超支化聚合物及其制造方法、以及组合物技术

本发明专利技术提供一种可以由酸容易地分解主链的超支化聚合物。该超支化聚合物是使分子内具有3个以上的羟基的单体(X)与分子内具有2个以上的下述通式(y)所示的基团的单体(Y)反应而得到的，其中，作为单体(X)，含有选自由环糊精、下述通式(I)所示的化合物、柱芳烃、下述通式(II)所示的化合物、下述通式(III)所示的化合物、及下述通式(IV)所示的化合物构成的组中的至少一种化合物，作为单体(Y)，含有下述通式(1)所示的化合物。

Hyperbranched polymers, their manufacturing methods, and compositions

【技术实现步骤摘要】
超支化聚合物及其制造方法、以及组合物本申请是中国申请号为201580047099.3、专利技术名称为“超支化聚合物及其制造方法、以及组合物”且申请日为2015年7月31日的专利申请的分案申请。
本专利技术特别涉及一种可以作为抗蚀材料的超支化聚合物及其制造方法、以及含有上述超支化聚合物的组合物。本申请主张2014年9月2日在日本申请的日本特愿2014-178532号、及2015年6月22日在日本申请的日本特愿2015-124535号的优先权，在此引用其内容。
技术介绍
在作为微细加工技术的光刻领域中，LSI的高集成化和其制造的高速度化正在发展。因此，正在集中精力进行可以对应于上述高集成化和高速度化的抗蚀材料的开发。近年来，对于抗蚀材料，主要要求以纳米水平控制显影后的表面平滑性、以及在使用了低输出功率光源的情况下也具有良好的灵敏度。兼备这种特性的抗蚀材料由于分辨率、LWR(linewidthroughness)及灵敏度优异，因此，例如有可能可以作为能够进行非常高度的微细加工的极端紫外线(EUV)用抗蚀材料使用。作为抗蚀材料，例如提出了在侧链上具有羧基或酚性羟基的高分子的主链上导入酸分解性本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超支化聚合物，其是使分子内具有3个以上羟基的单体(X)与分子内具有2个以上下述通式(y)所示基团的单体(Y)进行反应而得到的，

【技术特征摘要】
2014.09.02 JP 2014-178532;2015.06.22 JP 2015-124531.一种超支化聚合物，其是使分子内具有3个以上羟基的单体(X)与分子内具有2个以上下述通式(y)所示基团的单体(Y)进行反应而得到的，式(y)中，Ry1表示氢原子或碳原子数为1～16的烷基；Ry2及Ry3相同或不同，表示氢原子、烷基或环烷基；并且，Ry1、Ry2及Ry3中的至少2个任选相互键合并与相邻的1个或2个碳原子一起形成环，其中，作为单体(X)，包含下述通式(I)所示的化合物，式(I)中，p表示1、3或5，q相同或不同，表示1～3的整数，Ra表示氢原子、碳原子数为1～4的烷基或叔丁基苯基，作为单体(Y)，包含选自下述通式(2t)所示的化合物、下述通式(2x)所示的化合物、下述通式(2y)所示的化合物中的至少一种，2.如权利要求1所述的超支化聚合物，其数均分子量为2000～20000。3.如权利要求1或2所述的超支化聚合物，其是除了使单体(X)和单体(Y)反应之外，进一步使下述通式(3)所示的化合物进行反应而得到的，式(3)中，R4表示氢原子或碳原子数为1～16的烷基；R5及R6相同或不同，表示...

【专利技术属性】
技术研发人员：工藤宏人，高瀬一郎，
申请(专利权)人：学校法人关西大学，株式会社大赛璐，
类型：发明
国别省市：日本,JP