显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，采用该制备方法形成的显示基板具有较为平坦的表面。该制备方法包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，辅助界定层具有多个间隔设置的第二开口部；S2：在第一开口部内打印墨水，并对墨水进行第一热处理，以去除墨水中的溶剂；像素界定层与辅助界定层的厚度之和，大于墨水去除溶剂后聚集在第一开口部内的最大厚度；S3：至少对辅助界定层进行第二热处理，以使辅助界定层熔化，形成覆盖墨水的覆盖层；S4：对覆盖层进行冷却处理，以使覆盖层固化。用于显示基板及包括该显示基板的显示装置的制备。

Display Substrate and Its Preparation Method and Display Device

The invention provides a display substrate, a preparation method and a display device thereof, which relates to the display technology field. The display substrate formed by the preparation method has a relatively flat surface. The preparation method comprises the following steps: S1: forming a pixel boundary layer and an auxiliary boundary layer on the substrate in turn; the pixel boundary layer has a first opening with multiple spacing settings, and the auxiliary boundary layer has a second opening with multiple spacing settings; S2: printing ink in the first opening, and conducting a first heat treatment on the ink to remove the solvent in the ink; and the pixel boundary layer has a first opening with multiple spacing settings. The sum of the thickness of the auxiliary defining layer is larger than the maximum thickness of the first opening when the solvent is removed from the ink; S3: at least the auxiliary defining layer is subjected to a second heat treatment to melt the auxiliary defining layer and form a covering layer covering the ink; S4: cooling the covering layer to solidify the covering layer. The invention is used for preparing a display substrate and a display device including the display substrate.

【技术实现步骤摘要】
显示基板及其制备方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
显示基板(例如为彩膜基板)通常包括：像素界定层以及通过像素界定层上的多个开口部分隔出的各个子像素区域，每个子像素区域内形成有滤光层。在现有技术中，滤光层的一种制备方式为：采用喷墨打印的方式，在每个子像素区域内打印墨水，并对墨水进行干燥、固化处理，以形成上述的滤光层。然而，由于墨水在像素界定层表面的润湿性较差，使得墨水经过干燥、固化处理后形成的滤光层呈现中间厚、四周薄的结构，导致滤光层中不同区域的断差较大，无法为后续工艺提供一个较为平坦的表面，难以满足工艺设计的需求。
技术实现思路
鉴于此，为解决现有技术的问题，本专利技术的实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，采用该制备方法形成的显示基板表面较为平坦，可以为后续工艺提供较为平坦的衬底，从而为后续工艺提供便利，满足工艺设计的需要。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：本专利技术实施例一方面提供一种显示基板的制备方法，包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，所述辅助界定层具有与所述第一开口部一一对应的多个间隔设置的第二开口部；S2：在所述第一开口部内打印墨水，并对所述墨水进行第一热处理，以去除所述墨水中的溶剂；沿所述衬底基板的垂直方向，所述像素界定层与所述辅助界定层的厚度之和，大于所述墨水去除溶剂后聚集在所述第一开口部内的最大厚度；S3：至少对所述辅助界定层进行第二热处理，以使所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层；S4：对所述覆盖层进行冷却处理，以使所述覆盖层固化。在本专利技术一些实施例中，在步骤S1中，形成的所述像素界定层包括像素分隔墙，所述像素分隔墙围设成多个所述第一开口部；形成的所述辅助界定层包括辅助分隔墙，所述辅助分隔墙围设成多个所述第二开口部；其中，所述像素分隔墙包括：与所述辅助分隔墙相接触的第一表面、相对于所述第一表面的第二表面；每个所述第二开口部露出对应的所述第一开口部以及所述第一表面上靠近该第一开口部的区域。在本专利技术一些实施例中，所述墨水中的溶剂为水和/或水溶性溶剂；所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有疏水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有亲水性。在本专利技术一些实施例中，所述墨水中的溶剂为非溶性溶剂；所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有亲水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有疏水性。在本专利技术一些实施例中，所述像素界定层的厚度大于所述辅助界定层的厚度。在本专利技术一些实施例中，步骤S1还包括：在所述衬底基板上形成包围所述像素界定层和所述辅助界定层的围挡。在本专利技术一些实施例中，所述围挡的部分覆盖在所述像素界定层上；其中，沿所述衬底基板的垂直方向，所述围挡的高度与所述辅助界定层的厚度相等。在本专利技术一些实施例中，制成所述像素界定层的材料包括：黑矩阵材料。在本专利技术一些实施例中，制成所述辅助界定层的材料包括：热塑性聚合物和/或热固性聚合物。在本专利技术一些实施例中，步骤S3包括：对去除溶剂后的所述墨水与所述辅助界定层同时进行第二热处理，以使去除溶剂后的所述墨水固化、所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层。在本专利技术一些实施例中，形成所述辅助界定层包括：在形成有所述像素界定层的所述衬底基板上涂布负性光刻胶；对所述负性光刻胶依次进行曝光处理、显影处理，以形成所述辅助界定层。本专利技术实施例再一方面提供一种显示基板，包括：设置在衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部；设置在所述第一开口部内的由固化的墨水构成的滤光层；覆盖所述滤光层和所述像素界定层的覆盖层。在本专利技术一些实施例中，所述墨水为量子点墨水。本专利技术实施例另方面提供一种显示装置，包括上述所述的显示基板。基于此，通过本专利技术实施例提供的上述显示基板的制备方法，通过将用于界定墨水打印区域的两层界定层中，上方的辅助界定层熔化，以使其流平、覆盖在墨水表面形成覆盖层，减少墨水在下方的像素界定层上的第一开口部内聚集后的断差，从而为显示基板提供一个较为平坦的上表面(即远离衬底基板的表面)，进而为后续工艺提供便利，满足工艺设计的需要。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为相关技术中采用喷墨打印后形成的膜层厚度分布示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制备方法流程示意图；图3(a)为图2中步骤S1形成的剖视结构示意图；图3(b)为图2中步骤S2形成的剖视结构示意图；图3(c)为图2中步骤S3形成的剖视结构示意图；图4为图3(a)对应的俯视结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种显示基板的俯视结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种显示装置的剖视结构示意图。附图标记：01-显示基板；02-显示装置；10-衬底基板；20-像素界定层；21-第一开口部；22-像素分隔墙；22a-第一表面；22b-第二表面；22c-侧壁；30’-辅助界定层；31’-第二开口部；32’-辅助分隔墙；30-覆盖层；40’-墨水；40-滤光层；50-围挡。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。需要指出的是，除非另有定义，本专利技术实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本专利技术所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。例如，本专利技术说明书以及权利要求书中所使用的术语“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“上/上方”、“下/下方”、“行/行方向”以及“列/列方向”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于说明本专利技术的技术方案的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术各实施例中，当一个组件被称为“在…上”时，它可泛指该组件直接设置在其他组件上，也可以是有其他组件存在于两者之中。例如，在某些情况下，涉及“行方向”的实施例可以在“列方向”的情况下实施等等，相反亦如此。将本专利所述方案进行90°旋转或镜像后亦属本专利权利范畴。随着本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，所述辅助界定层具有与所述第一开口部一一对应的多个间隔设置的第二开口部；S2：在所述第一开口部内打印墨水，并对所述墨水进行第一热处理，以去除所述墨水中的溶剂；沿所述衬底基板的垂直方向，所述像素界定层与所述辅助界定层的厚度之和，大于所述墨水去除溶剂后聚集在所述第一开口部内的最大厚度；S3：至少对所述辅助界定层进行第二热处理，以使所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层；S4：对所述覆盖层进行冷却处理，以使所述覆盖层固化。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：在衬底基板上依次形成像素界定层、辅助界定层；所述像素界定层具有多个间隔设置的第一开口部，所述辅助界定层具有与所述第一开口部一一对应的多个间隔设置的第二开口部；S2：在所述第一开口部内打印墨水，并对所述墨水进行第一热处理，以去除所述墨水中的溶剂；沿所述衬底基板的垂直方向，所述像素界定层与所述辅助界定层的厚度之和，大于所述墨水去除溶剂后聚集在所述第一开口部内的最大厚度；S3：至少对所述辅助界定层进行第二热处理，以使所述辅助界定层熔化，形成覆盖所述墨水的覆盖层；S4：对所述覆盖层进行冷却处理，以使所述覆盖层固化。2.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，形成的所述像素界定层包括像素分隔墙，所述像素分隔墙围设成多个所述第一开口部；形成的所述辅助界定层包括辅助分隔墙，所述辅助分隔墙围设成多个所述第二开口部；其中，所述像素分隔墙包括：与所述辅助分隔墙相接触的第一表面、相对于所述第一表面的第二表面；每个所述第二开口部露出对应的所述第一开口部以及所述第一表面上靠近该第一开口部的区域。3.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述墨水中的溶剂为水和/或水溶性溶剂；所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有疏水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有亲水性。4.根据权利要求2所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述墨水中的溶剂为非溶性溶剂；所述辅助分隔墙与所述第一表面均具有亲水性，所述像素分隔墙朝向所述第一开口部的侧壁具有疏水性。5.根据权利要求1所述的显示基板的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳倩，黄维，田禹，王小芬，隋凯，董超，刘晓云，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11