激光装置以及激光加工系统制造方法及图纸

激光装置具备：A、固态激光装置，其输出包括多个脉冲的突发种子脉冲光；B、准分子放大器，其在放电空间中，利用一次放电对突发种子脉冲光进行放大，作为放大突发脉冲光输出；C、能量传感器，其计测放大突发脉冲光的能量；以及D、激光控制部，其基于从所述固态激光装置输出突发种子脉冲光的时机与在放电空间中产生放电的时机之差和能量的计测值之间的关系，校正使固态激光装置输出突发种子脉冲光的时机。

Laser device and laser processing system

Laser devices include: A, solid-state laser devices, whose output includes burst seed pulses of multiple pulses; B, excimer amplifier, which amplifies burst seed pulses by primary discharge in the discharge space as amplified burst pulses; C, energy sensor, which measures the energy of amplified burst pulses; and D, laser control unit, which is based on slave station. The relationship between the timing of output burst seed pulses of solid-state laser devices and the difference between the timing of generation of burst seed pulses in discharge space and the measured values of energy is described. The timing of output burst seed pulses of solid-state laser devices is corrected.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】激光装置以及激光加工系统
本公开涉及激光装置以及激光加工系统。
技术介绍
随着半导体集成电路的微型化以及高集成化，在半导体曝光装置中，要求提高分辨力。下面，将半导体曝光装置简称为“曝光装置”。为此，正在推进从曝光用光源输出的光的短波长化。作为曝光用光源采用放电激励型的气体激光装置，以此来代替现有的汞灯。目前，作为曝光用激光装置，采用输出248.4nm波长的紫外线的KrF准分子激光装置及输出193.4nm波长的紫外线的ArF准分子激光装置。作为现有的曝光技术，实现了液浸曝光的实际使用，即在曝光装置侧的投影透镜与晶片之间的间隙填充液体，通过改变该间隙的折射率，缩短曝光用光源的目击波长。在作为曝光用光源使用ArF准分子激光装置进行液浸曝光的情况下，向晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为ArF液浸曝光。ArF液浸曝光还被称为ArF液浸光刻。KrF、ArF准分子激光装置的自由振荡中的频谱线宽较宽，达到约350～400pm，所以出现通过曝光装置侧的投影透镜而收缩投影在晶片上的激光(紫外线光)的色像差，降低分辨力。为此，需要将从气体激光装置输出的激光的频谱线宽窄带化到能够忽略色像差本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种激光装置，其具备：A、固态激光装置，其输出包括多个脉冲的突发种子脉冲光；B、准分子放大器，其在放电空间中，利用一次放电对所述突发种子脉冲光进行放大，作为放大突发脉冲光进行输出；C、能量传感器，其计测所述放大突发脉冲光的能量；以及D、激光控制部，其基于从所述固态激光装置输出所述突发种子脉冲光的时机与在所述放电空间中产生放电的时机之差和所述能量的计测值之间的关系，校正使所述固态激光装置输出所述突发种子脉冲光的时机。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光装置，其具备：A、固态激光装置，其输出包括多个脉冲的突发种子脉冲光；B、准分子放大器，其在放电空间中，利用一次放电对所述突发种子脉冲光进行放大，作为放大突发脉冲光进行输出；C、能量传感器，其计测所述放大突发脉冲光的能量；以及D、激光控制部，其基于从所述固态激光装置输出所述突发种子脉冲光的时机与在所述放电空间中产生放电的时机之差和所述能量的计测值之间的关系，校正使所述固态激光装置输出所述突发种子脉冲光的时机。2.根据权利要求1所述的激光装置，其中，所述准分子放大器包括一对放电电极、脉冲功率模块以及充电器，所述激光控制部进行能量反馈控制，在该能量反馈控制下校正所述充电器的充电电压，使得所述能量的计测值接近目标值。3.根据权利要求2所述的激光装置，其中，所述激光控制部在校正使所述固态激光装置输出所述突发种子脉冲光的时机之后进行所述能量反馈控制。4.根据权利要求1所述的激光装置，该激光装置还具备：E、光强传感器，其计测包含在所述放大突发脉冲光中的各脉冲的光强波形；以及F、脉冲波形分析部，其基于所述各脉冲的光强波形，计测表示所述各脉冲的特征的至少一个参数。5.根据权利要求4所述的激光装置，其中，所述激光控制部进行参数反馈控制，在该参数反馈控制下，控制所述固态激光装置，使得所述参数的计测值接近目标值。6.根据权利要求5所述的激光装置，其中，所述参数包括峰值强度、脉冲间隔以及脉冲宽度。7.根据权利要求6所述的激光装置，其中，所述激光控制部在校正使所述固态激光装置输出所述突发种子脉冲光的时机之后进行所述参数反馈控制。8.根据权利要求1所述的激光装置，其中，所述固态激光装置能够变更包含在所述突发种子脉冲光中的各脉冲的波长。9.根据权利要求8所述的激光装置，该激光...

【专利技术属性】
技术研发人员：柿崎弘司，若林理，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP