【技术实现步骤摘要】
磁保护器壳体、磁保护器和磁保护系统
本专利技术属于磁场屏蔽
,具体而言,涉及一种磁保护器壳体、磁保护器和磁保护系统。
技术介绍
传统磁技术的磁发生设备使用金属合金磁铁包括钕铁硼磁铁(Nd2Fe14B)、铝镍钴磁铁(AlNiCo)、钐钴磁铁(SmCo)和铁氧体永磁材料(BaFe12O19和SrFe12O19),与金属导线进行切割,产生磁场或电。这些磁作用于铁、镍、钴及其合金上,固体物质的旋转能力受到限制,导致磁的快速变化能力非常弱,磁场强度变化能力弱,也限制了这种产生磁的工艺使用范围。随着各种新的磁设备出现,包括:射频技术应用、激光技术应用等,产生了磁场保护需求。现有技术中,一般的磁保护器只针对电磁进行保护:包括持续磁场输出的电力持续性方面保护,缺乏对于其他类型磁场的保护,如Wi-Fi、手机、电视、γ射线等相关类型磁场。另外,现有的一些磁保护器,未能有效屏蔽电磁场,有效防止电磁场的向外扩散,容易造成磁波的泄漏。鉴于此,特提出本专利技术。
技术实现思路
本专利技术的第一目的在于提供一种磁保护器壳体,能够有效防止磁波的泄漏,将磁污染和辐射污染屏蔽在保护器内,并可以对置 ...
【技术保护点】
1.一种磁保护器壳体,其特征在于,所述壳体包括:第一屏蔽层;在所述第一屏蔽层的表面上形成有薄膜,所述薄膜具有蜂巢结构。
【技术特征摘要】
1.一种磁保护器壳体,其特征在于,所述壳体包括:第一屏蔽层;在所述第一屏蔽层的表面上形成有薄膜,所述薄膜具有蜂巢结构。2.根据权利要求1所述的磁保护器壳体,其特征在于,所述第一屏蔽层的厚度为10-1000nm,优选为40-60nm,进一步优选为50nm。3.根据权利要求1所述的磁保护器壳体,其特征在于,所述第一屏蔽层的基体材质为铜材质,所述薄膜的材质为氧化铜;优选地,所述氧化铜为纳米氧化铜。4.根据权利要求1-3任一项所述的磁保护器壳体,其特征在于,所述壳体还包括:第二屏蔽层;所述第二屏蔽层位于所述第一屏蔽层的外侧,所述第一屏蔽层的外侧饶有线组,所述线组设于所述第一屏蔽层和第二屏蔽层之间。5.根据权利要求4所述的磁保护器壳体,其特征在于,所述第二屏蔽层的材质为铁;优选地,所述铁为灰口铁,所述灰口铁的含碳量低于1.8%;优选地,所述第二屏蔽层的厚度为200-400nm,优选为300nm。6.根据权利要求1-...
【专利技术属性】
技术研发人员:卢国东,蔡茜,胡媛,
申请(专利权)人:四川蓝手科技有限公司,
类型:发明
国别省市:四川,51
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