一种真空吸附滑动装置制造方法及图纸

技术编号:14660864 阅读:81 留言:0更新日期:2017-02-17 03:01
本发明专利技术公开了一种真空吸附滑动装置,包括滑块和升降板,所述升降板位于所述滑块的上方,所述升降板与所述滑块平行,所述滑块的顶面上设置有一凹槽,所述真空吸附滑动装置所吸附的被吸附板设置在所述凹槽内,所述升降板上垂直设置有两根升降杆,所述两根升降杆的底端均设置有吸嘴,所述升降板上还设置有驱动所述升降板进行升降和水平运动的驱动装置,所述滑块设置有滑槽,所述滑槽与所述滑轨配合使所述滑块可以在所述滑轨上滑动。本发明专利技术的真空吸附滑动装置可以利用真空吸附来输运一些板形的零部件,对所输运零部件的表面损伤小,没有静电危害,并且滑块可以在滑轨上滑动,便于上料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空吸附滑动装置
技术介绍
在一些生产设备或生产线上,对一些板状零部件需要进行运送或移动。而真空输运的方法就是一种可采用的方式。有些板状零部件如果人工用手操作会对板面造成污染或损伤,影响板的质量,包括可能的静电危害。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种真空吸附滑动装置,该真空吸附滑动装置可以利用真空吸附来输运一些板形的零部件,对所输运零部件的表面损伤小,没有静电危害,并且滑块可以在滑轨上滑动,便于上料。为解决上述技术问题,本专利技术采用的一个技术方案是:提供一种真空吸附滑动装置,包括滑块和升降板,所述升降板位于所述滑块的上方,所述升降板与所述滑块平行,所述滑块的顶面上设置有一凹槽,所述真空吸附滑动装置所吸附的被吸附板设置在所述凹槽内,所述升降板上垂直设置有两根升降杆,所述两根升降杆的底端均设置有吸嘴,所述升降板上还设置有驱动所述升降板进行升降和水平运动的驱动装置,所述滑块设置有滑槽,所述滑槽与所述滑轨配合使所述滑块可以在所述滑轨上滑动。在本专利技术一个较佳实施例中,所述升降杆为中空的管状,所述升降杆的顶端连接有气管,所述气管内充有负压气体。在本专利技术一个较佳实施例中,所述滑块上设置有定位销,所述被吸附板上设置有定位孔,所述定位销与定位孔间隙配合。在本专利技术一个较佳实施例中,所述吸嘴与所述升降杆的所述中空部分连通。本专利技术的有益效果是:本专利技术的真空吸附滑动装置可以利用真空吸附来输运一些板形的零部件,对所输运零部件的表面损伤小,没有静电危害,并且滑块可以在滑轨上滑动,便于上料。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:图1是本专利技术的真空吸附滑动装置的实施例示意图。附图中各部件的标记如下:1、滑块,2、凹槽,3、被吸附板,4、升降板,5、升降杆,6、吸嘴,7、驱动装置,8、气管,9、滑轨,10、定位销。具体实施方式下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本专利技术保护的范围。请参阅图1,本专利技术实施例包括:一种真空吸附滑动装置,包括滑块1和升降板4,所述升降板4位于所述滑块1的上方,所述升降板4与所述滑块1平行,所述滑块1的顶面上设置有一凹槽2,所述真空吸附滑动装置所吸附的被吸附板3设置在所述凹槽2内,所述升降板4上垂直设置有两根升降杆5,所述两根升降杆5的底端均设置有吸嘴6,所述升降板4上还设置有驱动所述升降板4进行升降和水平运动的驱动装置7,所述滑块1设置有滑槽,所述滑槽与所述滑轨9配合使所述滑块可以在所述滑轨9上滑动。优选地,所述升降杆5为中空的管状,所述升降杆5的顶端连接有气管8,所述气管8内充有负压气体。优选地,所述滑块1上设置有定位销10,所述被吸附板3上设置有定位孔,所述定位销10与定位孔间隙配合。优选地,所述吸嘴6与所述升降杆5的所述中空部分连通。驱动装置7驱动升降板4下降,升降板4带动升降杆5和吸嘴6下降,吸嘴6压住被吸附板3,在气管8内负压气体的作用下吸嘴6将被吸附板3吸附住。驱动装置7驱动升降板4上升将被吸附板3提起并可以移走。整个过程不需要人工的手接触被吸附板3,不会对被吸附板3造成表面污染或是静电损害。定位销10对被吸附板3起定位作用,滑块1在滑轨9上滑动,可以将滑块1滑动到上料位置进行上料,安放被吸附板3。以上所述仅为本专利技术的实施例,并非因此限制本专利技术的专利范围,凡是利用本专利技术说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的
,均同理包括在本专利技术的专利保护范围内。本文档来自技高网
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一种真空吸附滑动装置

【技术保护点】
一种真空吸附滑动装置,其特征在于,包括滑轨、滑块和升降板,所述升降板位于所述滑块的上方,所述升降板与所述滑块平行,所述滑块的顶面上设置有一凹槽,所述真空吸附滑动装置所吸附的被吸附板设置在所述凹槽内,所述升降板上垂直设置有两根升降杆,所述两根升降杆的底端均设置有吸嘴,所述升降板上还设置有驱动所述升降板进行升降和水平运动的驱动装置,所述滑块设置有滑槽,所述滑槽与所述滑轨配合使所述滑块可以在所述滑轨上滑动。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸附滑动装置,其特征在于,包括滑轨、滑块和升降板,所述升降板位于所述滑块的上方,所述升降板与所述滑块平行,所述滑块的顶面上设置有一凹槽,所述真空吸附滑动装置所吸附的被吸附板设置在所述凹槽内,所述升降板上垂直设置有两根升降杆,所述两根升降杆的底端均设置有吸嘴,所述升降板上还设置有驱动所述升降板进行升降和水平运动的驱动装置,所述滑块设置有滑槽,所述滑槽与所述滑轨配合使所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈学兵王光辉
申请(专利权)人:苏州普京真空技术有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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