除所述氧化层；形成第一电极，所述第一电极穿过所述第一过孔与所述漏极电连接。

【技术特征摘要】
1.一种显示用基板的制备方法，其特征在于，包括：在第一衬底上形成薄膜晶体管，所述薄膜晶体管的漏极包括金属层；在所述薄膜晶体管上形成钝化层薄膜，利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀，在所述钝化层薄膜上形成露出所述漏极的第一过孔，以形成钝化层；所述干法刻蚀的气体包括氧气，所述金属层露出于所述第一过孔的表面被氧化形成氧化层；利用酸溶液去除所述氧化层；形成第一电极，所述第一电极穿过所述第一过孔与所述漏极电连接。2.根据权利要求1所述的显示用基板的制备方法，其特征在于，所述金属层包括：依次层叠设置在所述第一衬底上的第一钛层、铝层和第二钛层。3.根据权利要求2所述的显示用基板的制备方法，其特征在于，所述显示用基板的制备方法还包括：利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀的同时，利用所述干法刻蚀将所述第二钛层中露出于所述第一过孔的部分全部刻蚀掉。4.根据权利要求2所述的显示用基板的制备方法，其特征在于，所述显示用基板的制备方法还包括：利用酸溶液去除所述氧化层的同时，利用所述酸溶液将所述第二钛层中露出于所述第一过孔的部分全部去除掉。5.根据权利要求4所述的显示用基板的制备方法，其特征在于，所述显示用基板的制备方法还包括：利用干法刻蚀对所述钝化层薄膜进行刻蚀的同时，利用干法刻蚀对所述第二钛层中露出于所述第一过孔的部分进行减薄。6.根据权利要求1-5任一项所述的显示用基板的制备方法，其特征在于，在所述形成钝化层之后，在所述利用酸溶液去除所述氧化层之前，所述显示用基板的制备方法还包括：在所述钝化层上形成平坦层，所述平坦层包括第二过孔；所述第二过孔与所述第一过孔具有重叠区域，以露出所述漏极。7.根据权利要求1所述的显示用...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文涛，史大为，赵东升，王培，杨璐，段岑鸿，李旭，黄灿，吴帮炜，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11