掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法。即使在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准。搭载于将基板(S)的两面曝光的两面曝光装置的掩模对中的第一掩模(1)具有第一掩模标记11)与第一辅助掩模标记(12)，第二掩模(2)具有第二掩模标记(21)与第二辅助掩模标记(22)。在进行掩模(1、2)彼此的校准时，在离开了基板(S)的位置处将第一辅助掩模标记(12)与第二辅助掩模标记(22)重合并用相机8)确认该状态。在进行掩模(1、2)相对于基板(S)的校准时，将第一掩模标记(11)与第二掩模标记(21)重合，用相机(8)通过基板(S)的校准开口(Sm)进行摄影。

Mask Pair, Two-sided Exposure Device and Mask Replacement Method

【技术实现步骤摘要】
掩模对、两面曝光装置及掩模更换方法
本申请专利技术涉及用于柔性印刷基板等的制造的卷对卷(rolltoroll)方式那样的两面曝光装置。
技术介绍
将规定图案的光向对象物照射而进行曝光的曝光装置作为光刻的核心性的技术被用于各种用途。在曝光装置中有各种各样的类型，作为其中之一，已知有对带状的长条的基板的两面进行曝光的两面曝光装置。例如，在将柔性印刷基板那样的柔软的基板曝光的装置的情况下，采用以卷对卷的方式一边将基板输送一边进行曝光的构成。在基板的输送线路的两侧(通常为上下)配置有一对曝光单元。在输送线路的两侧设有掩模，曝光单元从两侧通过各掩模照射规定的图案的光，进行曝光。从卷拉出的基板的输送是间歇性的，向在输送后停止的基板中的位于一对曝光单元之间的部位的两面照射规定的图案的光，将两面同时曝光。由于这样的两面曝光装置也是曝光装置的一种，因此校准(对位)精度成为问题。在卷对卷方式的装置那样的对带状的长条的基板进行曝光的装置的情况下，光刻完成后在长度方向的适当的位置处切断，得到最终的产品。由于能够适当地选定切断位置，所以曝光装置中的长度方向的校准以往不那么成为问题。另一方面，一对掩模的相互的位置关系需要以较高的精度保持。即，这是因为，若一对掩模的位置关系的精度较差，则在最终的产品中基板的一侧的图案与另一侧的图案偏离，容易引起产品缺陷。因此，像专利文献1或专利文献2那样对一对掩模相互进行校准，使所形成的图案没有偏离。以往的状况是上述那样的，但是最近仅将一对掩模相互校准是不够的，要求也以足够高的精度进行相对于基板的对位。作为其一个背景，可列举伴随产品的高性能化，具有多层配线那样的复杂的构造的情况变多。若示出一个例子，在柔性印刷基板中引入多层配线那样的复杂的构造的情况下，在带状的基板上已经形成有图案、并在其上进一步涂覆抗蚀剂而进行曝光的情况较多。已有的图案沿着带状的基板的长度方向隔开间隔形成有多个，形成有各个图案的部分最终成为各个产品。在此情况下，在进一步的曝光中，需要对已经形成的图案以所需的位置精度进行曝光，且需要进行相对于基板的校准。另外，根据产品，有在已经形成有图案的部分之上层压另一个柔性的方形的基板，为了形成图案对该另一个基板(以下，称为上层基板)进行曝光的情况。在此情况下，也由于上层基板沿着带状的基板的长度方向隔着间隔层压有多个，所以需要在相对于各个上层基板进行了校准的状态下进行曝光。在这样也要求进行相对于基板的校准的情况下，需要在将一对掩模相互校准的基础上，一边保持该状态一边将该一对掩模相对于基板进行校准。因此，在专利文献2中，采用通过作为设于基板的校准标记的开口(以下，称为校准用开口)用相机对两侧的掩模的校准标记进行摄影的构成。专利文献1：日本特开2000－155430号公报专利文献2：日本特开2006－278648号公报
技术实现思路
在对上述那样的带状的长条的基板的两面进行曝光的两面曝光装置中，若将要形成的图案不同，则使用不同的一对掩模。因此，产生了根据产品更换掩模的需要。在该情况下，在从卷对卷输送方式这样的卷将基板拉出并进行曝光的类型的装置中，有在卷的中途产品的品种改变而产生更换一对掩模的需要的情况。在该情况下，作为掩模的更换作业，将基板暂时卷取，成为在曝光作业位置处没有基板的状态而对一对掩模进行更换更容易进行。然而，将处理到长度方向的中途的基板暂时卷取，在更换后再次拉出而使其变为原来的状态十分麻烦，并且有装置的运转长时间停止这一问题。因此，可能的话，更优选的是能够将基板保持原样地仅对一对掩模进行更换。然而，根据专利技术者的研究明确了在以往的掩模的情况下，从与校准的关系来看，上述那样的更换方法是非常费工夫的方法。关于这一点，以下具体地进行说明。为了以较高的精度相对于基板将一对掩模校准，优选的是如专利文献2所公开的那样，使各掩模的校准标记(以下，称为掩模标记)与基板的校准用开口在垂直于基板的光轴上排列，并用相机确认该状态的构成。此时，在各掩模上设有多个掩模标记，在基板上也以相同的位置关系设置多个校准用开口。以使各掩模标记及校准用开口在各个光轴上排列的方式调整各掩模的位置，由此进行校准。在上述那样的校准构造中，在一个掩模中各掩模标记当然落入基板的大小的范围内。即，若将平行于基板的板面且与长度方向垂直的方向设为基板宽度方向，则一个掩模中的各掩模标记的基板宽度方向的分离距离比基板的宽度短。在像上述那样更换了一对掩模时，需要首先进行掩模彼此的校准，但由于在仅安装了各掩模的状态下，各掩模标记与基板的校准用开口并未排列在一条直线上，因此从相机观察，相反侧(基板的背侧)的掩模的掩模标记被基板遮挡。基板为遮光性的情况较多，涂覆了抗蚀剂的状态为其典型。由于在掩模标记被基板遮挡的状态下无法进行掩模彼此的校准，因此成为如下非常麻烦的作业：首先搜索基板的校准用开口，使相反侧的掩模的掩模标记位于该位置，然后，使跟前侧的掩模的掩模标记位于一条直线上。特别是，使相反侧的掩模的掩模标记位于基板的校准用开口内的作业，由于必须要在掩模标记被遮挡的状态下进行，因此成为非常麻烦的作业。作为另一种方法，也可以是如下方法：将掩模拉出至相反侧的掩模的掩模标记不被基板遮挡的位置，在该位置处进行掩模彼此的校准。然而，在进行掩模彼此的校准时，需要也使相机移动，在进行校准后，需要再次返回到原来的位置。然后，校准了的一对掩模也需要返回到曝光作业位置，但需要用相机确认在返回时一对掩模是否没有偏离。然而，由于在返回了的位置处有基板，因此相反侧的掩模的校准标记不被相机捕获，无法确认是否保持了被校准的状态。为了确认产生了搜索基板的校准用开口，并以使各掩模标记位于该位置的的方式使各掩模一体地移动必要性。据此，明确了在以往的构成中，将基板保留在曝光作业位置的状态下的掩模的更换从与校准的关系来看是非常费工夫且麻烦的作业。本申请专利技术是为了解决这样的课题而作出的，目的是提供一种即使在在曝光作业位置处保留着基板的状态下，也可容易地进行更换后的掩模彼此的校准的掩模对的构成，且通过使用这样的掩模对使得整个更换作业在短时间内完成。为了解决上述课题，本申请的技术方案一所述的专利技术是由搭载于将基板的两面曝光的两面曝光装置的第一掩模与第二掩模构成的掩模对，具有如下构成，第一掩模具有为了相对于基板进行校准而设置的第一掩模标记、以及为了相对于第二掩模进行校准而设置的第一辅助掩模标记，第二掩模具有为了相对于基板进行校准而设置的第二掩模标记、以及为了相对于第一掩模进行校准而设置的第二辅助掩模标记，第一掩模标记与第二掩模标记在基板的宽度方向上的分离距离为基板的宽度以下，第一辅助掩模标记与第二辅助掩模标记在基板的宽度方向上的分离距离大于基板的宽度。另外，为了解决上述课题，技术方案二所述的专利技术具有如下构成，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；技术方案一所述的掩模对，配置于夹着被进给的基板的位置；以及曝光单元，在所述输送系统使基板停止而进行校准后，分别通过所述第一掩模、第二掩模向基板照射光，对基板的两面进行曝光，基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准标记，设置有：相机，能够对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及基板的校准标记进行摄影；相机移动机构，使相机移动；以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模对，该掩模对由搭载于将基板的两面曝光的两面曝光装置的第一掩模与第二掩模构成，其特征在于，所述第一掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第一掩模标记、以及为了相对于所述第二掩模进行校准而设置的第一辅助掩模标记，所述第二掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第二掩模标记、以及为了相对于所述第一掩模进行校准而设置的第二辅助掩模标记，所述第一掩模标记与所述第二掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离为所述基板的宽度以下，所述第一辅助掩模标记与所述第二辅助掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离大于所述基板的宽度。

【技术特征摘要】
2017.11.30 JP 2017-2312981.一种掩模对，该掩模对由搭载于将基板的两面曝光的两面曝光装置的第一掩模与第二掩模构成，其特征在于，所述第一掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第一掩模标记、以及为了相对于所述第二掩模进行校准而设置的第一辅助掩模标记，所述第二掩模具有为了相对于所述基板进行校准而设置的第二掩模标记、以及为了相对于所述第一掩模进行校准而设置的第二辅助掩模标记，所述第一掩模标记与所述第二掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离为所述基板的宽度以下，所述第一辅助掩模标记与所述第二辅助掩模标记在所述基板的宽度方向上的分离距离大于所述基板的宽度。2.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；权利要求1所述的掩模对，配置于夹着被进给的所述基板的位置；以及曝光单元，在所述输送系统使所述基板停止而进行校准后，分别通过所述第一掩模、第二掩模向所述基板照射光，对所述基板的两面进行曝光，所述基板具有相对于应曝光的区域以规定的位置关系设置的校准标记，设置有：相机，能够对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及所述基板的所述校准标记进行摄影；相机移动机构，使所述相机移动；以及校准机构，利用来自于对所述第一掩模标记、所述第二掩模标记以及所述基板的所述校准标记进行了摄影的所述相机的摄影数据，将所述第一掩模、第二掩模相对于所述基板的应曝光的区域进行对位，所述相机移动机构是如下机构：能够使所述相机在为了将所述第一掩模、第二掩模相对于所述基板校准而对所述第一掩模标记及所述第二掩模标记进行摄影的基板校准位置，以及为了将所述第一掩模、第二掩模彼此校准而对所述第一辅助掩模标记及所述第二辅助掩模标记进行摄影的掩模校准位置之间移动。3.一种两面曝光装置，其特征在于，具备：输送系统，将被卷成卷的柔性的基板拉出并间歇性地进给；权利要求1所述的掩模对，配置于夹着被进给的所述基板的位置；以及曝光单元，在所述输送系...

【专利技术属性】
技术研发人员：名古屋淳，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：日本,JP