基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备制造方法及图纸

本公开提供了一种基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备，该基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。

Substrate support device and substrate cleaning equipment including the substrate support device

【技术实现步骤摘要】
基板支撑装置以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备
实施方式涉及一种基板支撑装置(也被称为，用于基板的支撑装置)以及包括该基板支撑装置的基板清洁设备。
技术介绍
基板清洁操作可以在半导体器件制造工艺中进行，例如在制造具有电路图案形成在其上的掩模、晶片等的工艺中。
技术实现思路
实施方式可以通过提供一种用于基板的支撑装置来实现，该支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡，其中基板根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率振荡。实施方式可以通过提供一种基板清洁设备来实现，该基板清洁设备包括：基板支撑装置，基板可支撑在该基板支撑装置上；清洁室，提供其中容纳基板支撑装置的空间；以及清洁溶液喷嘴，朝向基板喷射清洁溶液，其中基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡。实施方式可以通过提供一种基板清洁设备来实现，该基板清洁设备包括：基板支撑装置，基板可支撑在该基板支撑装置上；清洁室，提供其中容纳基板支撑装置的空间；以及兆声波装置(megasonicdevice)，朝向基板提供包括微气穴(micro-cavitation)的清洁溶液，其中基板支撑装置包括：支撑件，其上可装载基板；转子，旋转支撑件；以及振荡器，根据基板的自然频率或基板上的颗粒的自然频率在垂直于基板的表面的方向上使基板振荡。附图说明通过参照附图详细描述示范性实施方式，各特征对于本领域技术人员将变得明显，附图中：图1示出根据一示范性实施方式的基板清洁设备的侧剖视图；图2至图5的部分(a)示出根据一示范性实施方式的基板支撑装置的侧剖视图，图2至图5的部分(b)示出根据一示范性实施方式的基板支撑装置的俯视图；图6示出根据一示范性实施方式的固定器的侧剖视图；图7示出一视图，其简要地示出根据一示范性实施方式在振荡期间基板和颗粒的运动；图8示出曲线图，其示出根据一示范性实施方式的随频率变化的振荡的振幅；图9示出当共振频率的振荡被施加到根据示范性实施方式的基板时基板的弯曲率的视图；以及图10示出根据一示范性实施方式的基板清洁设备的侧剖视图。具体实施方式图1示出根据一示范性实施方式的基板清洁设备的剖视图。参照图1，根据一示范性实施方式的基板清洁设备可以包括基板支撑装置100、壳体200、清洁溶液喷嘴400和清洁室300。基板支撑装置100可以支撑基板W，并可以包括支撑件110、转子120、振荡器130和固定器140。基板W可以是在制造工艺中的掩模或晶片。基板W可以具有圆形平面形状。在一实施中，基板W可以是石英基板并可以包括硅氧化物(SiO2)。微电路图案可以形成在基板W的表面上。微电路图案可以形成为垂直于基板W。例如，微电路图案可以形成在基板W的主表面上(例如，使得微电路图案可以在垂直于或正交于基板W的主表面的平面图中是可见的)。颗粒P(见图7)可以位于基板W上形成的电路图案之间。颗粒P可以是制造工艺的副产物，例如颗粒P可以是在显影工艺期间产生的颗粒P或在蚀刻要经受掩蔽的膜的工艺期间产生的颗粒P。颗粒P可以包括SiO2。颗粒P可能是掩模或晶片的缺陷的起因。例如，持续保留在基板W的表面上的颗粒P会对随后的操作具有负面的影响。支撑件110可以提供用于装载基板W的空间。支撑件110可以以其中支撑件110的中心和基板W的中心彼此垂直地对准的布置形式来装载基板W。支撑件110的一个表面(例如顶表面)可以面对基板W。支撑件110的另一个表面(例如底表面)可以与转子120接触。固定器140(安装且固定基板W)可以形成在支撑件110的所述一个表面的边缘处或在该边缘上。在一实施中，支撑件110可以定位在壳体200的外面的中心上，如图1所示。在一实施中，支撑件110可以容纳在壳体200中。在一实施中，支撑件110可以是例如静电吸盘、工作台和框架中的任一个。支撑件110可以具有对应于基板W的形状的圆形平面形状。转子120可以使支撑件110旋转。在一实施中，支撑件110可以以约60rpm至约1000rpm旋转。在一实施中，转子120还可以包括电机和控制电机的驱动的驱动器。由电机的旋转引起的旋转力可以通过支撑件110传递到基板W。结果，转子120可以使基板W旋转。转子120可以使支撑件110关于旋转轴A旋转。旋转轴A可以穿过基板W的中心，或者可以同时穿过基板W的中心和支撑件110的中心。当支撑件110通过转子120关于旋转轴A旋转时，在基板W处可以产生离心力。朝向基板W的中心喷洒或喷射的清洁溶液可以由于该离心力从基板W的中心运动到基板W的边缘。清洁溶液的由于离心力的运动可以帮助去除位于基板W的表面上的颗粒P。振荡器130可以使基板W振荡。基板W的振荡方向可以是垂直于基板W的表面(例如主表面)的方向。振荡方向可以平行于旋转轴A。旋转轴A可以位于振荡器130的中心，因此振荡器130可以位于旋转轴A上。振荡器130可以包括至少一个压电元件。在一实施中，压电元件可以包括例如锆钛酸铅(PZT)作为压电陶瓷，该压电陶瓷在施加电压时产生机械振荡。振荡器130可以根据基板W的自然频率使基板W振荡，或者可以根据颗粒P的自然频率使基板W振荡。当基板W以所述自然频率振荡时，基板W的表面和颗粒P之间的接触面积可以减小。当接触面积减小时，基板W和颗粒P之间的粘附力可以减小。具有减小的粘附力的颗粒P可以通过朝向基板W的边缘运动的清洁溶液容易地去除。例如，振荡器130可以以被选择以使颗粒P从基板W移走的频率来使基板W振荡。使颗粒P从基板W最有效地移走的频率可以根据基板W的性质或颗粒P的性质来选择。固定器140可以安装并固定基板W。多个这样的固定器140可以形成在支撑件110的边缘上或在该边缘处。所述多个固定器140可以根据基板W的尺寸来布置。在一实施中，所述多个固定器140可以布置在对应于基板W的周边的位置。固定器140可以帮助防止旋转或振荡的基板W从支撑件110分离。在一实施中，固定器140可以是夹子或可以具有销形状(pinshape)。壳体200可以提供容纳基板支撑装置100的空间。在一实施中，转子120的电机和电机驱动器可以容纳在壳体200中，并且控制振荡器130的驱动的控制器可以容纳在壳体200中。在一实施中，如图1所示，转子120和振荡器130可以容纳在壳体200中。在一实施中，支撑件110也可以容纳在壳体200中。壳体200可以保护基板支撑装置100不受外部冲击。壳体200可以帮助防止清洁溶液流入和防止损坏转子120或振荡器130。清洁溶液喷嘴400可以朝向基板W喷洒或喷射清洁溶液。清洁溶液喷嘴400可以包括喷射臂420、喷射嘴410和喷射杆430。清洁溶液喷嘴400可以设置为毗邻清洁室300。喷射嘴410可以朝向基板W的中心直接地喷射清洁溶液。喷射嘴410可以垂直地面对基板W的中心。因此，喷射嘴410可以位于旋转轴A上。喷射嘴410可以形成在喷射臂420的一端处。例如，当喷射臂420水平地移动时，喷射嘴410可以因此也水平地移动。当喷射臂420垂直地移动时，喷射嘴410也可以垂直地移动。喷射嘴410的喷射位置可以根据需要来调整。喷射嘴本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于基板的支撑装置，所述支撑装置包括：支撑件，所述基板可装载在该支撑件上；转子，旋转所述支撑件；以及振荡器，在垂直于所述基板的表面的方向上使所述基板振荡，其中所述基板根据所述基板的自然频率或者所述基板上的颗粒的自然频率振荡。

【技术特征摘要】
2018.01.15 KR 10-2018-00049211.一种用于基板的支撑装置，所述支撑装置包括：支撑件，所述基板可装载在该支撑件上；转子，旋转所述支撑件；以及振荡器，在垂直于所述基板的表面的方向上使所述基板振荡，其中所述基板根据所述基板的自然频率或者所述基板上的颗粒的自然频率振荡。2.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述自然频率的共振频率f0由下面的等式1定义，所述基板以所述共振频率的0.5倍至所述共振频率的1.5倍的共振频带振荡，[等式1]共振频率f0＝1/2π·√(k/m)，并且在等式1中，k是指所述基板或所述基板上的所述颗粒的弹性常数，并且m是指所述基板或所述基板上的所述颗粒的质量。3.如权利要求2所述的支撑装置，其中所述基板以所述共振频率振荡。4.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述基板包括SiO2，并且所述基板以7.7kHz至23.1kHz的频带振荡。5.如权利要求4所述的支撑装置，其中所述基板以15.4kHz的频率振荡。6.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述基板上的所述颗粒包括SiO2，并且所述基板以0.085kHz至0.255kHz的频带振荡。7.如权利要求6所述的支撑装置，其中所述基板以0.17kHz的频率振荡。8.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述转子关于旋转轴旋转所述支撑件，所述旋转轴与所述基板的中心垂直地重合，并且所述振荡器的中心与所述旋转轴垂直地重合。9.如权利要求8所述的支撑装置，其中：所述支撑件设置在所述转子的一个表面上，并且所述振荡器设置在所述转子的另一个表面上。10.如权利要求8所述的支撑装置，其中：所述支撑件设置在所述转子的一个表面上，并且所述振荡器设置在所述支撑件的一个表面上。11.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述振荡器包括多个压电元件，并且所述多个压电元件沿着所述支撑件的周边以等距离的间隔布置。12.如权利要求1所述的支撑装置，其中：所述振荡器包括至少一对压电元件，并且所述至少一对压电元件彼此面对而使所述支撑件的中心插置在其间。13.如权利要求1所述的支撑装置，其中所述基板是其上形成电路图案的掩模或晶片。14.如权利要求1所述的支撑装置，还包括固定器，该固定器形成在所述支撑件的边缘上并包括其中可插入所述基板的边缘的凹...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴钟根，任京彬，金炳局，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR