多流体校准制造技术

技术编号:21451691 阅读:168 留言:0更新日期:2019-06-26 04:05
本申请涉及多流体校准。一种流量计系统,包括:流量计,其被配置成允许第一流体的第一流动;以及变送器电子设备,其耦接至流量计并且被配置成:计算第一流体的第一分布系数(PF),基于PF与仪表系数(MF)之间的相关性来计算与第一PF对应的第一MF,以及使用第一MF来计算第一流体的第一体积。一种方法,包括:针对第一流体和第二流体建立MF与PF之间的相关性;将相关性存储在流量计系统的变送器电子设备中;使用该相关性来测试流量计系统;以及使用该相关性执行测量。

【技术实现步骤摘要】
多流体校准
本专利技术涉及多流体校准,具体地涉及流量计系统以及测量流体的方法。
技术介绍
当管道输送诸如液态烃的流体时,期望准确地确定有多少流体流过这些管道。特别期望一个实体何时将流体传递给另一实体,因为这样的交接交易(custodytransfertransactions)通常用于销售指定量的流体。为了准确测量流体的体积量,实体可以使用流量计,例如液体超声流量计。超声流量计穿过流体传递声信号以用于流测量。基于声信号,超声流量计确定流体的平均速度。操作员或其他实体可以使用已知尺寸来计算超声流量计的截面面积。基于平均速度和截面面积,超声流量计确定流过管道的流体的体积。
技术实现思路
在一个实施方式中,本公开内容包括一种流量计系统,该流量计系统包括:流量计,其被配置成允许第一流体的第一流动;以及变送器电子设备,其耦接至流量计并且被配置成:计算第一流体的PF,基于PF与MF之间的相关性来计算与第一PF对应的第一MF,以及使用第一MF来计算第一流体的第一体积。在另一实施方式中,本公开内容包括一种方法,该方法包括:允许第一流体的第一流动;计算第一流体的第一PF;基于PF与MF之间的相关性来计算与第本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流量计系统,包括:流量计,其被配置成允许第一流体的第一流动;以及变送器电子设备,其耦接至所述流量计并且被配置成:计算所述第一流体的第一分布系数PF;基于分布系数PF与仪表系数MF之间的相关性来计算与所述第一分布系数PF对应的第一仪表系数MF;以及使用所述第一仪表系数MF来计算所述第一流体的第一体积。

【技术特征摘要】
2017.12.19 US 15/847,4451.一种流量计系统,包括:流量计,其被配置成允许第一流体的第一流动;以及变送器电子设备,其耦接至所述流量计并且被配置成:计算所述第一流体的第一分布系数PF;基于分布系数PF与仪表系数MF之间的相关性来计算与所述第一分布系数PF对应的第一仪表系数MF;以及使用所述第一仪表系数MF来计算所述第一流体的第一体积。2.根据权利要求1所述的流量计系统,其中,所述变送器电子设备还被配置成:计算所述第一流体的第二分布系数PF;基于所述相关性来计算与所述第二分布系数PF对应的第二仪表系数MF;以及使用所述第二仪表系数MF来计算所述第一流体的第二体积。3.根据权利要求2所述的流量计系统,其中,所述变送器电子设备还被配置成:进一步当所述第一流体以第一平均速度流过所述流量计时计算所述第一体积,以及进一步当所述第一流体以第二平均速度流过所述流量计时计算所述第二体积。4.根据权利要求1所述的流量计系统,其中,所述流量计还被配置成允许第二流体的第二流动,并且其中,所述变送器电子设备还被配置成:计算所述第二流体的第二分布系数PF;基于所述相关性来计算与所述第二分布系数PF对应的第二仪表系数MF;以及使用所述第二仪表系数MF来计算所述第二流体的第二体积。5.根据权利要求1所述的流量计系统,其中,所述相关性与所述第一流体和第二流体相关联。6.根据权利要求1所述的流量计系统,其中,所述相关性表示分布系数PF从约1.17到约1.28的流体。7.根据权利要求1所述的流量计系统,其中,所述相关性表示雷诺数从约5000到约200000的流体。8.根据权利要求1所述的流量计系统,其中,所述流量计包括:内弦,以及外弦。9.根据权利要求8所述的流量计系统,其中,所述第一分布系数PF和内弦流动速度成正比,并且和外弦流动速度成反比,所述内弦流动速度与所述内弦相关联,所述外弦流动速度与所述外弦...

【专利技术属性】
技术研发人员:帕思塔格·贾亚姆帕蒂·阿努拉达·普里亚达尔沙纳
申请(专利权)人:丹尼尔测量和控制公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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