一种晶片的自动清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种晶片的自动清洗装置，包括升降装置，所述升降装置设有升降杆，所述升降杆上设有若干旋转装置，所述旋转装置绕升降杆旋转；所述旋转装置上设有支架，所述支架一端固接旋转装置，其另一端通过定位孔连接挂架，所述挂架下连接有清洗槽；所述支架上设有滑块，所述滑块由电机驱动在支架上做往复运动；所述滑块通过连杆连接挂架。本结构的自动清洗装置，具备如下优点：1）清洗效果好，清洁度高且清洁度一致，有效提高产品质量的稳定性；2）清洗速度快，提高清洗效率，降低生产成本；3）明显降低工人的劳动量，为工人节约大量的时间。

An Automatic Cleaning Device for Wafers

【技术实现步骤摘要】
一种晶片的自动清洗装置
本技术涉及晶片加工领域，尤其涉及压电石英晶体厚度片、频率片的清洗设备。
技术介绍
超声波清洗方式其清洗效果超过一般的常规清洗方法，特别是工件的表面比较复杂，或者一些特别小而对清洁度有较高要求的产品，使用超声波清洗都能达到很理想的效果。压电晶体行业频率片的清洗要求很高，使用常规方式很难达到要求，因此目前对晶片的清洗多采用超声波清洗方式。但是由于超声波在液体中传播，使的液体与清洗槽在超声波频率下一起振动，发出很强烈的嗡嗡声，让人难以忍受。由于生产线上超声波清洗劳动量大，晶片清洗不均匀，不彻底，清洗过程中的产品合格率受人员的影响很大。现有技术中，也有针对上述问题提出的技术方案，比如申请号为CN201320162031.8一种用于晶片的超声波清洗装置，包括超声波清洗槽和固定在清洗槽上的提拉转片装置，所述提拉转片装置包括与清洗槽两侧固定连接的纵向导向柱、提升支架和片盒，所述提升支架两侧穿设在纵向导向柱上，所述片盒固定在提升支架下端，片盒下方还设有转轴。该清洗装置能同时上下提拉和转动蓝宝石晶片，使晶片相对于超声波波源和片盒做相对运动，有效解决因驻波和晶片表面清洗死角产生的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶片的自动清洗装置，其特征是包括升降装置（1），所述升降装置（1）设有升降杆（2），所述升降杆（2）上设有若干旋转装置（3），所述旋转装置（3）绕升降杆（2）旋转；所述旋转装置（3）上设有支架（4），所述支架（4）一端固接旋转装置（3），其另一端通过定位孔（5）连接挂架（6），所述挂架（6）下连接有清洗槽（9）；所述支架（4）上设有滑块（7），所述滑块（7）由电机驱动在支架（4）上做往复运动；所述滑块（7）通过连杆（8）连接挂架（6）。

【技术特征摘要】
1.一种晶片的自动清洗装置，其特征是包括升降装置（1），所述升降装置（1）设有升降杆（2），所述升降杆（2）上设有若干旋转装置（3），所述旋转装置（3）绕升降杆（2）旋转；所述旋转装置（3）上设有支架（4），所述支架（4）一端固接旋转装置（3），其另一端通过定位孔（5）连接挂架（6），所述挂架（6）下连接有清洗槽（9）；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张帮岭，董振峰，
申请(专利权)人：铜陵晶越电子有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34