一种低彩虹纹聚酯薄膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种低彩虹纹聚酯薄膜及其制备方法，所述低彩虹纹聚酯薄膜是由聚酯和表面改性料的混合料经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横双向拉伸、热定型而制成；所述聚酯选用特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000的聚酯；所述表面改性料选用粘度为0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由质量百分比0.2％～10％的纳米材料和99.8％～90％的分子量为20000～30000的共聚酯组成。本发明专利技术的优点在于：本发明专利技术生产工艺简单，且制备出低彩虹纹薄膜具有良好的光学性能和优异加工性能，尤其适用于各种光学显示器件领域的导电膜、保护膜和离型膜等。

【技术实现步骤摘要】
一种低彩虹纹聚酯薄膜及其制备方法
本专利技术属于聚对苯二甲酸乙二醇酯(以下简称：聚酯或PET)薄膜及其制备领域，特别涉及一种低彩虹纹聚酯薄膜及制备方法。
技术介绍
近年来随着显示器的全面普及，为了进一步提高高清显示效果，低彩虹纹聚酯薄膜就有了用武之地。目前，聚酯薄膜生产中低彩虹纹控制存在巨大的难度。核心的技术问题在于缺乏可达到低彩虹纹要求的原材料。现有技术是在聚酯薄膜表面涂敷一层高折的树脂来解决次问题，但此方法增加了加工环节，质量受到很大影响、低彩虹纹稳定性差，生产工艺复杂，成本增加。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种能够简化生产工艺、降低成本且保证低彩虹纹稳定性的低彩虹纹聚酯薄膜及其制备方法。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案为：一种低彩虹纹聚酯薄膜，其创新点在于：所述低彩虹纹聚酯薄膜为单层，其由质量百分比为90％～50％聚酯和10％～50％表面改性料的混合料经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横双向拉伸、热定型而制成；所述聚酯选用特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000的聚酯；所述表面改性料选用粘度为0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由质量百分比0.2％～10％的纳米材料和99.8％～90％的分子量为20000～30000的共聚酯组成。进一步地，所述聚酯为中国石化仪征化纤有限责任公司提供的FG600基料型膜级聚酯切片、江苏三房巷集团有限公司提供的CZ-5011超有光聚酯切片、以及日本帝人株式会社提供的TN8065S膜级聚酯切片中的一种或几种。进一步地，所述纳米材料为无机纳米材料或有机纳米材料，所述无机纳米材料为二氧化锆、氧化锌、氧化镁、二氧化钛中的一种或几种；所述有机纳米材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、脂环聚酰亚胺、苯基喹喔啉类、甲苯并噻唑巯酯类中的一种或几种。一种上述的低彩虹纹聚酯薄膜的制备方法，其创新点在于：所述制备方法包括如下步骤：步骤1：纳米浆料的制备：在室温下，将100质量份50nm～2000nm纳米材料和500质量份乙二醇投入带超高速搅拌的混合器中，搅拌均匀，制成纳米浆料，备用；步骤2：表面改性料的制备：在反应器中加入1000质量份苯二甲酸、370～385质量份乙二醇，1～1.5质量份催化剂，0.5～1质量份稳定剂，充入氮气，在230～260℃酯化反应2～3小时后反应结束，使反应器在真空度为0.08～0.09MPa下，同时保持温度在270～290℃进行缩聚反应，当树脂粘度0.30～0.40dL/g时，加入2.0～111.1质量份纳米浆料，在树脂粘度达到0.60～0.75dL/g时，终止缩聚反应，再经冷却、造粒，制得粘度为0.60～0.75dL/g、熔点为250～265℃、端羧基含量为15～30mol/t、分子量为20000～30000的共聚酯为99.8％～90％、纳米材料为0.2％～10％的表面改性料，备用；步骤3：低彩虹纹聚酯薄膜的制备：将干燥后的质量百分比为90％～50％聚酯和10％～50％表面改性料的混合料，送至挤出机Ⅰ内，在265～295℃温度下融熔、根据设定厚度经计量泵精确计量后，再从唇口模头挤出，在15～50℃冷鼓上铸片，并以5～70m/min速度进入3～5m长、65～95℃的纵向拉伸段拉伸3.0～3.8倍后，经冷却段冷却至20～45℃，此时经纵向拉伸的薄坯片以15～266m/min的速度进入预热与横拉箱，进入5～9m长、温度80～145℃的预热，然后在8～12m长、温度100～170℃的横向拉伸段拉伸3.0～4.5倍，再经温度在10～16m长、220～245℃的热定型段定型，再经30～35℃和在室温下两个阶段的冷却后收卷，得到低彩虹纹聚酯薄膜成品。进一步地，所述苯二甲酸为对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸的三种苯二甲酸混合物；所述催化剂为醋酸锑、三氧化二锑、乙二醇锑钛系的一种或几种，所述稳定剂为磷酸三甲酯、磷酸三苯酯中的一种或两种。一种低彩虹纹聚酯薄膜，其创新点在于：所述低彩虹纹的聚酯复合基膜为三层，依次由薄膜A、薄膜B和薄膜C共挤出复合而成；所述薄膜A和薄膜C层由质量百分比为80％～40％聚酯和20％～60％表面改性料的混合料经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横向拉伸、热定型而制成；所述薄膜B层由聚酯经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横向拉伸、热定型而制成；所述聚酯选用特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000的聚酯；所述表面改性料选用粘度为0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由质量百分比0.2％～10％的纳米材料和99.8％～90％的分子量为20000～30000的共聚酯组成。进一步地，所述聚酯为中国石化仪征化纤有限责任公司提供的FG600基料型膜级聚酯切片、江苏三房巷集团有限公司提供的CZ-5011超有光聚酯切片、以及日本帝人株式会社提供的TN8065S膜级聚酯切片中的一种或几种。进一步地，所述纳米材料为无机纳米材料或有机纳米材料，所述无机纳米材料为二氧化锆、氧化锌、氧化镁、二氧化钛中的一种或几种；所述有机纳米材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、脂环聚酰亚胺、苯基喹喔啉类、甲苯并噻唑巯酯类中的一种或几种。一种上述的低彩虹纹聚酯薄膜的制备方法，其创新点在于：所述制备方法包括如下步骤：步骤1：纳米浆料的制备：在室温下，将100质量份50nm～2000nm纳米材料和500质量份乙二醇投入带超高速搅拌的混合器中，搅拌均匀，制成纳米浆料，备用；步骤2：表面改性料的制备：表面改性料的制备：在反应器中加入1000质量份苯二甲酸、370～385质量份乙二醇，1～1.5质量份催化剂，0.5～1质量份稳定剂，充入氮气，在230～260℃酯化反应2～3小时后反应结束，使反应器在真空度为0.08～0.09MPa下，同时保持温度在270～290℃进行缩聚反应，当树脂粘度0.30～0.40dL/g时，加入2.0～111.1质量份纳米浆料，在树脂粘度达到0.60～0.75dL/g时，终止缩聚反应，再经冷却、造粒，制得粘度为0.60～0.75dL/g、熔点为250～265℃、端羧基含量为15～30mol/t、分子量为20000～30000的共聚酯为99.8％～90％、纳米材料为0.2％～10％的表面改性料，备用；步骤3：低彩虹纹聚酯薄膜的制备：将干燥后的质量百分比为90％～50％聚酯和10％～50％表面改性料的混合料、质量百分比为100％的聚酯分别送至挤出机Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ内，在265～295℃温度下融熔、根据薄膜A层、薄膜B层、薄膜C层的三层设定厚度经计量泵精确计量后，再依次经薄膜A、B、C三层的上下次序分别从三个唇口模头共挤出，在15～40℃冷鼓上铸片，并以5～70m/min速度进入3～5m长、65～90℃的纵向拉伸段拉伸3.0～3.8倍后，经冷却段冷却至20～45℃，此时经纵向拉伸的薄坯片以15～266m/min的速度进入预热与横拉箱，进入5～9m长、温度60～120℃的预热，然后在8～12m长、温度115～170℃的横向拉伸段拉伸3.0～4.5倍，再经温度在10～16m长、220～245℃的热定型段定型，再经30～35℃和在室温下两个阶段的冷却后收本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种低彩虹纹聚酯薄膜，其特征在于：所述低彩虹纹聚酯薄膜为单层，其由质量百分比为90％～50％聚酯和10％～50％表面改性料的混合料经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横双向拉伸、热定型而制成；所述聚酯选用特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000的聚酯；所述表面改性料选用粘度为0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由质量百分比0.2％～10％的纳米材料和99.8％～90％的分子量为20000～30000的共聚酯组成。

【技术特征摘要】
1.一种低彩虹纹聚酯薄膜，其特征在于：所述低彩虹纹聚酯薄膜为单层，其由质量百分比为90％～50％聚酯和10％～50％表面改性料的混合料经熔融混炼后挤出、铸片、再纵横双向拉伸、热定型而制成；所述聚酯选用特性粘度为0.62～0.68dL/g、熔点为255～265℃、分子量为20000～30000的聚酯；所述表面改性料选用粘度为0.60～0.75dL/g的表面改性材料，且所述表面改性料由质量百分比0.2％～10％的纳米材料和99.8％～90％的分子量为20000～30000的共聚酯组成。2.根据权利要求1所述的低彩虹纹聚酯薄膜，其特征在于：所述聚酯为中国石化仪征化纤有限责任公司提供的FG600基料型膜级聚酯切片、江苏三房巷集团有限公司提供的CZ-5011超有光聚酯切片、以及日本帝人株式会社提供的TN8065S膜级聚酯切片中的一种或几种。3.根据权利要求1所述的低彩虹纹聚酯薄膜，其特征在于：所述纳米材料为无机纳米材料或有机纳米材料，所述无机纳米材料为二氧化锆、氧化锌、氧化镁、二氧化钛中的一种或几种；所述有机纳米材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、脂环聚酰亚胺、苯基喹喔啉类、甲苯并噻唑巯酯类中的一种或几种。4.一种权利要求1所述的低彩虹纹聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括如下步骤：步骤1：纳米浆料的制备：在室温下，将100质量份50nm～2000nm纳米材料和500质量份乙二醇投入带超高速搅拌的混合器中，搅拌均匀，制成纳米浆料，备用；步骤2：表面改性料的制备：在反应器中加入1000质量份苯二甲酸、370～385质量份乙二醇，1～1.5质量份催化剂，0.5～1质量份稳定剂，充入氮气，在230～260℃酯化反应2～3小时后反应结束，使反应器在真空度为0.08～0.09MPa下，同时保持温度在270～290℃进行缩聚反应，当树脂粘度0.30～0.40dL/g时，加入2.0～111.1质量份纳米浆料，在树脂粘度达到0.60～0.75dL/g时，终止缩聚反应，再经冷却、造粒，制得粘度为0.60～0.75dL/g、熔点为250～265℃、端羧基含量为15～30mol/t、分子量为20000～30000的共聚酯为99.8％～90％、纳米材料为0.2％～10％的表面改性料，备用；步骤3：低彩虹纹聚酯薄膜的制备：将干燥后的质量百分比为90％～50％聚酯和10％～50％表面改性料的混合料，送至挤出机Ⅰ内，在265～295℃温度下融熔、根据设定厚度经计量泵精确计量后，再从唇口模头挤出，在15～50℃冷鼓上铸片，并以5～70m/min速度进入3～5m长、65～95℃的纵向拉伸段拉伸3.0～3.8倍后，经冷却段冷却至20～45℃，此时经纵向拉伸的薄坯片以15～266m/min的速度进入预热与横拉箱，进入5～9m长、温度80～145℃的预热，然后在8～12m长、温度100～170℃的横向拉伸段拉伸3.0～4.5倍，再经温度在10～16m长、220～245℃的热定型段定型，再经30～35℃和在室温下两个阶段的冷却后收卷，得到低彩虹纹聚酯薄膜成品。5.根据权利要求4所述的低彩虹纹聚酯薄膜的制备方法，其特征在于：所述苯二甲酸为对苯二甲酸、间苯二甲酸、邻苯二甲酸的三种苯二甲酸混合物；所述催化剂为醋酸锑、三氧化二锑、乙二醇锑钛系的一种或几种，所述稳定剂为磷酸三甲酯、磷酸三苯酯中的一种或两种。6.一种低彩虹纹聚酯薄膜，其特征在于：所述低彩虹纹的聚酯复合基膜为三层，依次由薄膜A、薄膜B和薄膜C共挤出复合而成；所述薄膜A和薄膜C层...

【专利技术属性】
技术研发人员：李明勇，王强，李宇航，程凡宝，梁雪芬，徐正扬，
申请(专利权)人：江苏东材新材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32