本发明专利技术涉及一种铝锅抛光剂，由以下组分按照以下重量配比配制而成：研磨颗粒8‑60重量份，甘油0.1‑1.5重量份，氧化剂0.1‑1.5重量份，去离子水150‑180重量份；所述研磨颗粒的粒径为20‑500nm，所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合；所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。该铝锅抛光剂不仅能达到良好的表面光洁度，而且抛光过程中安全无毒，环保健康。
A Polishing Agent for Aluminum Pot and Its Polishing Technology
The invention relates to an aluminium pot polishing agent, which is prepared by the following components according to the following weight ratios: grinding particles 8 60 weight, glycerin 0.1 1.5 weight, oxidant 0.1 1.5 weight, deionized water 150 180 weight; the particle size of the grinding particles is 20 500 nm, and the grinding particles are made of colloidal silica, high temperature formed silica and colloidal aluminium trioxide. One or more of the crystalline phase aluminium trioxide, nano-silicon carbide and nano-crystalline diamonds are mixed arbitrarily; the oxidant adopts one or more of oxalic acid, citric acid, tartaric acid, salicylic acid, malic acid and sorbic acid. The polishing agent for aluminium pot not only achieves good surface finish, but also is safe, non-toxic, environmentally friendly and healthy in the polishing process.
【技术实现步骤摘要】
一种铝锅抛光剂及其抛光工艺
本专利技术属于厨具加工
，具体涉及一种铝锅抛光剂及其抛光工艺。
技术介绍
由于铝材硬度低、质地软，机械强度差，因此，在进行加工成型的过程中容易受到机械损伤，从而造成表面磨损、划痕等各种缺陷。这些缺陷的存在不仅会影响表面的平整性和光亮度，还会影响其化学稳定性，尤其在表面缺陷处很容易发生腐蚀。为了提高铝或铝制品表面平滑度和光洁度，往往需要对其表面进行抛光处理，消除加工过程中的表面缺陷，从而获得良好的表面光洁度，提高铝制品的装饰效果。其中，机械抛光劳动强度比较大，大面积抛光表面不均匀；而化学抛光过程中会产生有毒气体，严重危害健康，还造成大气污染；电解抛光成本高、设备复杂。而铝锅作为厨具，不但要求良好的表面光洁度，更重要的是抛光过程中必须安全无毒，环保健康。
技术实现思路
为了解决以上技术问题，本专利技术提供一种铝锅抛光剂及其抛光工艺，不仅能达到良好的表面光洁度，而且抛光过程中安全无毒，环保健康。本专利技术技术方案是：方案一：一种铝锅抛光剂，由以下组分按照以下重量配比配制而成：由以下组分按照以下重量配比配制而成：所述研磨颗粒的粒径为20-500nm，所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合；所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。方案二：2.一种铝锅抛光工艺，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，得到成品抛光液；步骤二：将铝锅装载至操作转台，将研磨辊下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；抛光液流速：12-15L/min；抛光时间：6-8min；步骤三：将抛光后的铝锅用清水清洗，将表面残留的抛光液完全洗掉后，再用去离子水冲洗；然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时；步骤四：再将铝锅装载至操作转台，将研磨布下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；上光，上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成：煤油65-75重量份植物油8-10重量份猪油20-22重量份。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1、本专利技术能达到良好的表面光洁度，且本专利技术所采用的原料组份对环境无污染，对人体健康不会造成威胁，抛光过程中安全无毒，环保健康。2、本专利技术研磨颗粒为抛光浆液的主成分，甘油作为抛光散热剂，用于加速抛光基材的散热程度，以去除在抛光的过程中温度对表面粗糙度的影响。3、本专利技术氧化剂作用于氧化基材表面以形成一层氧化膜来提高其抛光选择性。4、本专利技术中上光剂形成保护层，还能提高抛光光度。具体实施方式以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。实施例1：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，得到成品抛光液；步骤二：将铝锅装载至操作转台，将研磨辊下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；抛光液流速：12-15L/min；抛光时间：6-8min；步骤三：将抛光后的铝锅用清水清洗，将表面残留的抛光液完全洗掉后，再用去离子水冲洗；然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时；步骤四：再将铝锅装载至操作转台，将研磨布下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；上光，上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成：煤油65-75重量份植物油8-10重量份猪油20-22重量份。实施例2：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，得到成品抛光液；步骤二：将铝锅装载至操作转台，将研磨辊下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；抛光液流速：12-15L/min；抛光时间：6-8min；步骤三：将抛光后的铝锅用清水清洗，将表面残留的抛光液完全洗掉后，再用去离子水冲洗；然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时；步骤四：再将铝锅装载至操作转台，将研磨布下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；上光，上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成：煤油65-75重量份植物油8-10重量份猪油20-22重量份。实施例3：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，得到成品抛光液；步骤二：将铝锅装载至操作转台，将研磨辊下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；抛光液流速：12-15L/min；抛光时间：6-8min；步骤三：将抛光后的铝锅用清水清洗，将表面残留的抛光液完全洗掉后，再用去离子水冲洗；然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时；步骤四：再将铝锅装载至操作转台，将研磨布下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；上光，上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成：煤油65-75重量份植物油8-10重量份猪油20-22重量份。实施例4：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，得到成品抛光液；步骤二：将铝锅装载至操作转台，将研磨辊下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；抛光液流速：12-15L/min；抛光时间：6-8min；步骤三：将抛光后的铝锅用清水清洗，将表面残留的抛光液完全洗掉后，再用去离子水冲洗；然后置于80-90℃的真空干燥箱中干燥5-6小时；步骤四：再将铝锅装载至操作转台，将研磨布下压铝锅外壁，转台转速：75-90rpm；研磨辊下压压力：0.4-0.6kgf/cm2；上光，上光剂由以下组分按照以下重量配比配制而成：煤油65-75重量份植物油8-10重量份猪油20-22重量份。实施例5：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8.5-13.5，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种铝锅抛光剂，其特征在于：由以下组分按照以下重量配比配制而成：
【技术特征摘要】
1.一种铝锅抛光剂，其特征在于：由以下组分按照以下重量配比配制而成：所述研磨颗粒的粒径为20-500nm，所述研磨颗粒采用胶质二氧化硅、高温成型二氧化硅、胶质三氧化二铝、结晶相三氧化二铝、奈米碳化硅、奈米结晶金刚钻石中的一种或几种任意混合；所述氧化剂采用草酸、柠檬酸、酒石酸、水杨酸、苹果酸、山梨酸中的一种或几种任意混合。2.一种铝锅抛光工艺，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：将8-60重量份的研磨颗粒加入150-180重量份去离子水中；打开搅拌机，转速控制在200-250转/min，加入0.1-1.5重量份甘油与0.1-1.5重量份的氧化剂；加入碱性pH值调整剂，调整pH值为8...
【专利技术属性】
技术研发人员：戴志林，黄刚，
申请(专利权)人：福建鼎厨王厨具有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35
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