获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的装置及方法制造方法及图纸

获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的装置及方法,涉及显微成像领域,为了解决现有结构探测显微成像系统中结构探测函数不是最优结构探测函数，从而成像分辨率低的问题。本发明专利技术的方法包括：步骤一、在空间光调制器的调制面上随机生成一个调制图像作为初始的结构探测函数；步骤二、获得重构的图像信息和各采样点光斑的光强分布信息；步骤三、根据重构的图像与标准样品逐点比较获得的总误差、各采样点光斑的光强分布信息调整结构探测函数，得到调整后的结构探测函数，然后更新空间光调制器的结构探测函数并返回步骤二，直至得到的结构探测函数为最优结构探测函数。适用于获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数。

【技术实现步骤摘要】
获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的装置及方法
本专利技术涉及显微成像领域，具体涉及基于空间光调制器获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的技术。
技术介绍
光学显微术是一种历史悠久且十分重要的无破坏性技术，被广泛应用于生物和材料科学等领域。2009年，美国哈佛大学谢晓亮、JeffW.Lichtman课题组在NanoLetters杂志上发表论文，提出扫描图案探测显微技术，通过将探测调制和非解扫单元探测器完成的空间累积成像相结合来实现空间调制。仿真分析得出，在荧光非相干成像情况下，横向分辨率均可达到普通显微系统的2倍。中国公开号为105547145A、名称为一种超分辨结构探测相干成像装置及其成像方法的专利文件，将结构探测成像方法与相干显微系统相结合,提高了相干成像系统的空间截止频率，拓宽了空间频域带宽，从而显著改善了成像系统横向分辨力。中国公开号为106767400A、名称为一种基于空间光调制器的结构探测显微成像方法及装置的专利文件，采用空间光调制器模拟结构探测函数,对探测光斑进行调制,之后利用光电探测器测量调制后的光强,得到与待测样品采样点相对应的光强值,结合显微系统的扫本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的装置，其特征在于，包括激光器(1)、标准样品(8)、空间光调制器(12)、分光棱镜(14)、光电探测器(15)和CCD(16)；激光器(1)发出的激光经标准样品(8)反射后入射至空间光调制器(12)，经空间光调制器(12)调制后入射至分光棱镜(14)，分光棱镜(14)将光束分为两束，一束入射至光电探测器(15)，获得重构的图像信息，另一束入射至CCD(16)，获得光斑的光强分布信息。

【技术特征摘要】
1.获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的装置，其特征在于，包括激光器(1)、标准样品(8)、空间光调制器(12)、分光棱镜(14)、光电探测器(15)和CCD(16)；激光器(1)发出的激光经标准样品(8)反射后入射至空间光调制器(12)，经空间光调制器(12)调制后入射至分光棱镜(14)，分光棱镜(14)将光束分为两束，一束入射至光电探测器(15)，获得重构的图像信息，另一束入射至CCD(16)，获得光斑的光强分布信息。2.根据权利要求1所述的获得结构探测显微成像系统的最优结构探测函数的装置，其特征在于，还包括扩束器(2)、线偏振器(3)、偏振分光棱镜(4)、1/4波片(5)、反射镜(6)、物镜(7)、二维压电陶瓷(9)、第一收集透镜(10)、放大镜头(11)和第二收集透镜(13)；激光器(1)发出的激光被扩束器(2)扩束后经过线偏振器(3)，再通过偏振分光棱镜(4)透射至1/4波片(5)，经反射镜(6)反射至物镜(7)，激光经物镜(7)聚焦于标准样品(8)表面，二维压电陶瓷(9)带动标准样品(8)移动，实现聚焦光斑对标准样品(8)进行二维扫描；标准样品(8)的反射光依次经过物镜(7)、反射镜(6)和1/4波片(5)后，经偏振分光棱镜(4)反射至第一收集透镜(10)，第一收集透镜(10)将反射光聚焦至放大镜头(11)，经放大镜头(11)放大后的反射光入射至空间光调制器(12)，反射光经空间光调制器(12)调制后被第二收集透镜(13)聚焦，分光棱镜(14)将聚焦光束分为两束，一束入射至光电探测...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪赫，邹丽敏，李博，尹哲，谭久彬，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江,23