基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置，该方法能够准确去除寄生条纹，达到磁流变去除函数的精确提取，适用范围广，对于传统频域带阻滤波无法解决的寄生条纹和原始数据频谱严重混叠的情况，仍然适用，是一种较好的寄生条纹去除方法，可以有效应用于消除磁流变去除函数寄生条纹，实现磁流变去除函数的准确提取。同时也可以较好的用于其它超精密加工方式,如气囊抛光、离子束抛光等的去除函数寄生条纹的消除，便于推广应用。

A Method and Device for Eliminating Parasitic Fringes of MRF Removal Function Based on Wavelet Transform

【技术实现步骤摘要】
基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置
本专利技术涉及光学加工领域，具体是基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法及装置。
技术介绍
磁流变抛光技术作为一种新型的先进光学制造技术，具有高效率、高精度、高表面质量、亚表面损伤小、表面残余应力小等一系列传统加工方法不可比拟的优点，具有良好的应用前景。磁流变去除函数提取的准确程度是决定磁流变加工精度与效率的一个关键因素。目前磁流变去除函数制作流程通常是首先采用平板小基片在磁流变液机床进行采斑，然后用光学干涉仪检测采斑基片的反射或透射面形，然后将检测数据中的去除函数进行提取，最终生成可用于磁流变抛光的去除函数。由于采斑所用的小基片是平板型光学元件，采用干涉仪进行面形检测时，极易引入寄生条纹，引入寄生条纹后会降低去除函数的提取精度，造成去除函数体积去除效率变化，影响磁流变加工的确定性，同时引入了寄生条纹的去除函数含有复杂的中高频结构，严重影响对去除函数修形能力的评价，因此为了实现磁流变去除函数准确提取必须要消除去除函数中的寄生条纹。传统抑制干涉检测中寄生条纹的方法是反射测量时在元件背面均匀涂抹凡士林，难以消除寄生条纹；透射测量时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法，其特征在于，包括：获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f1(x,y)；提取所述面形数据矩阵f1(x,y)中的局部数据，所述局部数据为：含有寄生条纹，且不含有去除函数形状；计算所述寄生条纹的空间周期T；采用sym5小波对所述面形数据矩阵f1(x,y)进行多级分解，分解级数为N，得到3N+1个系数矩阵数据；所述N根据所述空间周期T计算获得；分析3N+1个所述系数矩阵数据，记录含有寄生条纹的系数矩阵为Sj；其中j＝1～K，K为含有寄生条纹的系数矩阵的个数，且K≤3N+1；对含有寄生条纹的系数矩阵Sj进行处理，消除其中的寄生条纹特征。

【技术特征摘要】
1.基于小波变换的磁流变去除函数寄生条纹消除方法，其特征在于，包括：获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f1(x,y)；提取所述面形数据矩阵f1(x,y)中的局部数据，所述局部数据为：含有寄生条纹，且不含有去除函数形状；计算所述寄生条纹的空间周期T；采用sym5小波对所述面形数据矩阵f1(x,y)进行多级分解，分解级数为N，得到3N+1个系数矩阵数据；所述N根据所述空间周期T计算获得；分析3N+1个所述系数矩阵数据，记录含有寄生条纹的系数矩阵为Sj；其中j＝1～K，K为含有寄生条纹的系数矩阵的个数，且K≤3N+1；对含有寄生条纹的系数矩阵Sj进行处理，消除其中的寄生条纹特征。2.如权利要求1所述的消除方法，其特征在于，还包括：对处理后的系数矩阵Sj进行重构，重构时小波基函数为sym5，分解层数为N，得到消除寄生条纹的面形数据矩阵f2(x,y)。3.如权利要求1所述的消除方法，其特征在于，所述N根据所述空间周期T计算获得，包括：计算多级小波分解层数N，计算公式如下：其中，N取满足条件下最小整数，T表示寄生条纹的空间周期，pix表示像素尺寸。4.如权利要求1所述的消除方法，其特征在于，对含有寄生条纹的系数矩阵Sj进行处理，消除其中的寄生条纹特征，包括：根据寄生条纹特征和去除函数特征数值不连续及存在的强度差异，采用基于直方图统计，确定寄生条纹特征所在取值范围；将所述系数矩阵Sj中数值在所述取值范围内的数据置零，消除其中的寄生条纹特征。5.基于小波变换的磁流变去除函数寄生条...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐才学，徐凯源，温圣林，颜浩，张远航，嵇保建，王翔峰，石琦凯，邓燕，王健，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川,51