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压力跟随和配合跟随的密封结构及其电机-泵系统技术方案

技术编号:2170525 阅读:286 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是一种密封结构及其电机-泵系统。密封体12内腔E和压力跟随器(比如说是一个橡皮囊)9中都充满液体,通过管道11将密封体12内腔E与置于外部泵空间A的压力跟随器9连通,所以密封体12内腔E与压力跟随器9所处的外部空间A压力相等,从而实现无压差密封,使密封体的壁不受压力。同时,采用垂直于转轴的平面密封结构,旋转珐琅8可轴向移动地套在轴14上,用键配合随轴14旋转,在弹簧6的压力作用下,紧贴静珐琅12实现密封。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种密封结构及其电机-泵系统。其特征是压力跟随和配合跟随的结构以及采用这种结构做成的充液的特种电机和泵系统,其特征以图1为例进行说明,密封体12内腔E和压力跟随器(比如说是一个橡皮囊)9中都充满液体,通过管道11将密封体12内腔E与置于外部空间A(泵体4也处在空间A,其压力不断变化)的压力跟随器9连通,这就是压力跟随器的结构。(因为密封体12内腔E与压力跟随器9连通而压力完全相等,又因为压力跟随器9与它所处的外部空间A压力相等,)所以密封体12内腔E与压力跟随器9所处的泵体4外部空间A压力相等,从而实现无压差密封,使密封体的壁不受压力,这就是压力跟随原理。这对静密封而言对其密封层的强度和密封性的要求大大降低;对动密封而言,没有压差将使渗漏大大减小。对泵的密封结构而言,其转动轴14在D处的动密封(简称轴封)是 最困难的,本专利技术提出垂直于转轴的平面密封,旋转珐琅8可轴向移动地套在轴14上,用键配合随轴14旋转,密封圈7在珐琅8和转轴14之间实现静密封,空间A和空间E之间的泄漏仅仅发生在相对运动的两个平面(珐琅8和密封体珐琅12的接触面B、C)之间,这是动密封,在弹簧压力、磁引力或其它压力的作用下,使固定于密封体上的静珐琅平面C和固定于转轴上的旋转珐琅平面B紧密相贴,图1中,在弹簧6的压力作用下,珐琅8的旋转平面B与密封体12上的轴封静珐琅平面C紧密接触,两平面之间保证磨擦系数不大且接触压力适中(即磨擦力不大),但是配合的间隙却很小(即密封效果好),而且因为弹簧6的垂直于平面B的压力始终保持两平面的良好接触,并且即算两平面有磨损也会在压力的作用下不增加间隙,使两平面的配合处于一种自我调节的状态下,这就是配合跟随原理。弹簧6的支撑珐琅5固定于轴14随轴转动。密封圈7防止轴向泄漏,粗略看来密封圈7与传统的轴封是一回事,但是事实上密封圈7是静密封而传统的轴封是动密封,所以密封圈7不会有磨损,而且静密封更可靠。为了进一步加强密封效果,可以通过图2、图3和图4中 的隔离层12与外围密封层对定子线圈16实现静密封。还可以增加一级或多级隔离舱。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈启星
申请(专利权)人:陈启星
类型:发明
国别省市:43[中国|湖南]

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