【技术实现步骤摘要】
一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置
本技术涉及电弧离子镀
，特别是涉及一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置。
技术介绍
多弧离子镀膜技术是在真空条件下，通过控制电弧在靶材表面移动，来蒸发靶材金属，并在基片上施加一个高偏压，使得电弧蒸发出来的靶材粒子高速轰击在基片上，形成薄膜的过程。由于靶材表面上的电弧是一个低电压、大电流的直流电源来供给，所以本身只能维持电弧不能自发产生电弧，产生电弧的时候需要单独的引弧结构。引弧时，通过引弧针施加阳极电，靶材施加阴极电，引弧针短暂接触靶材使得阴阳极短暂短路，然后引弧针在离开靶材表面时，阴阳极电路出现击穿电弧，在通过电弧电源提供一个稳定的低电压、大电流输出，实现电弧的自我维持。目前现阶段阴极弧光放电的屏蔽(灭弧)罩，主要是平面的，低于靶面2-5mm，电位悬浮(接地)，减少弧斑往远离靶面方向运动。其缺点，大量电子从靶面溢出后直接受电场作用，回到腔体(接地端)上，不能有效的进行弧蒸发过程中的粒子的离化，弧光放电离化率低，弧源放电过程中的大颗粒溢出后不能有效的遮挡，沉积在基材上，影响成膜质量。同时，其灭弧效果较差，弧光远离靶面方向运动的风险较...
【技术保护点】
1.一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，其特征在于，包括：靶材，其表面用于产生弧光放电；屏蔽罩，所述屏蔽罩包括喇叭口和屏蔽罩主体；所述屏蔽罩主体环绕封围设置所述靶材的周边，并与所述靶材具有预定间隙，所述喇叭口与所述屏蔽罩主体连接处设有伸出以覆盖部分所述靶材的靶面的延伸部，所述延伸部与所述靶材的靶面间具有预定间隙；支架，用于将所述屏蔽罩安装至电弧离子镀设备的腔室内，所述屏蔽罩安装于所述支架上。
【技术特征摘要】
1.一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，其特征在于，包括：靶材，其表面用于产生弧光放电；屏蔽罩，所述屏蔽罩包括喇叭口和屏蔽罩主体；所述屏蔽罩主体环绕封围设置所述靶材的周边，并与所述靶材具有预定间隙，所述喇叭口与所述屏蔽罩主体连接处设有伸出以覆盖部分所述靶材的靶面的延伸部，所述延伸部与所述靶材的靶面间具有预定间隙；支架，用于将所述屏蔽罩安装至电弧离子镀设备的腔室内，所述屏蔽罩安装于所述支架上。2.根据权利要求1所述的用于阴极弧光放电的屏蔽装置，其特征在于，所述靶材为圆柱形，所述屏蔽罩主体为与所述靶材相适应的空心圆柱形形状。3.根据权利要求1所述的用于阴极弧光放电的屏蔽装置，其特征在于，所述靶材为矩形，所述屏蔽罩主体为与所述靶材相适应的空心矩形柱形状。4.根据权利要求1所述的用于阴极弧光放电的屏蔽装置，其特征在于，所述喇叭口靠近所述靶材的...
【专利技术属性】
技术研发人员：郎文昌，刘俊红，杜昊，
申请(专利权)人：苏州艾钛科纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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