基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备制造方法及图纸

本公开提供了一种基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备，该基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。

Substrate support device and substrate cleaning equipment including the substrate support device

【技术实现步骤摘要】
基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备
实施方式涉及一种基板支撑装置(也被称为，用于基板的支撑装置)以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备。
技术介绍
基板清洁操作可以在半导体器件制造工艺中进行，例如在制造具有电路图案形成在其上的掩模、晶片等的工艺中。
技术实现思路
实施方式可以通过提供一种用于基板的支撑装置来实现，该支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。实施方式可以通过提供一种基板清洁设备来实现，该基板清洁设备包括：基板支撑装置，基板可支撑在该基板支撑装置上；清洁室，提供其中容纳基板支撑装置的空间；以及清洁溶液喷嘴，朝向基板喷射清洁溶液，其中基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡。实施方式可以通过提供一种基板清洁设备来实现，该基板清洁设备包括：基板支撑装置，基板可支撑在该基板支撑装置上；清洁室，提供其中容纳基板支撑装置的空间；以及兆声波装置(me本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于基板的支撑装置，所述支撑装置包括：支撑件，所述基板可装载在该支撑件上；转子，旋转所述支撑件；以及振荡器，在垂直于所述基板的表面的方向上使所述基板振荡，其中所述基板根据所述基板的自然频率或者所述基板上的颗粒的自然频率振荡。

【技术特征摘要】
2018.01.15 KR 10-2018-00049211.一种用于基板的支撑装置，所述支撑装置包括：支撑件，所述基板可装载在该支撑件上；转子，旋转所述支撑件；以及振荡器，在垂直于所述基板的表面的方向上使所述基板振荡，其中所述基板根据所述基板的自然频率或者所述基板上的颗粒的自然频率振荡。2.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述自然频率的共振频率f0由下面的等式1定义，所述基板以所述共振频率的0.5倍至所述共振频率的1.5倍的共振频带振荡，[等式1]共振频率f0＝1/2π·√(k/m)，并且在等式1中，k是指所述基板或所述基板上的所述颗粒的弹性常数，并且m是指所述基板或所述基板上的所述颗粒的质量。3.如权利要求2所述的支撑装置，其中所述基板以所述共振频率振荡。4.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述基板包括SiO2，并且所述基板以7.7kHz至23.1kHz的频带振荡。5.如权利要求4所述的支撑装置，其中所述基板以15.4kHz的频率振荡。6.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述基板上的所述颗粒包括SiO2，并且所述基板以0.085kHz至0.255kHz的频带振荡。7.如权利要求6所述的支撑装置，其中所述基板以0.17kHz的频率振荡。8.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述转子关于旋转轴旋转所述支撑件，所述旋转轴与所述基板的中心垂直地重合，并且所述振荡器的中心与所述旋转轴垂直地重合。9.如权利要求8所述的支撑装置，其中：所述支撑件设置在所述转子的一个表面上，并且所述振荡器设置在所述转子的另一个表面上。10.如权利要求8所述的支撑装置，其中：所述支撑件设置在所述转子的一个表面上，并且所述振荡器设置在所述支撑件的一个表面上。11.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述振荡器包括多个压电元件，并且所述多个压电元件沿着所述支撑件的周边以等距离的间隔布置。12.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述振荡器包括至少一对压电元件，并且所述至少一对压电元件彼此面对而使所述支撑件的中心插置在其间。13.如权利要求1所述的支撑装置，其中所述基板是其上形成电路图案的掩模或晶片。14.如权利要求1所述的支撑装置，还包括固定器，该固定器形成在所述支撑件的边缘上并包括其中可插入所述基板的边缘的凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴钟根，任京彬，金炳局，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR