光学多弧离子镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了光学多弧离子镀膜机，包括真空室和与真空室连通的抽气组件、充气组件、运输组件、加热组件、冷却组件，所述真空室内设有至少一多弧靶，所述多弧靶包括阴极和引弧电极，所述阴极的一端与引弧电极的一端绝缘连接，所述阴极为一内部设有磁棒和靶背管的靶材，所述磁棒和靶背管相邻设置，所述磁棒为一嵌有一磁性组件的绝缘棒，所述引弧电极通过一电磁阀控制其与阴极不相连的一端与阴极表面接触和分离。与现有技术相比，本发明专利技术提供的光学多弧离子镀膜机在阴极中加装了磁性组件，可使金属离化率更高，镀膜刻蚀均匀，基片表面膜层均一性更佳，因此其应用前景十分广阔。

【技术实现步骤摘要】
光学多弧离子镀膜机
本专利技术涉及真空镀膜领域，具体说，是涉及光学多弧离子镀膜机。
技术介绍
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程
的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰灯许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。真空镀膜工艺是一种物理方法，真空镀膜的工艺过程不产生电镀废水，能够实现清洁生产，应用前景广阔。阴极电弧蒸发镀膜技术属于真空镀膜中离子镀膜的一种改进方法，是20世纪70年代开始研究的一种新的物理气相沉积工艺是离子镀技术中的皎皎者，具有高离化率、易于进行反应镀、散射性好、膜层致密以及附着力强等优点，在刀具、模具、小五金以及装饰品等镀制耐磨、耐热及耐蚀薄膜的行业应用广泛。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光学多弧离子镀膜机，其特征在于：包括真空室和与真空室连通的抽气组件、充气组件、运输组件、加热组件、冷却组件，所述真空室内设有至少一多弧靶，所述多弧靶包括阴极(1)和引弧电极(2)，所述阴极(1)的一端与引弧电极(2)的一端绝缘连接，所述阴极(1)为一内部设有磁棒(11)和靶背管的靶材，所述磁棒(11)和靶背管相邻设置，所述磁棒(11)为一嵌有一磁性组件的绝缘棒，所述引弧电极(2)通过一电磁阀控制其与阴极(1)不相连的一端与阴极(1)表面接触和分离。

【技术特征摘要】
1.光学多弧离子镀膜机，其特征在于：包括真空室和与真空室连通的抽气组件、充气组件、运输组件、加热组件、冷却组件，所述真空室内设有至少一多弧靶，所述多弧靶包括阴极(1)和引弧电极(2)，所述阴极(1)的一端与引弧电极(2)的一端绝缘连接，所述阴极(1)为一内部设有磁棒(11)和靶背管的靶材，所述磁棒(11)和靶背管相邻设置，所述磁棒(11)为一嵌有一磁性组件的绝缘棒，所述引弧电极(2)通过一电磁阀控制其与阴极(1)不相连的一端与阴极(1)表面接触和分离。2.根据权利要求1所述的光学多弧离子镀膜机，其特征在于：所述真空室内还设有架体，所述架体连接有轨道和传送组件，所述传送组件沿轨道传送待镀膜基片。3.根据权利要求2所述的光学多弧离子镀膜机，其特征在于：所述轨道内部安装有磁棒(11)。4.根据权利要求1或3所述的光学多弧离子镀膜机，其特征在于：所述磁性组件为至少一个磁铁。5.根据权利要求4所述的光学多...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄乐，祝海生，陈立，凌云，黄夏，黄国兴，
申请(专利权)人：湘潭宏大真空技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：湖南,43