一种磁头入壳整形设备的出料机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种磁头入壳整形设备的出料机构，包括机体及设置在机体上的治具主体，所述治具主体左右并列设置有两组U型磁头槽，两组磁头槽之间设置有横移连通口，其中左磁头槽左侧内壁上开设有正对于横移连通口的缺口，且两组磁头槽正上方还架设有气缸座，所述气缸座上设置有正对于横移连通口的磁头横拨部，其中磁头横拨部后侧的左磁头槽内设置有吸顶磁头部，且磁头横拨部前侧的右磁头槽内设置有磁头退出部。本实用新型专利技术结构简单，使用方便。

A discharging mechanism of magnetic head shell shaping equipment

【技术实现步骤摘要】
一种磁头入壳整形设备的出料机构
本专利技术涉及电子元器件加工
，特别涉及一种磁头入壳整形设备的出料机构。
技术介绍
磁头入壳方法是要把磁头铁芯通过机械干预的方式强制压入到磁头外壳内部规定的位置，并通过整形装置对其因装入铁芯而引起膨胀变形尺寸超标的外壳进行整形。其中在磁头入壳整形时需要设备将磁头固定在挤压入壳设备正下方，那么则需要设备对磁头进行固定防止其位移，同时磁头在入壳完毕后也需要设备将磁头导出。
技术实现思路
本专利技术的目的就是提供一种磁头入壳整形设备的出料机构。本专利技术的技术问题主要通过下述技术方案得以解决：一种磁头入壳整形设备的出料机构，包括机体及设置在机体上的治具主体，所述治具主体左右并列设置有两组U型磁头槽，两组磁头槽之间设置有横移连通口，其中左磁头槽左侧内壁上开设有正对于横移连通口的缺口，且两组磁头槽正上方还架设有气缸座，所述气缸座上设置有正对于横移连通口的磁头横拨部，其中磁头横拨部后侧的左磁头槽内设置有吸顶磁头部，且磁头横拨部前侧的右磁头槽内设置有磁头退出部。优选的，所述吸顶磁头部包括吸顶气缸，该吸顶气缸上设置有延伸至左磁头槽内的吸顶磁头块，其中吸顶磁头块顶端设置有传感器及吸磁铁。优选的，所述磁头横拨部包括安装在气缸座右侧的横拨气缸，其中横拨气缸上设置有延伸至左磁头槽正上方的L型横拨杆，且横拨杆的短边端位于缺口内，所述横拨杆可通过横拨气缸驱动并在缺口及横移连通口内进行左右移动。优选的，所述磁头退出部包括位于横移连通口前侧的退磁头块，其中退磁头块前端设置有L型连接块，且连接块与安装在治具主体上的退磁头气缸的气缸导柱连接。优选的，所述缺口底端与横移连通口底端处于同一水平面。本专利技术的有益效果是：本专利技术中当左磁头槽内的磁头挤压入壳完成后，吸拉住磁头的吸顶磁头块在左磁头槽内向后移动至横移连通口后侧，此时被吸拉住的磁头则正对于横移连通口，那么工作的横拨气缸带动横拨杆向右运动并将被吸磁铁吸拉住的磁头从吸磁铁上划落，并带动磁头在横移连通口内向右移动，使得磁头位移至右磁头槽内，其中当磁头由磁头横拨部拨动至右磁头槽内后，工作的退磁头气缸驱动连接块及退磁头块在右磁头槽内向后移动，并将后磁头槽内的磁头从其后端出口滑出。附图说明图1是本专利技术的结构示意图；图2是本专利技术的正视图；图3是本专利技术的局部结构示意图；图4是图3的俯视图；图5是本专利技术中磁头横拨部的结构示意图；图6是本专利技术中磁头退出部的结构示意图。图中：1、治具主体，2、磁头槽，3、横移连通口，4、缺口，5、气缸座，6、吸顶磁头部，61、吸顶气缸，62、吸顶磁头块，63、传感器，64、吸磁铁，7、磁头横拨部，71、横拨气缸，72、横拨杆，8、磁头退出部，81、退磁头块，82、退磁头气缸，83、连接块。具体实施方式下面通过实施例，并结合附图，对本专利技术的技术方案作进一步具体的说明。一种磁头入壳整形设备的出料机构，包括机体及设置在机体上的治具主体1，在治具主体1左右并列设置有两组U型磁头槽2，其中两组磁头槽2后侧之间设置有横移连通口3，且左磁头槽2左侧内壁上开设有正对于横移连通口3的缺口4，该缺口4底端与横移连通口3底端处于同一水平面，同时两组磁头槽2正上方还架设有气缸座5，在气缸座5上设置有正对于横移连通口3的磁头横拨部7，该磁头横拨部7可在横移连通口3内进行左右移动，从而将左磁头槽2内的磁头拨入右磁头槽2内。如图1、2、5所示，磁头横拨部7包括安装在气缸座5右侧的横拨气缸71，其中横拨气缸71上设置有延伸至左磁头槽2正上方的L型横拨杆72，而横拨杆72的短边端位于缺口4内，那么横拨杆72可通过横拨气缸71驱动并在缺口4及横移连通口3内进行左右移动，当左磁头槽2内的磁头从其前端开口流入其内部并流向横拨杆72正下方处时，由于横拨杆72的短边端位于缺口4内，导致其短边端不会妨碍左磁头槽2内的磁头顺利滑入横拨杆72正下方处，当磁头位于横拨杆72正下方处时，工作的横拨气缸71驱动横拨杆72在缺口4及横移连通口3内向右运动，并将此时位于其正下方的磁头沿横移连通口3拨入右磁头槽2内。其中为了防止左磁头槽2内的磁头直接从其后侧开口滑出，使得不能有效对左磁头槽2内的磁头进行定位缓冲，所以在磁头横拨部7后侧的左磁头槽2内设置有吸顶磁头部6，其中吸顶磁头部6包括安装在治具本体1后侧的吸顶气缸61，该吸顶气缸61上设置有延伸至左磁头槽2后侧内的吸顶磁头块62，并且吸顶磁头块62顶端设置有传感器63及吸磁铁64，当磁头滑入左磁头槽2内进行挤压入壳时，吸顶气缸61驱动吸顶磁头块62在左磁头槽2内向前移动，此时吸顶磁头块62上的吸磁铁64将左磁头槽2内靠近于其的磁头吸拉住，同时还将左磁头槽2内的磁头抵住防止其继续向后移动，使得挤压入壳设备可对其正下方的磁芯进行挤压入壳工作，当磁头完成入壳后，吸拉住磁头的吸顶磁头块62在左磁头槽2内向后移动至横移连通口3后侧，此时被吸拉住的磁头则正对于横移连通口3，而工作的横拨气缸71驱动横拨杆72在缺口4及横移连通口3内向右运动，并将此时位于其正下方的磁头沿横移连通口3拨入右磁头槽2内。如图1、3、4所示，在横移连通口3前侧的右磁头槽2内设置有磁头退出部8，磁头退出部8包括位于横移连通口3前侧的退磁头块81，其中退磁头块81前端设置有L型连接块83，且连接块83与安装在治具主体1上的退磁头气缸82的气缸导柱连接，当磁头由磁头横拨部7拨动至右磁头槽2内后，工作的退磁头气缸82驱动连接块83带动退磁头块81在右磁头槽2内向后移动，并推动右磁头槽2内的磁头朝其后端出口滑出，从而完成磁头的出料工作。本专利技术中当左磁头槽2内的磁头挤压入壳完成后，吸拉住磁头的吸顶磁头块62在左磁头槽2内向后移动至横移连通口3后侧，此时被吸拉住的磁头则正对于横移连通口3，那么工作的横拨气缸71带动横拨杆72向右运动并将被吸磁铁64吸拉住的磁头从吸磁铁64上划落，并带动磁头在横移连通口3内向右移动，使得磁头位移至右磁头槽2内，其中当磁头由磁头横拨部7拨动至右磁头槽2内后，工作的退磁头气缸82驱动连接块83及退磁头块81在右磁头槽2内向后移动，并将后磁头槽2内的磁头从其后端出口滑出。以上对本专利技术进行了详细说明，但所述内容仅为本专利技术的较佳实施例，不能被认为用于限定本专利技术的实施范围。凡依本专利技术申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本专利技术的专利涵盖范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁头入壳整形设备的出料机构，包括机体及设置在机体上的治具主体，其特征在于，所述治具主体左右并列设置有两组U型磁头槽，两组磁头槽之间设置有横移连通口，其中左磁头槽左侧内壁上开设有正对于横移连通口的缺口，且两组磁头槽正上方还架设有气缸座，所述气缸座上设置有正对于横移连通口的磁头横拨部，其中磁头横拨部后侧的左磁头槽内设置有吸顶磁头部，且磁头横拨部前侧的右磁头槽内设置有磁头退出部。

【技术特征摘要】
1.一种磁头入壳整形设备的出料机构，包括机体及设置在机体上的治具主体，其特征在于，所述治具主体左右并列设置有两组U型磁头槽，两组磁头槽之间设置有横移连通口，其中左磁头槽左侧内壁上开设有正对于横移连通口的缺口，且两组磁头槽正上方还架设有气缸座，所述气缸座上设置有正对于横移连通口的磁头横拨部，其中磁头横拨部后侧的左磁头槽内设置有吸顶磁头部，且磁头横拨部前侧的右磁头槽内设置有磁头退出部。2.根据权利要求1所述的一种磁头入壳整形设备的出料机构，其特征在于，所述吸顶磁头部包括吸顶气缸，该吸顶气缸上设置有延伸至左磁头槽内的吸顶磁头块，其中吸顶磁头块顶端设置有传感器及吸磁铁。3....

【专利技术属性】
技术研发人员：梁志吉，
申请(专利权)人：全南群英达电子有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36