【技术实现步骤摘要】
一种低环境依赖型抗静电偏光片保护膜的制备方法
[0001]本专利技术涉及偏光片制备领域，特别涉及一种低环境依赖型抗静电偏光片保护膜的制备方法。
技术介绍
[0002]偏光片目前广泛应用在高清显示、车载电视、汽车电子等消费电子和非电子设备领域。其中，偏光片保护膜作为偏光片的重要组成部分，保护内层PVA膜、TAC膜、PSA压敏胶不受外界影响，保证偏光片在生产、运输、使用过程中最大程度地保留其性能的有效性和稳定性。目前普遍使用的偏光片保护膜基膜有PE系和PET系两种，其性能设计依生产设备、工艺参数、下游商家需求共同决定。
[0003]静电对偏光片保护膜基膜的损伤主要分为两种：静电放电和静电引力；静电放电导致薄膜老化，静电引力造成粉尘污染，二者将导致偏光片保护膜基膜成品率大大降低。因此，引入一层导电层将静电导走是十分必要的，可迅速泄露静电荷，降低摩擦系数。
[0004]目前可采用离线涂布和在线涂布两种方式在偏光片保护膜基膜表面引入抗静电涂层，不同类型的涂布液其作用也有所差别，包括季铵盐类、聚噻吩类、丙烯酸类、碳纳米管...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种低环境依赖型抗静电偏光片保护膜的制备方法，其特征在于：偏光片保护膜由抗静电涂层和偏光片保护膜基膜共同制备而成，首先，通过在线涂布的方式将特制的抗静电涂布液附于偏光片保护膜基膜上形成抗静电涂层，偏光片保护膜基膜再通过多层共挤、双向拉伸的方式制备而成所需的偏光片保护膜。2.根据权利要求1所述的低环境依赖型抗静电偏光片保护膜的制备方法，其特征在于：所述偏光片保护膜的制备步骤具体为：S1 ：系统搭建，首先，搭建专用的制备系统，所述专用的制备系统包括依次分布的基膜加工单元、纵拉单元、在线涂布单元、横拉单元、收卷单元、分切单元；所述基膜加工单元包括依次分布的料塔、熔融挤出机、过滤器、计量挤出机、大辊筒冷却铸片；所述纵拉单元包括纵拉机，该纵拉机具有一纵拉入口、一纵拉出口，在纵拉机上位于纵拉入口与纵拉出口之间依次安装有第一预热辊、第一拉伸辊、第一冷却辊；所述在线涂布单元包括一对上下分布的涂布辊，在两个涂布辊之间留有容物料桶的间隙；所述横拉单元包括横拉机，该横拉机具有一横拉入口、一横拉出口，在横拉机上位于横拉入口与横拉出口之间依次设置有第二预热辊、第二拉伸辊、定型辊、第二冷却辊；所述收卷单元包括收卷支架以及安装在收卷支架上的收卷辊；所述分切单元包括张力辊、压力辊、刮刀、除尘器；S2 ：偏光片保护膜基膜的制备，选择制备偏光片保护膜基膜所需的高粘性聚酯切片原料，将制备高粘性聚酯切片的原料从料塔进入，通过结晶干燥、流化，进入熔融挤出机、过滤器、计量挤出机，高温熔融，熔融挤出机的温度控制在270
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300℃，从计量挤出机的模头流延至大辊筒冷却铸片，形成聚酯基膜；S3 ：基膜纵拉，聚酯基膜传递至纵拉入口，经过纵拉机的第一预热辊、第一拉伸辊、第一冷却辊进行纵向拉伸，拉伸比例为3
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4，在纵拉的同时利用远红外加热的方式对聚酯基膜进行加热，加热的温度为75
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85℃；S4 ：基膜涂布，纵拉后的聚酯基膜从上下分布的两个涂布辊之间通过，利用凹版涂布的方式将预先制备的涂布液覆在聚酯基膜上形成抗静电涂层；所述抗静电涂布液的制备为：选择制备抗静电涂布液所需的聚噻吩、涂布树脂、涂布交联剂、溶剂原料，将聚噻吩、涂布树脂、涂布交联剂、溶剂原料配制后在容器内无规律搅拌两个小时以上，形成所需的抗静电涂布液；S5 ：基膜横拉，涂布后的聚酯基膜从横拉入口进入，利用横拉机的第二预热辊、第二拉伸辊、定型辊、第二冷却辊对聚酯基膜进行预热、拉伸、定型、冷却处理，并从横拉出口送出，预热的温度在100
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110℃，拉伸的温度在120
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140℃，定型的温度在220
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240℃；S6 ：收卷，从横拉出口送出的聚酯基膜经过收卷辊收卷形成大卷的保护膜卷；S7 ：分切，大卷的基膜卷经过除尘器进行除尘处理后，由刮刀切割成所需的小卷样，各个小卷样即为最终的低环境依赖型抗静电偏光片保护膜卷。3.根据权利要求1或2所述的低环境依赖型抗静电偏光片保护膜的制备方法，其特征在于：所述抗静电涂布液在进行在线涂布前，需要对抗静电涂布液的固含量、黏度、表面张力、PH值性能进行评估，确保抗静电涂布液的黏度<50cp，表面张力<38，PH<9，固含量为2
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【专利技术属性】
技术研发人员：张欢，李明勇，程凡宝，孙艳斌，
申请(专利权)人：江苏东材新材料有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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