一种用于硅环腐蚀的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种用于硅环腐蚀的装置及方法。装置包括腐蚀液槽、悬架、载片架、电动机、加热器；悬架具有两个悬臂并通过悬臂把手被支撑在腐蚀液槽上；两个悬臂的下部置于腐蚀液槽内，其下端分别具有挂钩；载片架具有三根连杆和两个圆盘，三根连杆的两端分别连接在两个圆盘上，其中一个圆盘连接齿轮，该齿轮通过传动轴连接电动机，三根连杆上设有承载硅环的凹槽；载片架的两端可旋转地承载在两个悬臂的挂钩上。方法为：加热腐蚀液；将硅环装在载片架上，并将载片架挂在悬臂上；将悬臂把手挂在腐蚀液槽上，使硅环没入腐蚀液，打开电动机，控制转速，调整腐蚀时间控制腐蚀去除量；清洗硅环。本发明专利技术简单易行，效率较高，大大降低了硅环腐蚀时间和成本。

【技术实现步骤摘要】
一种用于硅环腐蚀的装置及方法
本专利技术涉及一种用于硅环腐蚀的装置及方法，属于半导体材料制造领域。
技术介绍
在半导体晶圆的制造工序中普遍使用等离子体刻蚀工艺，等离子体刻蚀工艺是反应气体获得能量后产生等离子体，等离子体中包含离子、电子等带电粒子以及具有高度化学活性的中性原子、分子及自由基，等离子体中的阳离子和自由基与硅晶圆进行物理和化学反应，硅晶圆的表面被刻蚀，得到所需的图形。在该过程中，硅晶圆被置于载片台。由于工艺和硅晶圆尺寸的不同，载片台的结构也各不相同，统称为硅环。为避免引入沾污和划伤硅晶圆，等离子硅聚焦环通常需要进行抛光，而在抛光硅环前需要去除机械加工造成的损伤层并且释放出加工造成的内应力，因此需要对硅环进行腐蚀。而单独购置专业腐蚀设备，价格高昂并且效率极低。
技术实现思路
基于以上现有技术，本专利技术的目的在于提供一种用于硅环腐蚀的装置，该装置结构简单，成本低廉，简单高效。本专利技术的另一目的在于提供一种采用上述装置腐蚀硅环的方法。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种用于硅环腐蚀的装置，该装置包括腐蚀液槽、悬架、载片架、电动机、加热器，其中，悬架具有两个悬臂，该两个本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于硅环腐蚀的装置，其特征在于，该装置包括腐蚀液槽、悬架、载片架、电动机、加热器，其中，悬架具有两个悬臂，该两个悬臂上部分别设有悬臂把手，悬架通过该两个悬臂把手被支撑在腐蚀液槽上；两个悬臂的下部置于腐蚀液槽内，其下端分别具有挂钩；载片架具有三根连杆和两个圆盘，三根连杆的两端分别连接在两个圆盘上，其中一个圆盘连接齿轮，该齿轮通过传动轴连接电动机；三根连杆上设有用于承载硅环的凹槽；载片架的两端可旋转地承载在两个悬臂的挂钩上，加热器安装在腐蚀液槽内用于对腐蚀液加热。

【技术特征摘要】
1.一种用于硅环腐蚀的装置，其特征在于，该装置包括腐蚀液槽、悬架、载片架、电动机、加热器，其中，悬架具有两个悬臂，该两个悬臂上部分别设有悬臂把手，悬架通过该两个悬臂把手被支撑在腐蚀液槽上；两个悬臂的下部置于腐蚀液槽内，其下端分别具有挂钩；载片架具有三根连杆和两个圆盘，三根连杆的两端分别连接在两个圆盘上，其中一个圆盘连接齿轮，该齿轮通过传动轴连接电动机；三根连杆上设有用于承载硅环的凹槽；载片架的两端可旋转地承载在两个悬臂的挂钩上，加热器安装在腐蚀液槽内用于对腐蚀液加热。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：库黎明，朱秦发，李军，闫志瑞，李亚光，梦雪莹，
申请(专利权)人：有研半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11