一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法技术

本发明专利技术旨在提供一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，以解决现有技术中标定误差较大、位置精度不够的问题，包括步骤S1：在基板平台的标定板上建立平面坐标系，对固定设置的第一对位相机和能够移动的第二对位相机的位置关系进行标定，确定到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值；步骤S2：分别沿坐标系的X轴和Y轴方向对每个标定点计算偏移向量，得到每个标定点的误差补偿值；步骤S3：通过线性插值法计算基板平台上的PCB板上坐标点P的误差补偿值，将计算得到的误差补偿值对坐标点P进行位置补偿，得到坐标点P的真实坐标。

A Position Compensation Method for Calibration Plate of Direct Writing Exposure Machine

The present invention aims to provide a position compensation method for calibration plate of direct-writing exposure machine to solve the problems of large calibration error and inadequate position accuracy in the prior art, including establishing a plane coordinate system on the calibration plate of the base plate platform, calibrating the position relationship between the fixed first phase camera and the movable second phase camera, and determining to The offset error values of a pair of phase cameras and a second pair of phase cameras; (2) Calculate the offset vectors for each calibration point along the X-axis and Y-axis directions of the coordinate system respectively, and obtain the error compensation values for each calibration point; (2) Calculate the error compensation values of coordinate point P on PCB board on the substrate platform by linear interpolation method, and compensate the position of coordinate point P by the calculated error compensation values. The real coordinates of coordinate point P are obtained.

【技术实现步骤摘要】
一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法
本专利技术涉及光刻
，具体是一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法。
技术介绍
光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。直写光刻技术以替代传统的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用。直写式光刻机在生产装配过程中，因基板平台、系统及曝光组件等都存在一定的误差和位置偏差，导致在后期调试测量时会存在曝光基底的不同区域所使用的曝光参数和对准参数不同，有一定的误差，影响曝光不同区域成像结果的质量。为此，需要对基板平台上的PCB板Mark点的标定，现有技术中，PCB板上Mark点的标定采用一维标定的方法，通过测量标定板上面刻蚀图案标志的坐标，通常是直接将测量得到的实际坐标值减去理想的坐标值，由于标定板的涨缩特性，导致标定误差较大，现有技术中的方法精度不够，为了获取准确的图案标志的坐标位置，有必要提供一种标定板的位置补偿方法来解决以上不足之处。
技术实现思路
本专利技术旨在提供一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，以解决现有技术中标定误差较大、位置精度不够的问题。其技术方案是这样的：一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：在基板平台的标定板上建立平面坐标系，对固定设置的第一对位相机和能够移动的第二对位相机的位置关系进行标定，确定到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值；步骤S2：分别沿坐标系的X轴和Y轴方向对每个标定点计算偏移向量，得到每个标定点的误差补偿值；步骤S3：通过线性插值法计算基板平台上的PCB板上坐标点P的误差补偿值，将计算得到的误差补偿值对坐标点P进行位置补偿，得到坐标点P的真实坐标。进一步的，步骤S1具体如下：以基板平台的标定板的一个顶角为原点、标定板的横向为X轴、标定板的纵向为Y轴建立坐标系，基板平台移动到标定点Mark1位置，第一对位相机抓取标定点Mark1,移动向量为第二对位相机移动抓取标定点Mark1,移动向量则第一对位相机与第二对位相机的位置关系为得到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值：其中，和分别为X轴和Y轴上的偏移向量。进一步的，步骤S2具体如下：基板平台沿X轴方向移动进行标定，每次步进距离为StepX，移动向量设定下一个标定点为标定点Mark2X,则标定点Mark2X相对于标定点Mark1的偏移向量为依次标定X轴方向上的所有标定点，标定点MarknX相对于标定点Mark(n-1)X的偏移向量为在X轴方向上的第二对位相机的偏移向量的集合通过矩阵AX表示，矩阵AX具体如下：其中，基板平台沿Y轴方向移动进行标定，每次步进距离为StepY，移动平台至标定点Mark1Y(Mark1X,Mark1Y),第一对位相机抓取标定点Mark1的位置pos1，基板平台在Y方向上继续步进移动，移动至下一标定点Mark2Y(Mark1X,Mark1Y+StepY)，第二对位相机抓取mark2Y的位置pos2，则Mark2相对于Mark1的位置矢量为pos2-pos1-offset1D，依次标定Y轴方向上的所有标定点，在Y轴方向上的第二对位相机的偏移向量的集合通过矩阵A表示，矩阵A具体如下：其中，将矩阵A的每一行减去矩阵AX得到误差补偿值，进而得到误差补偿值映射表，用矩阵E表示，矩阵E具体如下：将每个标定点表示为(x,y,errx,erry)，X和Y分别为X轴方向上和Y轴方向上的坐标信息，errx和erry分别为X轴方向上和Y轴方向上的误差补偿值信息；标定点的二维映射表用矩阵P表示，矩阵P具体为：进一步的，步骤S3具体如下：对于位于基板平台上的PCB板上任意一个的坐标点Pn，通过对位相机捕获其坐标Pn(x,y),设定其补偿值为e(errx，erry),首先在标定点的二维映射表中查找坐标点Pn所在区间点p1(x1,y1,errx1,erry1),p2(x2,y2,errx2,erry2)，然后通过线性插值求解errx和erry，具体如下：Pn点补偿之后的坐标为(x+errx,y+erry)。本专利技术的用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，在二维平面上，分别沿坐标系的X轴和Y轴方向对每个标定点计算偏移向量，得到每个标定点的误差补偿值，将计算得到的误差补偿值对坐标点进行位置补偿，得到坐标点的真实坐标，提高Mark对位精度40％，可达±4μm，标定划分的区域多，划分多个区域量测实际标定板的涨缩尺寸变化，可以更好的精确细化的校正系统误差；进而单独涨缩补偿相应的原始图形，解决对位不良的问题，提高了产品的生产品质。附图说明图1为本专利技术的步骤S1中第一对位相机与第二对位相机的位置关系的示意图；图2为本专利技术中建立的坐标系的示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。见图1，图2，本专利技术的一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，包括以下步骤：步骤S1：在基板平台1的标定板2上建立平面坐标系，对固定设置的第一对位相机3和能够移动的第二对位相机4的位置关系进行标定，确定到第一对位相机3与第二对位相机4的偏移误差值，步骤S1具体如下：以基板平台上的标定板的一个顶角为原点、基板平台的标定板的横向为X轴、基板平台的标定板的纵向为Y轴建立坐标系，基板平台移动到标定点Mark1位置，第一对位相机抓取标定点Mark1,移动向量为第二对位相机移动抓取标定点Mark1,移动向量则第一对位相机与第二对位相机的位置关系为得到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值：其中，和分别为X轴和Y轴上的偏移向量。步骤S2：分别沿坐标系的X轴和Y轴方向对每个标定点计算偏移向量，得到每个标定点的误差补偿值步骤，S2具体如下：基板平台沿X轴方向移动进行标定，每次步进距离为StepX，移动向量设定下一个标定点为标定点Mark2X,则标定点Mark2X相对于标定点Mark1的偏移向量为依次标定X轴方向上的所有标定点，标定点MarknX相对于标定点Mark(n-1)X的偏移向量为在X轴方向上的第二对位相机的偏移向量的集合通过矩阵AX表示，矩阵AX具体如下：其中，基板平台沿Y轴方向移动进行标定，每次步进距离为StepY，移动平台至标定点Mark1Y(Mark1X,Mark1Y),第一对位相机抓取标定点Mark1的位置pos1，基板平台在Y方向上继续步进移动，移动至下一标定点Mark2Y(Mark1X,Mark1Y+StepY)，第二对位相机抓取mark2Y的位置pos2，则Mark2相对于Mark1的位置矢量为pos2-pos1-offset1D，依次标定Y轴方向上的所有标定点，在Y轴方向上的第二对位相机的偏移向量的集合通过矩阵A表示，矩阵A具体如下：其中，将矩阵A的每一行减去矩阵AX得到误差补偿值，进而得到误差补偿值映射表，用矩阵E表示，矩阵E具体如下：将每个标定点表示为(x,y,errx,erry)，X和Y分别为X轴方向上和Y轴方向上的坐标信息，errx和erry分别为X轴方向上和Y轴方向上的误差补偿值信息；标定点的二维映射本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：在基板平台的标定板上建立平面坐标系，对固定设置的第一对位相机和能够移动的第二对位相机的位置关系进行标定，确定到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值；步骤S2：分别沿坐标系的X轴和Y轴方向对每个标定点计算偏移向量，得到每个标定点的误差补偿值；步骤S3：通过线性插值法计算基板平台上的PCB板上坐标点P的误差补偿值，将计算得到的误差补偿值对坐标点P进行位置补偿，得到坐标点P的真实坐标。

【技术特征摘要】
1.一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：在基板平台的标定板上建立平面坐标系，对固定设置的第一对位相机和能够移动的第二对位相机的位置关系进行标定，确定到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值；步骤S2：分别沿坐标系的X轴和Y轴方向对每个标定点计算偏移向量，得到每个标定点的误差补偿值；步骤S3：通过线性插值法计算基板平台上的PCB板上坐标点P的误差补偿值，将计算得到的误差补偿值对坐标点P进行位置补偿，得到坐标点P的真实坐标。2.根据权利要求1所述的一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，其特征在于，步骤S1具体如下：以基板平台的标定板的一个顶角为原点、标定板的横向为X轴、标定板的纵向为Y轴建立坐标系，基板平台移动到标定点Mark1位置，第一对位相机抓取标定点Mark1,移动向量为第二对位相机移动抓取标定点Mark1,移动向量则第一对位相机与第二对位相机的位置关系为得到第一对位相机与第二对位相机的偏移误差值：其中，和分别为X轴和Y轴上的偏移向量。3.根据权利要求2所述的一种用于直写式曝光机的标定板的位置补偿方法，其特征在于，步骤S2具体如下：基板平台沿X轴方向移动进行标定，每次步进距离为StepX，移动向量设定下一个标定点为标定点Mark2X,则标定点Mark2X相对于标定点Mark1的偏移向量为依次标定X轴方向上的所有标定点，标定点MarknX相对于标定点Mark(n-1)X的偏移向量为在X轴方向上的第二对位相机的偏移向量的集合通过矩阵AX表...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖绍良，徐国栋，张雷，李伟成，
申请(专利权)人：苏州源卓光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32