用于质子治疗装置的陶瓷真空室制造方法及图纸

本实用新型专利技术用于质子治疗装置的陶瓷真空室，所述的陶瓷真空室包括第一陶瓷管(2)、第二陶瓷管(5)，所述的第一陶瓷管(2)、第二陶瓷管(5)之间通过中封环(3)连接，在第一陶瓷管(2)的端部设置有法兰(1)，在第二陶瓷管(5)的端部设置有封接环(4)。所述的第一陶瓷管(2)内壁表面设置有导电层(6)。所述的第二陶瓷管(5)内壁表面设置有导电层(6)。本实用新型专利技术有益效果：结构设计合理、构思新颖、高真空、体积大、价格低廉、质子束流传输效率高，治疗效果好。

Ceramic Vacuum Chamber for Proton Therapy Device

【技术实现步骤摘要】
用于质子治疗装置的陶瓷真空室
本技术涉及电真空领域，具体涉及用于质子治疗装置的陶瓷真空室。
技术介绍
真空容器在高频交流电场或交变磁场下使用，由于会产生电涡流作用，不能用大断面的金属制造，因此会采用陶瓷真空室，陶瓷真空室的主要结构是电真空陶瓷管，电真空陶瓷管是以氧化铝为原料，采用等静压法、热压注法或冷浇注法成型，经高温烧结、高温釉烧等多道工艺制成，因此无法将陶瓷真空室的体积做大；再者现有使用于质子治疗装置的陶瓷真空室，是我国首台治疗癌症的医用设备的核心关键部件，由于陶瓷真空室的结构多为H型，因此治疗效果达不到最佳；另外在现有的陶瓷真空室中没有安装导电层，所以在质子束流传输的过程中能量损耗较大，容易引起陶瓷真空室发热，产生安全隐患。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，提出一种结构设计合理、构思新颖、高真空、体积大、价格低廉、质子束流传输效率高，治疗效果好的用于质子治疗装置的陶瓷真空室。本技术用于质子治疗装置的陶瓷真空室，所述的陶瓷真空室包括第一陶瓷管2、第二陶瓷管5，所述的第一陶瓷管2、第二陶瓷管5之间通过中封环3连接，在第一陶瓷管2的端部设置有法兰1，在第二陶瓷管5的端部设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于质子治疗装置的陶瓷真空室，其特征在于：所述的陶瓷真空室包括第一陶瓷管(2)、第二陶瓷管(5)，所述的第一陶瓷管(2)、第二陶瓷管(5)之间通过中封环(3)连接，在第一陶瓷管(2)的端部设置有法兰(1)，在第二陶瓷管(5)的端部设置有封接环(4)。

【技术特征摘要】
1.用于质子治疗装置的陶瓷真空室，其特征在于：所述的陶瓷真空室包括第一陶瓷管(2)、第二陶瓷管(5)，所述的第一陶瓷管(2)、第二陶瓷管(5)之间通过中封环(3)连接，在第一陶瓷管(2)的端部设置有法兰(1)，在第二陶瓷管(5)的端部设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：程航，万耿民，
申请(专利权)人：甘肃恒星特种陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：甘肃,62