一种真空吸附调平装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例属于激光加工设备技术领域，涉及一种真空吸附调平装置。本实用新型专利技术提供的方案为：一种真空吸附调平装置，包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。本实用新型专利技术所提供的吸附装置的通用性差好，不易破真空，能兼容吸附各同尺寸的小单元。并且调平机构可精确调节吸附装置与机械手的水平度，提高下料装置抓取吸附装置中的产品的准确率。

A Vacuum Adsorption Leveling Device

【技术实现步骤摘要】
一种真空吸附调平装置
本技术实施例涉及激光加工设备
，具体涉及中转放料台装置领域，特别是一种真空吸附调平装置。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)屏幕是对大片的panel(一种主要包含PET和PI等多层结构的柔性膜)进行激光切割成的小单元。在激光切割时，激光切割panel的效率远远高于取料机械手对小单元的下料速度。因此，需要一个中转放料台装置暂时放置切割的小单元。一般地，中转放料台装置都设有吸附台，用于吸附切割的小单元。在传统的吸附装置中，吸附盘上设有大量小孔用于释放真空装置的负压，以吸附产品。但是，传统吸附装置一般使用铝合金材料制作，由于材料本身的原因，现有的工艺技术不能对铝合金材料钻极小的孔，即现有技术的吸附板的孔径较大，使得吸附盘的孔径一般都在0.5mm以上。然而，该孔径的不能支持更换切割的小单元的尺寸，其在取料机构取料后，容易造成真空破空，使得吸附装置不能产生负压，从而失去吸附能力。此外，与OLED屏幕一样，机械手也是一种水平的结构，以便机械手抓取小单元。因此，在下料/取料时，机械手和吸附板应当是平行设置的，因而吸附装置对吸附板的水平度要求很高。倘若吸附板与机械手不平行，那么机械手不能完全抓取小单元，就会导致取料失败，从而影响下料速率，将小单元堆积在中转台吸附装置中，进而影响OLED屏幕的切割效率。
技术实现思路
本技术实施例所要解决的技术问题是：现有吸附装置的通用性差，不能兼容吸附不同尺寸的小单元；以及吸附装置与机械手的水平度不一致影响下料的问题。为了解决上述技术问题，本技术实施例所述的一种真空吸附调平装置，采用了如下所述的技术方案：一种真空吸附调平装置，包括：包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。所述真空层划分真空区域单独控制，一个真空区域被破真空，其他真空区域不受影响，以使所述真空层尽可能保护其真空环境，保持吸附能力。所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度，以便另外设置的取料装置抓取其上的OLED或者其他物料，从而快速下料。进一步地，一块或多块所述吸附板对应一个真空区域。进一步地，所述调平机构包括支撑板和多个具有多自由度的调平支脚，所述支撑板为平面板；多个所述调平支脚固定在所述支撑板邻近于所述吸附装置的表面，且多个所述调平支脚共同用于调节所述吸附板的水平度。多个所述调平支脚通过其自身水平度调节以及多个所述调平支脚之间的协同调节，使得所述吸附板的水平度与所述取料装置的水平度一致。进一步地，所述调平支脚包括第一支撑件、第二支撑件和调节机构，所述第一支撑件固定在所述支撑板上，所述调节机构设置在所述第一支撑件上，所述第二支撑件部分容纳在所述调节机构中，且所述第一支撑件与所述第二支撑件相对设置在所述调节机构的两端，所述调节机构与所述第一支撑件和所述第二支撑板均为活动连接：所述调节机构的底端可在所述第一支撑件内上下移动及旋转，顶端与所述第二支撑件多自由度活动连接；所述吸附装置固定在所述第二支撑件上，通过调节所述第二支撑件的水平度以调节所述吸附板的水平度。进一步地，所述调节机构包括外壳、调节柱、旋转球、第一锁紧环和第二锁紧环，所述调节柱的底端可在所述第一支撑件上沿所述调节柱轴向移动，并且所述调节柱与所述第一支撑件沿调节柱的轴向旋转连接，所述调节柱的顶端穿过所述外壳与所述旋转球固定，所述第二支撑件围绕所述旋转球多自由度活动连接，并且，所述第二支撑件与所述旋转球连接的部分包裹在所述外壳中；所述第一锁紧环套在所述第二支撑件上，用于锁定所述第二支撑件；所述第二锁紧环套在所述调节柱上，用于锁定所述调节柱。进一步地，所述第二支撑件包括平面块和台肩块，所述台肩块嵌套在所述外壳中，所述平面块与所述吸附装置固定连接，且所述台肩块设有圆形凹槽，所述旋转球与所述圆形凹槽内壁活动连接。进一步地，所述调平机构包括至少3个所述调平支脚。3个以上所述调平支脚使得其共同支撑的所述吸附装置更加平稳，便于调节所述吸附装置的水平度，同时避免吸附装置不平稳而难以取料。进一步地，该装置还包括废料清理辅助结构，其包括：两块挡板和一块导料板；两块所述挡板垂直设置在所述吸附板的两侧；所述导料板设置在所述吸附板上，且所述导料板垂直于所述挡板与所述吸附板的交线。所述废料清理辅助结构用于辅助清理装置快速将所述吸附板上的废料清理。其中，所述挡板用于防止废料从所述吸附板的两侧掉落，所述导料板用于引导废料掉落到废料收集器中。进一步地，该装置还包括转向机构，其包括底板、驱动机构、第一限位块和第二限位块，所述驱动机构、第一限位块和第二限位块均固定在所述底板上，且所述第一限位块、第二限位块靠近所述驱动机构；所述驱动机构还与所述调平机构固定；所述驱动机构用于驱动所述调平机构以及所述吸附装置旋转，以调节所述吸附装置的下料方向；所述驱动机构交替地被所述第一限位块或者所述第二限位块阻挡旋转，所述驱动机构的每次旋转的角度与所述第一限位块和第二限位块以所述驱动机构为中心形成的夹角的角度一致。所述转向机构用于调整所述吸附装置的下料方向。其中，所述驱动机构用于旋转所述吸附装置，通过所述第一限位块或者第二限位块阻挡，所述驱动机构将所述吸附装置的下料方向恰好转至另一个下料装置。进一步地，所述转向机构还包括多个气浮轴承，所述气浮轴承固定在所述底板上，所述气浮轴承用于从所述调平机构底端吹气间接限制所述吸附板随着所述驱动机构旋转时其表面跳动过大。所述吸附板的旋转过程中其表面跳动过大会使得吸附板上的OLED或者其他物料吸附不稳，所述气浮轴承用于抑制所述吸附板表面的跳动。与现有技术相比，本技术实施例主要有以下有益效果：本技术实施例公开了一种真空吸附调平装置，包括吸附装置和调平机构，所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域，每个真空区域产生的负压互不影响。多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个用于吸附物料的吸附孔，真空层产生的负压通过吸附孔吸附OLED以及其他物料；且该吸附板的通用性好，不易破真空，能兼容吸附各种尺寸的OLED以及其他物料。所述调平机构支撑所述吸附装置，且所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。调平机构可精确调节吸附装置与机械手的水平度，提高下料装置抓取吸附装置中的产品的准确率。附图说明图1为本技术实施例所述真空吸附调平装置的平面结构示意图；图2为图1的相反方向平面结构示意图；图3为本技术实施例所述真空吸附调平装置的立体结构示意图；图4为本技术实施例吸附装置的剖视图；图5为本技术实施例吸附板在特定仪器下显示的结构示意图；图6为本技术实施例调平支脚的立体图；图7为图6的主视图；图8为图7在A-A向的剖视图；图9为本技术实施例转向机构的立体结构示意图。10-吸附装置、20-调平机构、30-清理辅助结构、40-转向机构、11-吸附板、12-真空层、101-吸附孔、121-框体、21-支撑板、22-本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸附调平装置，其特征在于，包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附调平装置，其特征在于，包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。2.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，一块或多块所述吸附板对应一个真空区域。3.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平机构包括支撑板和多个具有多自由度的调平支脚，所述支撑板为平面板；多个所述调平支脚固定在所述支撑板邻近于所述吸附装置的表面，通过手动调节多个所述调平支脚，从而调节所述吸附板的水平度。4.根据权利要求3所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平支脚包括第一支撑件、第二支撑件和调节机构，所述第一支撑件固定在所述支撑板上，所述调节机构设置在所述第一支撑件上，所述第二支撑件部分容纳在所述调节机构中，且所述第一支撑件与所述第二支撑件相对设置在所述调节机构的两端，所述调节机构与所述第一支撑件和所述第二支撑板均为活动连接：所述调节机构的底端可在所述第一支撑件内上下移动及旋转，顶端与所述第二支撑件多自由度活动连接；所述吸附装置固定在所述第二支撑件上，通过调节所述第二支撑件的水平度以调节所述吸附板的水平度。5.根据权利要求4所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调节机构包括外壳、调节柱、旋转球、第一锁紧环和第二锁紧环，所述调节柱的底端可在所述第一支撑件上沿所述调节柱轴向移动，并且所述调节柱与所述第一支撑件沿调节柱的轴向旋转连接，所述调节柱的顶端穿过所述外壳与所述旋转球固定，所述第二支撑件围绕所述旋转球多...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭明森，艾晓国，饶浩乾，谢伟，何云，尹建刚，高云峰，
申请(专利权)人：大族激光科技产业集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44