电磁波屏蔽体形成用遮蔽带制造技术

提供电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其为电磁波屏蔽体形成时所用的遮蔽带，对凹凸的追随性优异、并且可从凹凸面无残胶地剥离。本发明专利技术的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带具备弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍以上的粘合剂层，该粘合剂层的活性能量射线照射后的弹性模量为500MPa以下。

Shielding band for electromagnetic shield formation

【技术实现步骤摘要】
电磁波屏蔽体形成用遮蔽带
本专利技术涉及电磁波屏蔽体形成用遮蔽带。
技术介绍
以往，在电子部件上设置有电磁波屏蔽体，实现了防止来自外部的电磁波导致的该电子部件的误动作、或防止由该电子部件产生的电磁波的泄漏。近年来，从电子部件的小型化的观点出发，通过溅射、镀覆、喷涂等方法在电子部件上直接形成电磁波屏蔽体(金属层)(例如，专利文献1)。此时，在电极形成面等不需要形成电磁波屏蔽体的面，为了遮蔽该面而粘附粘合带。作为上述电子部件，有时使用具有凹凸面的电子部件(例如，具备凸块的电子部件)。对于遮蔽这种电子部件的凹凸面时使用的粘合带，要求良好地追随凹凸从而不在粘合带与粘附面之间产生不需要的空隙、在电磁波屏蔽体形成后可无残胶地剥离。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014-183180号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题本专利技术的课题在于，提供电磁波屏蔽体形成时所用的遮蔽带，该遮蔽带对凹凸的追随性优异、并且可从凹凸面无残胶地剥离。用于解决问题的方案本专利技术的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带具备弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍以上的粘合剂层，该粘合剂层的活性能量射线照射后的弹性模量为500MPa以下。1个实施方式中，上述电磁波屏蔽体形成用遮蔽带还具备基材，在该基材的至少一侧配置有前述粘合剂层。1个实施方式中，上述电磁波屏蔽体形成用遮蔽带还具备配置于上述粘合剂层的一侧的中间层。1个实施方式中，上述电磁波屏蔽体形成用遮蔽带还具备配置于上述粘合剂层与上述基材之间的中间层。1个实施方式中，上述粘合剂层的弹性模量(活性能量射线照射前)为0.07MPa～0.70MPa。1个实施方式中，上述中间层的弹性模量为0.07MPa～0.30MPa。1个实施方式中，上述电磁波屏蔽体形成用遮蔽带供于进行60℃～300℃的加热的加热工序。1个实施方式中，上述电磁波屏蔽体形成用遮蔽带用于具有高度50μm以上的凸块的面的遮蔽。专利技术的效果根据本专利技术，形成弹性模量可通过活性能量射线的照射而变化的粘合剂层，并将该弹性模量设为特定的范围，从而能够提供电磁波屏蔽体形成时所用的遮蔽带，该遮蔽带对凹凸的追随性优异、并且可从凹凸面无残胶地剥离。附图说明图1为本专利技术的1个实施方式的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带的截面示意图。图2为本专利技术的另一实施方式的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带的截面示意图。附图标记说明10基材20粘合剂层30中间层100遮蔽带具体实施方式A.电磁波屏蔽体形成用遮蔽带的概要图1为本专利技术的1个实施方式的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带的截面示意图。该实施方式的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带100具备基材10和配置于基材10的至少一侧的粘合剂层20。虽然未图示，但本专利技术的遮蔽带可以在直至供于使用之前的期间内出于保护粘合面的目的而在粘合剂层的外侧设置有剥离衬垫。需要说明的是，以下，本说明书中，有时也将电磁波屏蔽体形成用遮蔽带简称为遮蔽带。本专利技术的遮蔽带具备的粘合剂层的弹性模量可通过活性能量射线的照射而变化。更具体而言，上述粘合剂层的弹性模量通过活性能量射线的照射而变高，弹性模量成为活性能量射线照射前的20倍以上。作为活性能量射线，例如，可列举出γ射线、紫外线、可见光、红外线(热射线)、无线电波、α射线、β射线、电子束、等离子体流、电离射线、粒子束等。1个实施方式中，活性能量射线的照射为累积光量500mJ/cm2～4000mJ/cm2(优选800mJ/cm2～1500mJ/cm2、更优选1000mJ/cm2～1500mJ/cm2)的紫外线(使用以波长365nm为中心的高压汞灯)照射。粘合剂层的温度会因长时间照射而成为100℃以上的情况下，优选分多次进行照射。具备如上所述的粘合剂层的上述遮蔽带在粘附时具有适度的柔软性，能够追随性良好地粘附于具有凹凸的面(例如，封装体的凸块形成面)，能防止在粘附面与遮蔽带之间产生不需要的空隙。若利用这样的遮蔽带来遮蔽封装体的凸块形成面，则可防止在该封装体上设置电磁波屏蔽体时在凸块形成面上形成不需要的金属层。另一方面，在粘附后，通过活性能量射线照射，能够提高遮蔽带(实质上为粘合剂层)的弹性模量。例如，即使在带有遮蔽带的封装体供于加热工序(例如，60℃～270℃、优选60℃～200℃)的情况下，若使用本专利技术的遮蔽带，则粘合剂层的弹性模量高，因此也可防止该粘合剂层不必要地进入起因于凹凸而形成的空隙(例如，凸块下部与凸块形成面的间隙)。其结果，可防止在将该遮蔽带剥离掉时粘合剂层成分在粘附面上的残留(所谓残胶)。这样，本专利技术的成果之一是：可提供具备可表现出适于各工序的弹性模量的粘合剂层的遮蔽带作为电磁波屏蔽体形成时所用的遮蔽带。图2为本专利技术的另一实施方式的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带的截面示意图。该实施方式的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带200还具备中间层30。中间层30配置于粘合剂层20的一侧。如图2所示，电磁波屏蔽体形成用遮蔽带200具备基材10的情况下，中间层30配置于粘合剂层20与基材10之间。1个实施方式中，中间层具有比活性能量射线照射后的粘合剂层的弹性模量低的弹性模量。通过形成中间层，从而防止粘合剂层不必要地进入起因于凹凸而形成的空隙(例如，凸块下部与凸块形成面的间隙)，并且作为遮蔽带整体会维持适度的柔软性，能够得到可良好地遮蔽凹凸面的遮蔽带。将本专利技术的遮蔽带粘附于不锈钢板时的在23℃下的初始粘合力优选为0.4N/20mm以上、更优选为0.5N/20mm以上。为这样的范围时，能够得到适合作为电子部件用途的遮蔽带。将遮蔽带粘附于不锈钢板时的在23℃下的初始粘合力的上限例如为35N/20mm。需要说明的是，粘合力基于JISZ0237：2000来测定。具体而言，通过使2kg的辊往返1次，将遮蔽带粘附于不锈钢板(算术平均表面粗糙度Ra：50±25nm)，在23℃下放置30分钟后，在剥离角度180°、剥离速度(拉伸速度)300mm/分钟的条件下剥离遮蔽带，来进行测定。本说明书中，“初始粘合力”是指活性能量射线的照射前的粘合力。对于本专利技术的遮蔽带，粘合力可以通过活性能量射线照射而降低，优选具有规定的粘合力。将遮蔽带粘附于不锈钢板，照射紫外线(累积光量500mJ/cm2～4000mJ/cm2(优选800mJ/cm2～1500mJ/cm2、更优选1000mJ/cm2～1200mJ/cm2)后的在23℃下的粘合力优选为0.07N/20mm～0.5N/20mm、更优选为0.08N/20mm～0.3N/20mm。为这样的范围时，能够得到在电子部件上形成电磁波屏蔽体的工序(例如，溅射工序、镀覆工序或喷涂工序)中可良好地遮蔽该电子部件的遮蔽带。遮蔽带的厚度优选为70μm～600μm、更优选为80μm～500μm、进一步优选为100μm～500μm。B.粘合剂层如上所述，粘合剂层的弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍以上。优选的是，粘合剂层的弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍～6000倍、更优选成为50倍～5500倍、进一步优选成为100倍～4000倍。为这样的范围时，本申请专利技术的上述效果变得更显著。需要说明的是，本说明书中，只要没有特别说明，则“粘合剂层”是指活性能量射线照射前的粘合剂层。上述粘合剂层的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其具备弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍以上的粘合剂层，该粘合剂层的活性能量射线照射后的弹性模量为500MPa以下。

【技术特征摘要】
2018.01.19 JP 2018-0068831.一种电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其具备弹性模量通过活性能量射线照射而成为活性能量射线照射前的20倍以上的粘合剂层，该粘合剂层的活性能量射线照射后的弹性模量为500MPa以下。2.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其还具备基材，在该基材的至少一侧配置有所述粘合剂层。3.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其还具备配置于所述粘合剂层的一侧的中间层。4.根据权利要求2所述的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其还具备配置于所述粘合剂层与所述基材之间的中间层。5.根据权利要求1所述的电磁波屏蔽体形成用遮蔽带，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：大川雄士，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP