膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备技术

本发明专利技术涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。该膜层结构包括第一膜层组件和第二膜层组件，第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个凸条在垂直于第一方向上的截面的形状一致；第二膜层组件包括第二膜材及设置在第二膜材上的色带单元，第二膜层组件层叠于第一膜层组件上，色带单元远离第二膜材的一侧朝向第一膜材，色带单元在纹理层上的正投影落在纹理层上。上述膜层结构的样式丰富。

Membrane structure and its preparation method, shell mechanism and electronic equipment

【技术实现步骤摘要】
膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备
本专利技术涉及电子设备
，特别是涉及一种膜层结构及其制备方法、壳体机构和电子设备。
技术介绍
随着电子设备产品多样性的发展，用户对电子设备的外观提出了更高的要求。如何提升电子设备的外观效果是业界普遍关注的研究方向。近年来，越来越多的研究焦点集中在通过改善电子设备的外壳以提高其外观效果。一些研究通过改变电子设备外壳的材质，以提高其外观效果。然而，这些电子设备外壳的样式单一，不能满足实际需求。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种样式丰富的膜层结构。此外，还提供一种膜层结构的制备方法、壳体机构和电子设备。一种膜层结构，包括：第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致；及第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元远离所述第二膜材的一侧朝向所述第一膜材，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。上述膜层结构包括第一膜层组件和层叠于第一膜层组件上的第二膜层组件，第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材和纹理层，纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个凸条在垂直于第一方向上的截面的形状一致，纹理层的设置使得膜层组件具有亮度的纹理效果，第二膜层组件包括第二膜材和设置在第二膜材上的色带单元，色带单元使得第二膜层组件呈现细腻的颜色效果，色带单元远离第二膜材的一侧朝向第一膜材，色带单元在纹理层上的正投影落在纹理层上，色带单元和纹理层的叠加使得膜层结构呈现颜色、发亮和纹理的图案效果，样式丰富。在其中一个实施例中，在垂直于所述第一方向上多个所述凸条依次拼接，且多个所述凸条平行。在其中一个实施例中，多个所述凸条平行且间隔设置。在其中一个实施例中，多个所述凸条呈阵列排布。在其中一个实施例中，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状为三角形或者梯形。在其中一个实施例中，每个所述凸条为三棱柱形，每个所述凸条的一个侧面朝向所述第一膜材。在其中一个实施例中，每个所述凸条具有第一侧面、第二侧面和第三侧面，所述第一侧面朝向所述第一膜材，所述第二侧面和所述第一侧面形成的夹角与所述第三侧面和所述第一侧面形成的夹角相等。在其中一个实施例中，每个所述凸条的高度相等。在其中一个实施例中，所述凸条的高度为4μm～6μm；及/或，所述凸条的宽度为10μm～30μm。在其中一个实施例中，所述色带单元在所述纹理层上的正投影与所述纹理层完全重合。在其中一个实施例中，所述色带单元具有多个单色层，多个所述单色层依次层叠设置在所述第二基材上。在其中一个实施例中，所述第一膜层组件还包括反射单元，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧。在其中一个实施例中，所述反射单元包括附着层、第一折射层和第二折射层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述附着层为氧化铝层或二氧化硅层。在其中一个实施例中，所述第一折射层的折射率为0.68～0.72，所述第二折射层的折射率为2.55～2.76。在其中一个实施例中，所述第一折射层为铟层，所述第二折射层为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。在其中一个实施例中，所述反射单元还包括间隔层，所述间隔层位于所述第一折射层和所述第二折射层之间，所述间隔层为氧化铝层或二氧化硅层。在其中一个实施例中，所述附着层为氧化铝层，所述附着层的厚度为30nm～40nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述间隔层为氧化铝层，所述间隔层的厚度为30nm～40nm，所述第二折射层为二氧化钛层，所述第二折射层的厚度为3nm～7nm。在其中一个实施例中，所述反射单元还包括第三折射层，所述第三折射层位于所述附着层和所述第一折射层之间，所述第三折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率。在其中一个实施例中，所述第三折射层的折射率为2.55～2.76。在其中一个实施例中，所述第三折射层为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。在其中一个实施例中，所述反射单元还包括第一保护层和第二保护层，所述第一保护层位于所述第一折射层与所述第三折射层之间，所述第二保护层位于所述第一折射层与所述第二折射层之间，所述第一保护层为氧化铝层或二氧化硅层，所述第二保护层为氧化铝层或二氧化硅层。在其中一个实施例中，所述附着层为二氧化硅层，所述附着层的厚度为8nm～12nm，所述第三折射层为五氧化三钛层，所述第三折射层的厚度为7nm～17nm，所述第一保护层为二氧化硅层，所述第一保护层的厚度为10nm～20nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述第二保护层为二氧化硅层，所述第二保护层的厚度为20nm～30nm，所述第二折射层为五氧化三钛层，所述第二折射层的厚度为5nm～9nm。在其中一个实施例中，所述第一膜层组件还包括油墨层，所述油墨层覆盖在所述反射单元远离所述纹理层的一侧上。一种膜层结构的制备方法，包括如下步骤：提供第一膜层组件，所述第一膜层组件包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致；在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元，得到第二膜层组件；及将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合，且使所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上，得到膜层结构。在其中一个实施例中，所述将所述色带单元远离所述第二膜材的一侧与所述第一膜材远离所述纹理层的一侧贴合的步骤之前，还包括制备所述第一膜层组件的步骤：采用UV转印在所述第一膜材上形成所述纹理层，得到所述第一膜层组件。在其中一个实施例中，在所述第一膜材上形成所述纹理层的步骤包括：在所述第一膜材上形成多条沿所述第一方向平行的所述凸条，得到所述纹理层。在其中一个实施例中，所述在第二膜材上通过色带转印工艺形成色带单元的步骤包括：通过色带转印工艺在所述第二膜材上形成多个层叠设置的单色层，得到所述色带单元。一种壳体机构，包括：基底；及上述膜层结构，所述膜层结构设置在所述基底上，且所述第二基材朝向所述基底。一种电子设备，包括：上述壳体机构；显示机构，与所述壳体机构连接，所述显示机构和所述壳体机构之间限定出安装空间；及电路板，设置在所述安装空间内且与所述显示机构电连接。附图说明图1为一实施方式的电子设备的结构示意图；图2为图1所示的壳体机构的结构示意图；图3为图2所示的壳体机构沿A-A线的局部剖视图；图4为图2所示的壳体机构中第一膜材和纹理层的结构示意图；图5为图3所示的壳体机构中第一膜材的截面示意图；图6为图4所示的壳体机构中纹理层沿B-B线的截面示意图；图7为图3所示的壳体机构中反射单元的截面示意图；图8为图3所示的壳体机构中第二膜材的截面示意图；图9为图3所示的壳体机构中色带单元的截面示意图；图10为另一实施例的纹理层的截面示意图；图11为另一实施例的多个凸条的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜层结构，其特征在于，包括：第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致；及第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元远离所述第二膜材的一侧朝向所述第一膜材，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。

【技术特征摘要】
1.一种膜层结构，其特征在于，包括：第一膜层组件，包括依次层叠设置的第一膜材及纹理层，所述纹理层包括多个沿第一方向平行设置的凸条，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状一致；及第二膜层组件，包括第二膜材及设置在所述第二膜材上的色带单元，所述第二膜层组件层叠于所述第一膜层组件上，所述色带单元远离所述第二膜材的一侧朝向所述第一膜材，所述色带单元在所述纹理层上的正投影落在所述纹理层上。2.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，在垂直于所述第一方向上多个所述凸条依次拼接，且多个所述凸条平行。3.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，多个所述凸条平行且间隔设置。4.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，多个所述凸条呈阵列排布。5.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条在垂直于所述第一方向上的截面的形状为三角形或者梯形。6.根据权利要求1～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条为三棱柱形，每个所述凸条的一个侧面朝向所述第一膜材。7.根据权利要求6所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条具有第一侧面、第二侧面和第三侧面，所述第一侧面朝向所述第一膜材，所述第二侧面和所述第一侧面形成的夹角与所述第三侧面和所述第一侧面形成的夹角相等。8.根据权利要求1～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，每个所述凸条的高度相等。9.根据权利要求1～5任一项所述的膜层结构，其特征在于，所述凸条的高度为4μm～6μm；及/或，所述凸条的宽度为10μm～30μm。10.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元在所述纹理层上的正投影与所述纹理层完全重合。11.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述色带单元具有多个单色层，多个所述单色层依次层叠设置在所述第二基材上。12.根据权利要求1所述的膜层结构，其特征在于，所述第一膜层组件还包括反射单元，所述反射单元覆盖所述纹理层远离所述第一膜材的一侧。13.根据权利要求12所述的膜层结构，其特征在于，所述反射单元包括附着层、第一折射层和第二折射层，所述附着层设置在所述纹理层远离所述第一膜材的一侧，所述第一折射层设置在所述附着层远离所述纹理层的一侧，所述第二折射层设置在所述第一折射层远离所述附着层的一侧，所述第二折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率，所述附着层为氧化铝层或二氧化硅层。14.根据权利要求13所述的膜层结构，其特征在于，所述第一折射层的折射率为0.68～0.72，所述第二折射层的折射率为2.55～2.76。15.根据权利要求14所述的膜层结构，其特征在于，所述第一折射层为铟层，所述第二折射层为二氧化钛层、五氧化三钛层或五氧化二铌层。16.根据权利要求13所述的膜层结构，其特征在于，所述反射单元还包括间隔层，所述间隔层位于所述第一折射层和所述第二折射层之间，所述间隔层为氧化铝层或二氧化硅层。17.根据权利要求16所述的膜层结构，其特征在于，所述附着层为氧化铝层，所述附着层的厚度为30nm～40nm，所述第一折射层为铟层，所述第一折射层的厚度为10nm～30nm，所述间隔层为氧化铝层，所述间隔层的厚度为30nm～40nm，所述第二折射层为二氧化钛层，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱惊龙，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44