一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于流体辅助微纳抛光技术领域，并具体公开了一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法，其包括上液压单元、下液压单元、抛光腔和励磁线圈，上液压单元和下液压单元分设于抛光腔两端，并与抛光腔导通形成用于容纳磁流变抛光液的容纳腔，磁流变抛光液在上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动；抛光腔的内部用于放置待抛光工件，其外部套装有励磁线圈，通过对励磁线圈通电以在抛光腔内形成绕抛光腔轴线旋转的磁场，磁流变抛光液在旋转磁场的作用下运动以实现待抛光工件的抛光。本发明专利技术具有结构简单、抛光过程可控性强、效率高、抛光均匀，没有表面损伤等优点。

A Magnetorheological Polishing Device and Method Based on Electrically Excited Rotating Magnetic Field

【技术实现步骤摘要】
一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法
本专利技术属于流体辅助微纳抛光
，更具体地，涉及一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置及方法。
技术介绍
磁流变抛光利用磁流变抛光液在磁场中的流变性进行抛光，当磁流变抛光液处于梯度磁场时，其黏滞性明显增强，成为具有黏塑性的宾汉流体，并且形成软固体突起，突起相当于小柔性磨头，而一旦离开磁场，又立刻变成流动的液体。当柔性磨头和被加工的工件表面接触并有相对运动时，就会在工件表面与之接触的区域产生剪切力，从而去除工件表面材料，对工件进行抛光。磁流变抛光中实际抛光的小磨头的形状、硬度完全由磁场控制，而且由于磁流变液的流动，小磨头不断被更新，所以不存在磨损或是变形的问题，可保证在整个抛光过程中工作特性函数的一致性，从而可以准确控制材料的去除。磁流变抛光是一种柔性抛光，抛光后的工件不存在下表面破坏层。传统的磁流变抛光都是利用励磁装置形成抛光头进行抛光，励磁装置可以分为永磁式和电磁式，永磁式磁流变抛光装置采用永磁铁励磁，结构更为简单紧凑，能够抛光表面复杂的光学器件；电磁式磁流变抛光装置相对于永磁式更具有灵活性，可以通过控制电流的强弱来控制发生流变的磁流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，该装置包括上液压单元、下液压单元、抛光腔(8)和励磁线圈(1)，其中：所述上液压单元和下液压单元分设于所述抛光腔(8)的两端，并且均与抛光腔(8)导通，以形成用于容纳磁流变抛光液(10)的容纳腔，该磁流变抛光液(10)在所述上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动；所述抛光腔(8)的内部用于放置待抛光工件(9)，且其外部套装有所述励磁线圈(1)，通过对该励磁线圈(1)通电以在抛光腔(8)内形成绕抛光腔(8)轴线旋转的磁场，所述磁流变抛光液(10)在旋转磁场的作用下运动以对待抛光工件(9)执行抛光动作。

【技术特征摘要】
1.一种基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，该装置包括上液压单元、下液压单元、抛光腔(8)和励磁线圈(1)，其中：所述上液压单元和下液压单元分设于所述抛光腔(8)的两端，并且均与抛光腔(8)导通，以形成用于容纳磁流变抛光液(10)的容纳腔，该磁流变抛光液(10)在所述上液压单元和下液压单元的共同作用下达到预设压力并做上下往复运动；所述抛光腔(8)的内部用于放置待抛光工件(9)，且其外部套装有所述励磁线圈(1)，通过对该励磁线圈(1)通电以在抛光腔(8)内形成绕抛光腔(8)轴线旋转的磁场，所述磁流变抛光液(10)在旋转磁场的作用下运动以对待抛光工件(9)执行抛光动作。2.如权利要求1所述的基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，优选的，所述励磁线圈(1)在通电后的各个时刻依次形成相同组数的N-S磁极组，且下一时刻的各磁极始终位于上一时刻对应各磁极的同侧，以此形成绕抛光腔(8)轴线旋转的磁场。3.如权利要求2所述的基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，所述N-S磁极组至少为一组，同一组中的N磁极至少为一个，同一组中的S磁极至少为一个。4.如权利要求1所述的基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，优选的，通过给励磁线圈(1)的各极通入具有恒定相位差的电流从而形成绕抛光腔(8)轴线旋转的磁场。5.如权利要求1所述的基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，所述磁场的旋转方向恒定或呈振荡往复运动。6.如权利要求1-5任一项所述的基于电励旋转磁场的磁流变抛光装置，其特征在于，所述上液压单元包括与所述抛光腔(8)上端相连的上缸筒(11)、与上缸筒(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖峻峰，王强，牛牧原，许剑锋，刘祥，罗优明，吴佳理，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42