【技术实现步骤摘要】
一种破旧半导体的回收利用方法
本专利技术涉及半导体回收利用工艺
,尤其涉及的是一种破旧半导体的回收利用方法。
技术介绍
随着半导体器件的尺寸越来越小,集成程度更高,半导体器件中的微量杂质对半导体器件的影响更大,因此,半导体清洗工艺产生的SPM废酸中含60%-85%的硫酸0.5%-5%的过氧化氢,过氧化氢的残余对于运输安全存储和回收再利用于其他生产工艺不利;目前业界采用的是在废酸中直接加入金属离子催化剂,引用了金属杂质,且不能去除,导致不能回收进行商品化再利用,如将废酸中的硫酸回收再商品化利用,必须将过氧化氢的浓度控制到2ppm以下,并且不带入其他杂质;常规的金属催化剂催化分解过氧化氢,容易引入杂质,而且,要降到2ppm以下耗时非常长,成本控制上不理想,直接使用常规的光催化分解过氧化氢,也需要耗时巨大,且很难达到半导体清洗工艺对杂质控制的要求;半导体工业生产废水具有排放量大、污染物种类繁多、成分复杂等特点,不仅含有高浓度的有机物,而且还含有大量的磷、氟、酸碱和重金属等等,是一种处理难度较大的工业废水;半导体生产废水中的高浓度磷的去除回收一直是一个技术瓶颈,大量 ...
【技术保护点】
1.一种破旧半导体的回收利用方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:将破旧半导体做破碎处理,将破碎后的半导体导入第一反应容器;向第一反应容器内添加催化剂,并加热到80‑100℃,引发反应,至废酸分解完成;将第一反应容器后的沉淀物过滤,将其废水导入第二反应容器;根据废水中pH值向第二反应容器内添加镁源催化剂,并加入酸或碱调节废液pH值至 8.0~10.0,搅拌促进反应,至二度分离上清液与结晶沉淀物。
【技术特征摘要】
1.一种破旧半导体的回收利用方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:将破旧半导体做破碎处理,将破碎后的半导体导入第一反应容器;向第一反应容器内添加催化剂,并加热到80-100℃,引发反应,至废酸分解完成;将第一反应容器后的沉淀物过滤,将其废水导入...
【专利技术属性】
技术研发人员:程平,
申请(专利权)人:安徽华晶微电子材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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