图案曝光装置制造方法及图纸

技术编号:21797737 阅读:54 留言:0更新日期:2019-08-07 10:11
一种图案描绘装置,通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案,具备:光源装置(14),其射出上述激光;多个描绘单元(U1~U6),其用于入射上述激光来生成上述扫描点,包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统,并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描;和多个选择用光学元件(50、58、66),其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换,而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。

Patterns Exposure Device

【技术实现步骤摘要】
图案曝光装置本专利技术申请是国际申请日为2015年04月27日、国际申请号为PCT/JP2015/062692、进入中国国家阶段的国家申请号为201580034744.8、专利技术名称为“图案描绘装置、图案描绘方法、器件制造方法、激光光源装置、光束扫描装置及光束扫描方法”的专利技术申请的分案申请。
本专利技术涉及使照射在被照射体上的光束的点光进行扫描的光束扫描装置及光束扫描方法、使点光进行扫描而在被照射体上描绘出规定图案的图案描绘装置及图案描绘方法、使用了该图案描绘方法的器件制造方法、和图案描绘装置及光束扫描装置中使用的激光光源装置。
技术介绍
如日本特开昭61-134724号公报及日本特开2001-133710号公报公开那样,已知有如下激光照射装置、激光描绘装置:通过半反射镜将来自一个激光振荡器(激光束光源)的激光束分割为二,使分割得到的激光束各自向两个多面镜(polygonmirror)(旋转多面镜)入射,由此使两束激光束在被描绘体上进行扫描。另外,在日本特开2001-133710号公报中也公开了通过使向两个多面镜入射的分割得到的两束激光束各自通过AOM(声光调制元件)而被调制,其中该AOM响应描绘数据而接通/断开(On/Off)。
技术实现思路
但是,在基于多面镜进行的光束扫描中,根据多面镜的反射面数、多面镜之后的光学系统(fθ透镜等)的入射条件等,而具有在多面镜的旋转中存在无法将入射的激光束朝向被描绘体有效地反射的期间的情况。因此,即使如以往那样通过半反射镜将激光束分割为二并使其入射到两个多面镜,有时也存在无法将激光束有效地照射于被描绘体的期间、即非描绘期间,从而无法有效地利用来自光源的激光束。本专利技术的第1方案为一种图案描绘装置,通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案,具备:光源装置,其射出上述激光;多个描绘单元,其用于入射上述激光来生成上述扫描点,包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统,并设置成使上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描;和多个选择用光学元件,其为了对是否使来自上述光源装置的上述激光向上述多个描绘单元中的被选择的上述描绘单元入射进行切换,而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置。本专利技术的第2方案为一种图案描绘装置,通过激光的扫描点在被照射体上描绘出规定的图案,具备:光源装置,其射出上述激光;多个描绘单元,其为了入射上述激光来生成上述扫描点,而包含用上述激光进行扫描的光扫描部件和光学透镜系统,并设置成上述扫描点在上述被照射体上的不同区域进行扫描;多个选择用光学元件,其为了使来自上述光源装置的上述激光选择性地向上述多个描绘单元入射,而沿着来自上述光源装置的上述激光的行进方向直列地配置;和描绘用光调制器,其基于对要由上述扫描点在上述被照射体上描绘的图案进行规定的上述多个描绘单元各自的描绘数据,来调制向上述多个选择用光学元件入射的上述激光的强度。本专利技术的第3方案具备:脉冲光源装置,其产生能够调整振荡周期的脉冲状的光束;第1描绘单元,其将来自上述脉冲光源装置的光束作为点光投射到被照射体上,并且以使该点光向上述被照射体的投射期间和非投射期间按规定的周期反复的方式使上述光束偏转,在上述投射期间内使上述点光沿着上述被照射体上的第1描绘线进行扫描;第2描绘单元,其将来自上述脉冲光源装置的光束作为点光投射到上述被照射体上,并且以使上述投射期间和上述非投射期间按规定的周期反复的方式使上述光束偏转,在上述投射期间内使上述点光沿着与上述第1描绘线不同的上述被照射体上的第2描绘线进行扫描;第1控制系统,其同步控制上述第1描绘单元和上述第2描绘单元,使得上述第1描绘单元的上述投射期间与上述第2描绘单元的上述非投射期间对应,上述第2描绘单元的上述投射期间与上述第1描绘单元的上述非投射期间对应;和第2控制系统,其控制上述脉冲光源装置,使得在上述第1描绘单元中的上述投射期间内,基于要由上述第1描绘线描绘的图案的第1描绘信息来控制上述光束的振荡,在上述第2描绘单元的上述投射期间内,基于要由上述第2描绘线描绘的图案的第2描绘信息来控制上述光束的振荡。本专利技术的第4方案为一种图案描绘装置,一边根据描绘数据对会聚在被照射体上的紫外激光的点光进行强度调制,一边使上述点光和上述被照射体进行相对扫描,由此在上述被照射体上描绘出图案,具备:激光光源装置,其包含产生作为上述紫外激光的来源的种光的光源部、入射上述种光并将其放大的光放大器、和从放大后的上述种光生成上述紫外激光的波长转换光学元件;和描绘用调制装置,其为了对上述点光进行强度调制,而根据上述描绘数据来调制从上述光源部产生的上述种光的强度。本专利技术的第5方案为一种图案描绘方法,一边根据描绘数据对会聚在被照射体上的紫外激光的点光进行强度调制,一边使上述点光和上述被照射体进行相对扫描,由此在上述被照射体上描绘出图案,包含:转换工序,通过光放大器将作为上述紫外激光的来源的种光放大,并通过波长转换光学元件将放大后的上述种光转换成上述紫外激光;和调制工序,为了对上述点光进行强度调制,而根据上述描绘数据来调制向上述光放大器入射的上述种光的强度。本专利技术的第6方案为一种器件制造方法,包含:一边使作为上述被照射体而准备的光感应性的基板沿第1方向移动,一边通过上述第5方案的图案描绘方法在上述基板的光感应层上描绘器件用图案;和根据上述光感应层的上述点光的照射部分与非照射部分的不同,选择性地形成规定的图案材料。本专利技术的第7方案为一种激光光源装置,与通过会聚在被照射体上的点光来描绘出图案的装置连接,且射出成为上述点光的光束,具备:第1半导体光源,其响应于规定周期的时钟脉冲,产生发光时间相对于上述规定周期短且峰值强度高的急剧升降的第1脉冲光;第2半导体光源,其响应于上述时钟脉冲,产生发光时间比上述规定周期短且比上述第1脉冲光的发光时间长、峰值强度低的宽广的第2脉冲光;光纤光放大器,其入射上述第1脉冲光或上述第2脉冲光;和切换部件,其基于要描绘的图案信息的输入,进行光学切换,以在上述点光向上述被照射体上投射时,使上述第1脉冲光向上述光纤光放大器入射,在上述点光不向上述被照射体上投射时,使上述第2脉冲光向上述光纤光放大器入射。本专利技术的第8方案为一种光束扫描装置,以规定的位置关系配置有多个扫描单元,该扫描单元具备使来自光源装置的光束反复偏转的旋转多面镜、和入射偏转了的上述光束并使其会聚成在被照射体上进行一维扫描的点光的投射光学系统,所述光束扫描装置具备:光束切换部件,其以使来自上述光源装置的上述光束向多个上述扫描单元中的进行上述点光的一维扫描的一个上述扫描单元入射的方式,切换上述光束的光路;和光束切换控制部,其控制上述光束切换部件,使得基于上述扫描单元的上述旋转多面镜实现的上述光束的偏转按上述旋转多面镜的每隔至少一个的反射面反复进行,使多个上述扫描单元各自按顺序进行上述点光的一维扫描。本专利技术的第9方案为一种光束扫描装置,具有多个以规定的位置关系配置有多个扫描单元的扫描模块,该扫描单元具有为了使来自光源装置的光束反复偏转而以一定的旋转速度旋转的旋转多面镜、和入射偏转了的上述光束并将其会聚成在被照射体上进行一维扫描的点光的投射光学系统,所述光束扫描装置具备:光束切换部件,其以使来自上述光源本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图案曝光装置,从沿着与第1方向正交的第2方向配置的多个描绘单元的每一个描绘单元将光束投射到基板上,其中所述第1方向是被图案曝光的所述基板移动的方向,所述光束与所述图案的描绘数据相应地被强度调制,所述图案曝光装置的特征在于,具备:描绘头支承部,其分为以在第1曝光位置对所述基板描绘所述图案的方式配置的奇数号的多个描绘单元、和以在第2曝光位置对所述基板描绘所述图案的方式配置的偶数号的多个描绘单元的状态支承所述多个描绘单元的每一个描绘单元,其中所述第1曝光位置在所述基板的移动方向上设定在上游侧,所述第2曝光位置在所述基板的移动方向上设定在距所述第1曝光位置规定间隔的下游侧;第1光源装置,其用于对所述奇数号的多个描绘单元的每一个描绘单元供给所述光束;第2光源装置,其用于对所述偶数号的多个描绘单元的每一个描绘单元供给所述光束;光束切换部,其包括与所述奇数号的多个描绘单元的每一个描绘单元对应地设置,以使得按第1顺序分时地将来自所述第1光源装置的所述光束供给到所述奇数号的多个描绘单元中的某一个的多个选择用光学元件、和与所述偶数号的多个描绘单元的每一个描绘单元对应地设置,以使得按第2顺序分时地将来自所述第2光源装置的所述光束供给到所述偶数号的多个描绘单元中的某一个的多个选择用光学元件;以及第1描绘用光调制器,其按所述第1顺序输入要在所述奇数号的多个描绘单元各自中描绘的图案的描绘数据,并基于输入的所述描绘数据对来自所述第1光源装置的所述光束进行强度调制;以及第2描绘用光调制器,其按所述第2顺序输入要在所述偶数号的多个描绘单元各自中描绘的图案的描绘数据,并基于输入的所述描绘数据对来自所述第2光源装置的所述光束进行强度调制。...

【技术特征摘要】
2014.04.28 JP 2014-092862;2015.04.15 JP 2015-083661.一种图案曝光装置,从沿着与第1方向正交的第2方向配置的多个描绘单元的每一个描绘单元将光束投射到基板上,其中所述第1方向是被图案曝光的所述基板移动的方向,所述光束与所述图案的描绘数据相应地被强度调制,所述图案曝光装置的特征在于,具备:描绘头支承部,其分为以在第1曝光位置对所述基板描绘所述图案的方式配置的奇数号的多个描绘单元、和以在第2曝光位置对所述基板描绘所述图案的方式配置的偶数号的多个描绘单元的状态支承所述多个描绘单元的每一个描绘单元,其中所述第1曝光位置在所述基板的移动方向上设定在上游侧,所述第2曝光位置在所述基板的移动方向上设定在距所述第1曝光位置规定间隔的下游侧;第1光源装置,其用于对所述奇数号的多个描绘单元的每一个描绘单元供给所述光束;第2光源装置,其用于对所述偶数号的多个描绘单元的每一个描绘单元供给所述光束;光束切换部,其包括与所述奇数号的多个描绘单元的每一个描绘单元对应地设置,以使得按第1顺序分时地将来自所述第1光源装置的所述光束供给到所述奇数号的多个描绘单元中的某一个的多个选择用光学元件、和与所述偶数号的多个描绘单元的每一个描绘单元对应地设置,以使得按第2顺序分时地将来自所述第2光源装置的所述光束供给到所述偶数号的多个描绘单元中的某一个的多个选择用光学元件;以及第1描绘用光调制器,其按所述第1顺序输入要在所述奇数号的多个描绘单元各自中描绘的图案的描绘数据,并基于输入的所述描绘数据对来自所述第1光源装置的所述光束进行强度调制;以及第2描绘用光调制器,其按所述第2顺序输入要在所述偶数号的多个描绘单元各自中描绘的图案的描绘数据,并基于输入的所述描绘数据对来自所述第2光源装置的所述光束进行强度调制。2.如权利要求1所述的图案曝光装置,其特征在于,与所述奇数号的多个描绘单元分别对应地设置的所述多个选择用光学元件的每一个选择用光学元件是声光调制元件,其配置为使得来自所述第1光源装置的所述光束直列地通过,并通过电气控制来选择性地使来自所述第1光源装置的所述光束的行进方向因衍射而朝向所述奇数号的多个描绘单元的某一个偏转,与所述偶数号的多个描绘单元分别对应地设置的所述多个选择用光学元件的每一个选择用光学元件是声光调制元件,其配置为使得来自所述第2光源装置的所述光束直列地通过,并通过电气控制来选择性地使来自所述第2光源装置的所述光束的行进方向因衍射而朝向所述偶数号的多个描绘单元的某一个偏转。3.如权利要求2所述的图案曝光装置,其特征在于,所述第1光源装置和所述第2光源装置分别包括:激光光源部,其输出尖锐脉冲状的第1种光和缓和脉冲状的第2种光,其中,所述第1种光是响...

【专利技术属性】
技术研发人员:加藤正纪
申请(专利权)人:株式会社尼康
类型:发明
国别省市:日本,JP

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