【技术实现步骤摘要】
一种超低损耗单模光纤的制造方法及装置
本专利技术属于光纤通讯
，尤其是涉及一种超低损耗单模光纤的制造方法及装置。
技术介绍
自20世纪70年代起，随着光纤通信相关技术的不断进步，光纤通信在信息技术时代显得越来越重要。随着传输信息量的爆发式增长，对光纤传输技术的要求也越来越高，而作为传输介质的光纤，是决定光纤传输性能的主要决定因素之一。为了增加传输容量，降低光缆铺设成本，光纤的衰减损耗是技术人员考虑的主要因素，衰减在很大程度上决定了光纤通信的中继距离。光纤的衰减系数越小，同样强度的光信号可以传输更远的距离，从而减少信号传输所需要的中继站，降低通信系统的投资成本与运营成本。在光纤制造中，降低光纤的衰减主要是1310nm、1383nm、1550nm、1625nm四个窗口的衰减系数，随着技术的不断发展，目前通用的G.652D光纤已经是零水峰光纤，1383nm窗口处的衰减已降低到0.28dB/km，1310nm窗口处的衰减降低到0.32dB/km，1550nm窗口处衰减降低到了0.185dB/km，从设计和制造上基本已处于极致水平。剩余的衰减主要由于光纤材料本身的瑞利...
【技术保护点】
1.一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1、采用VAD法，将石英玻璃靶棒放在沉积装置内，制造光纤预制棒的芯棒疏松体；所述的步骤1具体包括以下步骤：1)将石英玻璃靶棒的底部降低到芯层沉积反应室内，芯层沉积喷灯燃烧产生SiO2粉末体在旋转的石英玻璃靶棒上堆积，石英玻璃靶棒以1mm/min～3mm/min的速度向上提升，2)在均热的石英管内通入He和Cl2，将电阻炉升温，使得石英管的上部温度达到1350℃，3)石英玻璃靶棒芯层脱水固化后进入包层沉积反应室，利用内包层沉积喷灯燃烧产生SiO2粉末沉积到芯层外部，形成芯棒的包层，最后完成芯棒疏松体制品的沉积；...
【技术特征摘要】
1.一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤1、采用VAD法，将石英玻璃靶棒放在沉积装置内，制造光纤预制棒的芯棒疏松体；所述的步骤1具体包括以下步骤：1)将石英玻璃靶棒的底部降低到芯层沉积反应室内，芯层沉积喷灯燃烧产生SiO2粉末体在旋转的石英玻璃靶棒上堆积，石英玻璃靶棒以1mm/min～3mm/min的速度向上提升，2)在均热的石英管内通入He和Cl2，将电阻炉升温，使得石英管的上部温度达到1350℃，3)石英玻璃靶棒芯层脱水固化后进入包层沉积反应室，利用内包层沉积喷灯燃烧产生SiO2粉末沉积到芯层外部，形成芯棒的包层，最后完成芯棒疏松体制品的沉积；步骤2、将制作完成的芯棒疏松体制品放置到烧结装置中，经过加热、脱水、退火得到芯棒玻璃体；所述的步骤2具体包括以下步骤：1)将制作完成的芯棒疏松体先放置在均热炉内进行包层脱水，2)然后对包层进行F元素掺杂，3)掺杂完成后放入高温烧结炉内进行烧结成玻璃体；步骤3、将芯棒进行高温脱气、拉伸后制作成用于沉积外包层的芯棒，通过外包层沉积、烧结后制作成光纤预制棒；步骤4、光纤预制棒延伸到尺寸小、直径均匀的预制棒；步骤5、将步骤4中的的预制棒放入光纤拉丝炉进行光纤拉丝，最终获得了超低损耗单模光纤。2.根据权利要求1所述的一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：在步骤1的芯层反应室和包层反应室的内部为负压，负压值为-200Pa～-50Pa。3.根据权利要求1所述的一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：在步骤1的沉积过程中，芯棒疏松体制品为旋转的，旋转速度为40rpm～120rpm。4.根据权利要求1所述的一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：在步骤1中，电阻炉自上而下采用分段式加热，石英管内部温度自上而下为梯度分布，当上部最高温度达到1350℃时，温度梯度为4°/mm～6°/mm，自上而下递减。5.根据权利要求1所述的一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：在步骤1中，石英管内通入的He和Cl2的摩尔体积比为10～20，He气流量为20L/min～40L/min，石英管内保持正压，正压值为20Pa～50Pa。6.根据权利要求1所述的一种超低损耗单模光纤的制造方法，其特征在于：在步骤2中的芯棒疏松体制品的烧结过程分为3步：第一步为干燥，将芯棒疏松体制品放置在高温烧结炉内，通入Cl2和He，Cl...
【专利技术属性】
技术研发人员：张学军，
申请(专利权)人：杭州金星通光纤科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33
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