【技术实现步骤摘要】
一种具有电磁屏蔽功能的聚合物膜及其制备方法
本专利技术涉及电磁屏蔽
,具体涉及一种具有电磁屏蔽功能的聚合物膜及其制备方法。
技术介绍
随着通信市场的快速发展,越来越多的电气设备和电子设备渗透到社会的各个角落。人们在充分享受现代生活便利、舒适的同时,也经受着一种无形的污染—电磁波污染。目前电子产品中大部分是以工程塑料为主体结构,而工程塑料在电磁场中很容易产生静电和滞电现象,对电磁场几乎无屏障作用,对电磁波的屏蔽效果几乎是“透明”的。所以电磁干扰(EMI)是一种普遍存在的严重污染源,它不仅影响敏感电子设备和系统的正常运行,而且已成为一种严重的污染源。为使设备具备抗电磁波千扰和防信息泄露的能力,就必须采取一定的屏蔽措施,因此电磁波屏蔽材料的研究就尤为重要。目前常见的电磁屏蔽材料为含金属层夹层或者掺杂金属颗粒的电磁屏蔽材料,有的使用体积大的泡沫型电磁屏蔽材料。聚酰亚胺(PI)是一类以酰亚胺环为结构特征的高性能聚合物材料,具有阻燃性以及优异的力学性能、电性能、耐辐射性能、耐溶剂性能。尽管PI的绝缘性能优良、电阻率高,其自身却几乎没有屏蔽性能,而需要加入导电填料,但是加 ...
【技术保护点】
1.一种具有电磁屏蔽功能的聚合物膜,其特征在于,包括N层表面石墨烯化的聚酰亚胺膜,N为1以上的整数。
【技术特征摘要】
1.一种具有电磁屏蔽功能的聚合物膜,其特征在于,包括N层表面石墨烯化的聚酰亚胺膜,N为1以上的整数。2.根据权利要求1所述的聚合物膜,其特征在于,所述表面石墨烯化的聚酰亚胺膜的厚度为30μm~75μm。3.根据权利要求1或2所述的聚合物膜,其特征在于,N≥2,所述N层表面石墨烯化的聚酰亚胺膜依次叠层设置。4.根据权利要求3所述的聚合物膜,其特征在于,N≥3,第1层和第N层表面石墨烯化的聚酰亚胺膜的厚度小于其余各层表面石墨烯化的聚酰亚胺膜的厚度。5.根据权利要求3所述的聚合物膜,其特征在于,3≤N≤5。6.一种如权利要求1~5任一所述的聚合物膜的制备方法,其特征在于,包括制备表面石墨烯化的聚酰亚胺膜的步骤:S1、制备聚酰胺酸溶液;S2、提供载体,在所述载体上涂覆所述聚酰胺酸溶液,并进行亚胺化处理,获得聚酰亚胺膜;S3、应用激光诱导使所述聚酰亚胺膜的表面石墨烯化,获得表面石墨烯化的聚酰亚胺膜。7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中,所述制备聚酰胺酸溶液包括:提供4,4'–([6,6']联[苯并恶唑基]-2,2'-二基)-双-苯胺、N,N-二甲基乙酰胺和3,3',...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨兵,易成汉,史胜,李威威,王顺,赵聪,李伟民,杨春雷,
申请(专利权)人:深圳先进技术研究院,
类型:发明
国别省市:广东,44
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