亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置制造方法及图纸

一种亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置，包括放卷机构、亚真空低温等离子体材料处理设备和放卷机构，亚真空低温等离子体材料处理设备包括一个以上的主腔体和多级真空缓冲腔体，主腔体位于中间，各级缓冲腔体对称分布于主腔体两侧，沿着材料的走向依次排布，所述主腔体与缓冲腔体之间或相邻缓冲腔体之间通过隔板封闭，隔板中部设有通孔，亚真空低温等离子体材料处理设备的电极组贯穿主腔体和各缓冲腔体，材料从电极组的放电间隙中穿过，所述主腔体的真空范围为99900～10Pa。本发明专利技术可实现在亚真空环境下，对一定宽幅范围内的材料的连续处理，且相较于常压低温等离子体处理装置对材料具有更好的处理效果，工作效率高，工作稳定。

On-line Continuous Material Processing Device for Subvacuum Low Temperature Plasma

【技术实现步骤摘要】
亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置
本专利技术涉及低温等离子体
，具体为一种亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置。
技术介绍
等离子体是一种高能量的物质聚集态，其中含有大量的电子、离子、激发态的原子、分子、光子和自由基等活性粒子。利用等离子体对材料进行处理可引起材料表面的物理变化（如刻蚀、解吸、溅射、注入、激发和电离等）和化学变化（如氧化、分解、交联、聚合和接枝等），以达到改变材料表面特性（包括亲水性、疏水性、粘合性、阻燃性、防腐性、防静电性以及生物适应性）的目的。等离子体可以通过辉光放电、电晕放电、介质阻挡放电、射频放电以及微波放电等方式产生。介质阻挡放电是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电。在两个放电电极之间充满某种工作气体,并将其中一个或两个电极用绝缘介质覆盖,也可以将介质直接悬挂在放电空间或采用颗粒状的介质填充其中，当两电极间施加足够高的交流电压时，电极间的气体会被击穿而产生放电，即产生了介质阻挡放电。介质阻挡放电(DBD)是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电又称介质阻挡放电或无声放电。介质阻挡放电能够在低气压至高气压很宽的气压范围产生放电，也本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置，包括放卷机构（1）、亚真空低温等离子体材料处理设备（2）和收卷机构（4），其特征在于：所述亚真空低温等离子体材料处理设备（2）包括一个以上的主腔体（16）和多级真空缓冲腔体（19），主腔体（16）位于中间，各级缓冲腔体（19）对称分布于主腔体（16）两侧，沿着所需处理材料的走向依次排布，所述主腔体（16）与缓冲腔体（19）之间或相邻缓冲腔体（19）之间通过隔板封闭，所述隔板中部设有介质阻挡结构电极组和材料通过的通孔，亚真空低温等离子体材料处理设备（2）的电极组贯穿主腔体（19）和各缓冲腔体（19），材料从电极组的放电间隙中穿过，所述主腔体（16）...

【技术特征摘要】
1.一种亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置，包括放卷机构（1）、亚真空低温等离子体材料处理设备（2）和收卷机构（4），其特征在于：所述亚真空低温等离子体材料处理设备（2）包括一个以上的主腔体（16）和多级真空缓冲腔体（19），主腔体（16）位于中间，各级缓冲腔体（19）对称分布于主腔体（16）两侧，沿着所需处理材料的走向依次排布，所述主腔体（16）与缓冲腔体（19）之间或相邻缓冲腔体（19）之间通过隔板封闭，所述隔板中部设有介质阻挡结构电极组和材料通过的通孔，亚真空低温等离子体材料处理设备（2）的电极组贯穿主腔体（19）和各缓冲腔体（19），材料从电极组的放电间隙中穿过，所述主腔体（16）的真空范围为99900～10Pa。2.根据权利要求1所述的一种亚真空低温等离子体在线连续材料处理装置，其特征在于，所述电极组的外表面贴靠紧靠通孔内，所述放电间隙控制在1-300mm之间。3.根据权利要求1所述的一种亚真空低温等离子体在线连续材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：万京林，李瞳玥，万良淏，
申请(专利权)人：南京苏曼等离子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32