一种等离子设备的电极装置及等离子设备制造方法及图纸

技术编号:21899784 阅读:74 留言:0更新日期:2019-08-17 19:01
本发明专利技术公开了一种等离子设备的电极装置及等离子设备,所述等离子设备的电极装置包括从下到上依次设置的下基板、冷却管道和上基板,所述冷却管道的降温能力由中间向四周递增,使电极装置的中间区域的温度高于四周区域的温度,增大中间区域的放电强度,改善了电极装置中间区域放电弱导致蚀刻不均匀的问题。

An Electrode Device and Plasma Equipment for Plasma Equipment

【技术实现步骤摘要】
一种等离子设备的电极装置及等离子设备
本专利技术涉及等离子设备领域,尤其涉及一种等离子设备的电极装置及等离子设备。
技术介绍
等离子设备广泛应用于等离子清洗、蚀刻、镀膜等场合,等离子设备在放电的过程,由于电流都是从电极的表面通过,所以存在电极板正中间放电强度要弱于四周边界区域的情况,在等离子蚀刻电路板的过程中,存在电极中间蚀刻量低于四周的情况。在实际应用中,由于放电强度不均匀比较难直接发现,工作人员即使发现产品蚀刻、清洗不均匀也很难发现其根本原因,因此本领域人员往往忽视这个问题,造成等离子体放电不均匀。现有的等离子设备的电极采用深钻孔的方式,使用的冷却装置的目的往往是为了降低温度及令电极装置的温度相对均匀,如冷却管道采用了蛇形的结构,冷却水是匀速的流经电极内部,整片电极温度也相对均匀。因此放电过程中,中间区域放电弱于四周,设备蚀刻不均匀。按理论的计算,如果要改变电极中间区域放电弱的现象,可以采取提高电极中间区域的温度的方式,提高中间区域放电的强度,从而提高中间区域的蚀刻量。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足,本专利技术提供了一种等离子设备的电极装置及等离子设备,解决了等离子设备的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种等离子设备的电极装置,其特征在于:包括从下到上依次设置的下基板(3)、冷却管道(2)和上基板(1),所述冷却管道(2)的降温能力由中间向四周递增。

【技术特征摘要】
1.一种等离子设备的电极装置,其特征在于:包括从下到上依次设置的下基板(3)、冷却管道(2)和上基板(1),所述冷却管道(2)的降温能力由中间向四周递增。2.根据权利要求1所述的一种等离子设备的电极装置,其特征在于:所述冷却管道(2)包括相互连通的进水管(21)和出水管(22),所述进水管(21)和出水管(22)交替间隔设置,所述进水管(21)为从外围向中心延伸的矩形螺旋管道,所述出水管(22)为从中心向四周延伸的矩形螺旋管道。3.根据权利要求2所述的一种等离子设备的电极装置,其特征在于:所述进水管(21)和出水管(22)的交替间隔的距离由中心向外围逐渐减小。4.根据权利要求1所述的一种等离子设备的电极装置,其特征在于:所述冷却管道(2)的形状与费马螺线的形状一致。5....

【专利技术属性】
技术研发人员:丁雪苗赵芝强赵公魄
申请(专利权)人:珠海宝丰堂电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1