阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板技术

本发明专利技术公开一种阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板。其中，阵列基板包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。本发明专利技术的技术方案能够降低数据线上和扫描线上的寄生电容，减小数据线和扫描线的负载，提高像素的充电率，进而提升产品的显示对比度，提升产品的画质品位。

Manufacturing Method and Display Panel of Array Substrate and Array Substrate

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板
本专利技术涉及液晶显示
，特别涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法及显示面板。
技术介绍
目前，VA(VerticalAlignment，垂直对齐)显示模式的像素结构，分为TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)侧的像素结构和CF(ColorFilter，彩膜滤光片)侧的像素结构两部分。TFT侧的像素结构主要实现TFT-LCD(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)的电学功能，是决定像素电容效应、配向延迟效应、灰阶电压写入特性及保持特性的主要因素；CF侧的像素结构主要实现TFT-LCD的光学功能，是决定TFT-LCD的对比度和色域度的主要因素。但是，在现有的VA显示模式的像素结构中，数据线上和扫描线上会产生寄生电容，而寄生电容的存在会加大数据线与扫描线的负载，减小像素的充电率，从而使产品的显示对比度下降，影响产品的画质品位。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种阵列基板，旨在降低数据线上和扫描线上的寄生电容，减小数据线和扫描线的负载，提高像素的充电率，进而提升产品的显示对比度，提升产品的画质品位。为实现上述目的，本专利技术提出的阵列基板包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。可选地，所述色阻层包括滤光部和第一隔垫部，所述滤光部和所述第一隔垫部沿所述数据线的延伸方向交替排布，所述第一隔垫部沿所述扫描线的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线上方。可选地，当所述色阻层位于所述阵列基板的有源层上方时，所述第一隔垫部开设有让位口，所述有源层由所述让位口显露，以使所述源漏极金属层通过所述让位口与所述有源层接触。可选地，所述滤光部包括若干滤光单元，若干所述滤光单元沿所述扫描线的延伸方向依次排布，每一所述滤光单元包括第一色彩单元、第二色彩单元及第三色彩单元，所述第一色彩单元、第二色彩单元及第三色彩单元沿所述扫描线的延伸方向依次排布，所述第一隔垫部与任一色彩单元为一体结构。可选地，每一所述滤光单元还包括第四色彩单元。可选地，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的黑色矩阵层，所述黑色矩阵层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。可选地，所述黑色矩阵层包括遮光部和第二隔垫部，所述遮光部和所述第二隔垫部沿所述数据线的延伸方向交替排布，所述第二隔垫部沿所述扫描线的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线上方。可选地，当所述黑色矩阵层位于所述阵列基板的有源层上方时，所述第二隔垫部开设有避让口，用于所述有源层与所述源漏极金属层相接触。本专利技术还提出一种阵列基板的制作方法，包括以下步骤：提供衬底基板，并在所述衬底基板上形成栅极金属层；在所述栅极金属层上和所述衬底基板上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成有源层；在所述栅极绝缘层上和所述有源层上形成源漏极金属层；在所述源漏极金属层上和所述有源层上形成保护层；以及在所述保护层上形成透明导电层；在所述衬底基板上形成栅极金属层之后、且在所述衬底基板上形成源漏极金属层之前，还在对应结构层上形成色阻层。本专利技术还提出一种显示面板，包括：第一基板；第二基板，所述第二基板与所述第一基板相对设置；液晶层，所述液晶层夹设于所述第一基板与所述第二基板之间；其中，所述第二基板是阵列基板，所述阵列基板包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。本专利技术的技术方案，通过将色阻层设置在栅极金属层与源漏极金属层之间，可使扫描线与数据线二者于交错区域处的间距得以增大，数据线上和扫描线上的寄生电容得以降低，从而使数据线和扫描线的负载得以减小，使像素的充电率得以提升，进而提升了产品的显示对比度，提升了产品的画质品位。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为应用有传统COA阵列基板的显示面板在数据线与扫描线正面交叠处沿扫描线的截面图；图2为本专利技术显示面板一实施例在数据线与扫描线正面交叠处沿扫描线的截面图；图3为图2中阵列基板的部分俯视图；图4为图2中色阻层的部分俯视图；图5为本专利技术显示面板另一实施例在数据线与扫描线正面交叠处沿扫描线的截面图；图6为图5中黑色矩阵层的部分俯视图。附图标号说明：标号名称标号名称1000显示面板80色阻层100阵列基板81滤光部10衬底基板811第一色彩单元20栅极金属层813第二色彩单元21扫描线815第三色彩单元23栅极83第一隔垫部30栅极绝缘层831让位口40有源层90黑色矩阵层41单元块91遮光部50源漏极金属层911透光区域51数据线93第二隔垫部53源极931避让口55漏极200第一基板60保护层210导电薄膜70透明导电层本专利技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明，本专利技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，在本专利技术中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。另外，本专利技术各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本专利技术要求的保护范围之内。本专利技术提出一种阵列基板100，其应用于显示面板1000(例如液晶显示面板)，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括栅极金属层和设于所述栅极金属层上方的源漏极金属层，所述栅极金属层包括扫描线，所述源漏极金属层包括与所述扫描线交错设置的数据线，其特征在于，所述阵列基板还包括设置于所述栅极金属层与所述源漏极金属层之间的色阻层，所述色阻层部分位于所述扫描线与所述数据线的交错区域内。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻层包括滤光部和第一隔垫部，所述滤光部和所述第一隔垫部沿所述数据线的延伸方向交替排布，所述第一隔垫部沿所述扫描线的延伸方向延伸设置，并覆盖于所述扫描线上方。3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，当所述色阻层位于所述阵列基板的有源层上方时，所述第一隔垫部开设有让位口，所述有源层由所述让位口显露，以使所述源漏极金属层通过所述让位口与所述有源层接触。4.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述滤光部包括若干滤光单元，若干所述滤光单元沿所述扫描线的延伸方向依次排布，每一所述滤光单元包括第一色彩单元、第二色彩单元及第三色彩单元，所述第一色彩单元、第二色彩单元及第三色彩单元沿所述扫描线的延伸方向依次排布，所述第一隔垫部与任一色彩单元为一体结构。5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，每一所述滤光单元还包括第四色彩单元。6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨春辉，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，滁州惠科光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44