【技术实现步骤摘要】
水蚀雕刻施釉工艺
本专利技术涉及施釉
,尤其涉及一种水蚀雕刻施釉工艺。
技术介绍
现有的陶瓷器物的不同釉色生产工艺流程中,通常采用涂抹可撕胶或隔离剂的方法实现,或者通过手工雕刻的方式,在施釉后刮去凸起部分,上述方法中普遍存在施釉效率低,施釉线条位置不准确,以及难以实现精细施釉的缺点。
技术实现思路
为了解决现有技术中的不足,本专利技术的目的在于提供一种水蚀雕刻施釉工艺,用于实现陶瓷器物表面的不同釉色的对比,以及强烈的效果凹凸质感。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种水蚀雕刻施釉工艺,其特征在于,其步骤包括拉胚、纹样、水蚀和施釉,其中:所述纹样是用防护剂在胚体表面描涂出指定的形状;所述水蚀是用水溶液刷蚀胚体表面并构成凸起的雕刻肌理。所述防护剂为将虫胶片至于容器中,使其浸没在甲醇和丙醇的混合溶液中溶解后获得。所述甲醇和丙醇的质量比为7∶3。所述水溶液为将腐植酸钠按照质量比1-2%兑入水中溶解获得。所述施釉步骤采用留胎施釉工艺或胎体施釉工艺;所述留胎体施釉工艺为在胚体表面直接描涂防护剂,通过水溶液刷蚀后,刷涂或喷涂釉色,釉的比重在1.40-1.45之间,施釉后,擦去防护剂涂层上的釉,进行800摄氏度素烧;所述胎体施釉工艺为在胚体表面刷涂或喷涂釉色,釉的比重在1.40-1.45之间,施釉后在胚体表面直接描涂防护剂,通过水溶液刷蚀后,进行800摄氏度素烧;然后进行二次施釉,将胚体经打磨补水后刷涂或喷涂釉色,釉的比重在1.38-1.42之间,釉的涂层厚度在0.8-1.2mm之间,然后进行1250℃釉烧。上述步骤中,釉的比重通过比重流量杯测量获得;防护剂的 ...
【技术保护点】
1.一种水蚀雕刻施釉工艺,其特征在于,其步骤包括拉胚、纹样、水蚀和施釉,其中:所述纹样是用防护剂在胚体表面描涂出指定的形状;所述水蚀是用水溶液刷蚀胚体表面并构成凸起的雕刻肌理。
【技术特征摘要】
1.一种水蚀雕刻施釉工艺,其特征在于,其步骤包括拉胚、纹样、水蚀和施釉,其中:所述纹样是用防护剂在胚体表面描涂出指定的形状;所述水蚀是用水溶液刷蚀胚体表面并构成凸起的雕刻肌理。2.根据权利要求1所述的水蚀雕刻施釉工艺,其特征在于:所述防护剂为将虫胶片至于容器中,使其浸没在甲醇和丙醇的混合溶液中溶解后获得。3.根据权利要求2所述的水蚀雕刻施釉工艺,其特征在于:所述甲醇和丙醇的质量比为7∶3。4.根据权利要求1所述的水蚀雕刻施釉工艺,其特征在于:所述水溶液为将腐植酸钠按照质量比1-2%兑入水中溶解获得。5.根据权利要求1所述的水蚀...
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