【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法
本专利技术涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
目前的显示类型主要包括液晶显示(LiquidCrystalDisplay，LCD)、有机发光二极管显示(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)、等离子显示(PlasmaDisplayPanel，PDP)和电子墨水显示等多种。其中，OLED显示器以其轻薄、主动发光、快响应速度、广视角、色彩丰富及高亮度、低功耗、耐高低温等众多优点而被业界公认为是继LCD显示器之后的第三代显示技术，可以广泛用于智能手机、平板电脑、电视等终端产品。用喷墨打印工艺来制备OLED器件，需要发光区的表面越平坦越好，这样会使OLED层就可以膜厚均匀，但是通常基板制作的时候会有各种走线和过孔，这样会造成层间结构的起伏。如图1所示，通常的TFT基板都会制作平坦化层，对于平整度要求较高的喷墨打印技术来讲，平坦化层需要做的很厚并且厚度不均匀，一方面浪费材料，另一方面材料太厚曝光工艺也比较难控制，导致整个发光区的层间厚度不均，材料的杂质含量增加，影响阵列基板性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，本专利...
【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区，所述显示区中具有发光区；所述发光区包括：基板；缓冲层，具有第一槽孔，所述第一槽孔贯穿所述缓冲层且对应于发光区；层间绝缘层，填充于所述第一槽孔且覆于所述缓冲层上，所述层间绝缘层具有第一凹槽，所述第一凹槽位于所述层间绝缘层远离所述缓冲层的一侧且对应于所述第一槽孔；钝化层，填充于所述第一凹槽且覆于所述层间电介质层上，所述钝化层具有第二凹槽，所述第二凹槽位于所述钝化层远离所述层间电介质层的一侧且对应于所述第一凹槽；平坦化层，填充并覆于所述间电介质层上；金属走线，设于所述平坦化层且对应于所述发光区。
【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区，所述显示区中具有发光区；所述发光区包括：基板；缓冲层，具有第一槽孔，所述第一槽孔贯穿所述缓冲层且对应于发光区；层间绝缘层，填充于所述第一槽孔且覆于所述缓冲层上，所述层间绝缘层具有第一凹槽，所述第一凹槽位于所述层间绝缘层远离所述缓冲层的一侧且对应于所述第一槽孔；钝化层，填充于所述第一凹槽且覆于所述层间电介质层上，所述钝化层具有第二凹槽，所述第二凹槽位于所述钝化层远离所述层间电介质层的一侧且对应于所述第一凹槽；平坦化层，填充并覆于所述间电介质层上；金属走线，设于所述平坦化层且对应于所述发光区。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第二凹槽的深度小于或等于所述第一槽孔的深度；所述第一槽孔的深度为100～500nm。3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述层间绝缘层厚度为200～1000nm；所述钝化层厚度为100～500nm；所述平坦化层厚度为0.5～2nm。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述层间绝缘层为氧化硅层、氮化硅层、氧化硅和氮化硅复合层中的一种；所述钝化层为氧化硅层、氮化硅层、氧化硅和氮化硅复合层中的一种；所述平坦化层所用材料为光阻材料。5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属走线为阳极走线，在所述发光区中，所述显示面板还包括像素定义层，覆于所述平坦化层上，其具有开槽贯穿所述像素定义层且对应于所述阳极走线，所述阳极走线显露于所述开槽中；发光层，设于所述开槽中的所述阳极上。6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，在所述显示区中，所述显示面板还包括半导体层，覆于所述缓冲层远离所述基板的一侧；所述半导体层具有源极区和漏极区；栅极绝缘层，覆于所述缓冲层与所述半导体层上；栅极金属层，覆于所述栅极绝缘层上；源漏极走线，覆于所述层间绝缘层上，所述源漏极走线对应的...
【专利技术属性】
技术研发人员：周星宇，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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