多弧离子数控真空镀膜机制造技术

技术编号:21246554 阅读:34 留言:0更新日期:2019-06-01 07:05
本实用新型专利技术公开了多弧离子数控真空镀膜机,属于真空镀膜机领域,多弧离子数控真空镀膜机包括真空镀膜室、旋转轴、第一转盘、第二转盘、以及加热器,旋转轴的一端穿过真空镀膜室的上壁中部,且向真空镀膜室高度方向延伸至真空镀膜室的底部上方,第一转盘固定套设在旋转轴的上端,第一转盘的底部固定有至少一个加热器,第二转盘固定套设在旋转轴的下端,第二转盘的顶部固定有至少一个加热器,第一转盘和第二转盘均位于真空镀膜室的内部。本实用新型专利技术的多弧离子数控真空镀膜机加热均匀。

Multi-arc Ion NC Vacuum Coating Machine

The utility model discloses a multi-arc ion numerical control vacuum coating machine, which belongs to the field of vacuum coating machine. The multi-arc ion numerical control vacuum coating machine includes a vacuum coating chamber, a rotating shaft, a first rotating disc, a second rotating disc and a heater. One end of the rotating shaft passes through the middle part of the upper wall of the vacuum coating chamber, and extends to the bottom of the vacuum coating chamber in the direction of the height of the vacuum coating chamber. The disc is fixed at the upper end of the rotating shaft, the bottom of the first rotating disc is fixed with at least one heater, the second rotating disc is fixed at the lower end of the rotating shaft, and the top of the second rotating disc is fixed with at least one heater. The first rotating disc and the second rotating disc are both located in the interior of the vacuum coating chamber. The multi-arc ion numerical control vacuum coating machine of the utility model has uniform heating.

【技术实现步骤摘要】
多弧离子数控真空镀膜机
本技术属于真空镀膜机领域,尤其涉及一种多弧离子数控真空镀膜机。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。相对普通的离子镀镀膜机,多弧离子镀膜沉积速率快、效率高。采用数控的真空镀膜机加工质量稳定,减少劳动力。温度是多弧离子真空镀膜中影响成品质量的的一个重要因素,目前大部分多弧离子真空镀膜机中采用的加热方式均为固定式加热,这种加热方式容易造成局部加热温度高,真空镀膜室内的温度不均匀,进而影响成品质量。
技术实现思路
为了克服现有技术的缺陷,本技术所要解决的技术问题在于提出一种多弧离子数控真空镀膜机,加热均匀。为达此目的,本技术采用以下技术方案:本技术提供的多弧离子数控真空镀膜机,包括真空镀膜室、旋转轴、第一转盘、第二转盘、以及加热器,旋转轴的一端穿过真空镀膜室的上壁中部,且向真空镀膜室高度方向延伸至真空镀膜室的底部上方,第一转盘固定套设在旋转轴的上端,第一转盘的底部固定有至少一个加热器,第二转盘固定套设在旋转轴的下端,第二转盘的顶部固定有至少一个加热器,第一转盘和第二转盘均位于真空镀膜室的内部。本技术优选地技术方案在于,第一转盘底部的加热器共2个,且沿旋转轴轴向对称设置,第二转盘顶部的加热器共2个,且沿旋转轴轴向对称设置,第二转盘的直径大于第一转盘的直径。本技术优选地技术方案在于,加热器为电阻加热器、电磁加热器、或石英加热器中的一种。本技术优选地技术方案在于,还包括底板和车轮,真空镀膜室固定在底板的顶部,车轮固定在底板的底部。本技术优选地技术方案在于,还包括倾斜设置的伸缩杆和把手,伸缩杆的底端倾斜且固定在底板的顶部,伸缩杆位于真空镀膜室的右侧,把手固定在伸缩杆的顶端。本技术优选地技术方案在于,还包括连接管和真空组,真空组固定在底板上,且位于真空镀膜室的左侧,真空组与真空镀膜室之间通过连接管密封连接。本技术优选地技术方案在于,还包括驱动电机,驱动电机固定在真空镀膜室的顶部,驱动电机输出端与旋转轴的顶端固定连接。本技术优选地技术方案在于,还包括若干个多弧靶组件,若干个多弧靶组件分别固定在真空镀膜室的左右两侧壁上。本技术优选地技术方案在于,还包括旋转工架,旋转工架固定套设在旋转轴的中部。本技术优选地技术方案在于,还包括室门,室门通过合页铰接在真空镀膜室的前侧,室门的前侧嵌设有观察窗。本技术的有益效果为:通过旋转轴带动旋转工架旋转的过程中同时带动加热器做圆周运动,加热更加均匀,避免加热器在固定位置加热导致的局部温度过高和加热不均匀,并且第二转盘和第一转盘的设置,使得第二转盘和第一转盘,上的加热器与旋转工架上的带镀膜工件之间的距离各不同,从不同位置进行加热,使得加热更加全面,镀膜更加全面。通过车轮的设置可方便移动本设备,把手和伸缩杆的设置进一步提高移动过程的便利性,并且占用空间少。观察窗的设置方便实时观察真空镀膜室内的情况。附图说明图1是本技术的主视结构示意图;图2是本技术室门的主视结构示意图。图中:1、真空镀膜室;2、旋转轴;3、第一转盘;4、第二转盘;5、加热器;6、底板;7、车轮;8、伸缩杆;9、把手;10、连接管;11、真空组;12、驱动电机;13、多弧靶组件;14、旋转工架;15、室门;16、观察窗。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。如图1至图2所示,本实施例中提供的多弧离子数控真空镀膜机,包括真空镀膜室1、旋转轴2、第一转盘3、第二转盘4、加热器5、驱动电机12、四个多弧靶组件13、以及旋转工架14,旋转轴2的下端穿过真空镀膜室1的上壁中心,且向真空镀膜室1高度方向延伸至所述真空镀膜室1的底部上方,驱动电机12固定在真空镀膜室1的顶部中心,驱动电机12输出端与旋转轴2的顶端固定连接,本实施例中,驱动电机12的型号为5RK40GN-C,第一转盘3固定套设在旋转轴2的上端,第一转盘3的底部固定有两个加热器5,第二转盘4固定套设在旋转轴2的下端,第二转盘4的顶部固定有两个加热器5,第一转盘3和第二转盘4均位于真空镀膜室1的内部,第一转盘3底部的两个加热器5和第二转盘4顶部的两个加热器5均沿旋转轴2轴向对称设置,且加热器分别位于第一转盘3和第二转盘4的边缘处,四个多弧靶组件13分别固定在真空镀膜室1的左右两侧壁上,真空镀膜室1的左侧壁分布两个,真空镀膜室1的右侧壁分布两个,旋转工架14固定套设在旋转轴2的中部,驱动电机12带动旋转轴2旋转,旋转轴2带动旋转工架14旋转,使得旋转工架14上的工件镀膜更加全面,在旋转轴2带动旋转工架14旋转镀膜过程中,旋转轴2带动第二转盘4和第一转盘3上的加热器5旋转,使得加热器5在真空镀膜室1内做圆周运动,加热更加均匀,避免加热器5在固定位置加热导致的局部温度过高和加热不均匀,第二转盘4的直径大于第一转盘3的直径,其直径比为4:3,第一转盘3上的加热器5相对于第二转盘4上的加热器5更靠近旋转工架14,通过第二转盘4和第一转盘3的设置,使得第二转盘4和第一转盘3上的加热器5与旋转工架14上的带镀膜工件之间的距离各不同,从不同位置进行加热,使得加热更加全面。为了提高加热效率,进一步地,加热器5为电阻加热器、电磁加热器、或石英加热器中的一种,本实施例中加热器5选用电阻加热器,加热均匀,加热效率高,并且对环境污染小。为了便于移动真空镀膜室1,进一步地,还包括底板6和车轮7,真空镀膜室1固定在底板6的顶部,底板6的底部固定有车轮7,车轮7可转动,通过车轮7的设置可方便移动真空镀膜室1。为了进一步提高移动过程的便利性,进一步地,还包括倾斜设置的伸缩杆8和把手9,伸缩杆8的底端倾斜固定在底板6的顶部,且位于真空镀膜室1的右侧,把手9固定在伸缩杆8的顶端,当需要移动真空镀膜室1时,通过把手9将伸缩杆8拉长,然后即可方便地移动真空镀膜室1,当不需要移动真空镀膜室1时,通过把手9将伸缩杆8推回复位,减少空间占用。为了便于移动真空组11,进一步地,还包括连接管10和真空组11,真空组11固定在底板6的顶部,且位于真空镀膜室1的左侧,真空组11与真空镀膜室1之间通过连接管10密封连接。为了方便实时观察真空镀膜室1内的情况,进一步地,还包括室门15,室门15通过合页铰接在真空镀膜室1的前侧,室门15的前侧嵌设有观察窗16。该文中出现的电器原件均与外侧的主控器及220V市电电性连接,并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。本技术是通过优选实施例进行描述的,本领域技术人员知悉,在不脱离本技术的精神和范围的情况下,可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本技术不受此处所公开的具体实施例的限制,其他落入本申请的权利要求内的实施例都属于本技术保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.多弧离子数控真空镀膜机,其特征在于:包括真空镀膜室(1)、旋转轴(2)、第一转盘(3)、第二转盘(4)、以及加热器(5);所述旋转轴(2)的一端穿过所述真空镀膜室(1)的上壁中部,且向所述真空镀膜室(1)高度方向延伸至所述真空镀膜室(1)的底部上方;所述第一转盘(3)固定套设在所述旋转轴(2)的上部,所述第一转盘(3)的底部固定有至少一个所述加热器(5);所述第二转盘(4)固定套设在所述旋转轴(2)的下端,所述第二转盘(4)的顶部固定有至少一个所述加热器(5);所述第一转盘(3)和所述第二转盘(4)均位于所述真空镀膜室(1)的内部。

【技术特征摘要】
1.多弧离子数控真空镀膜机,其特征在于:包括真空镀膜室(1)、旋转轴(2)、第一转盘(3)、第二转盘(4)、以及加热器(5);所述旋转轴(2)的一端穿过所述真空镀膜室(1)的上壁中部,且向所述真空镀膜室(1)高度方向延伸至所述真空镀膜室(1)的底部上方;所述第一转盘(3)固定套设在所述旋转轴(2)的上部,所述第一转盘(3)的底部固定有至少一个所述加热器(5);所述第二转盘(4)固定套设在所述旋转轴(2)的下端,所述第二转盘(4)的顶部固定有至少一个所述加热器(5);所述第一转盘(3)和所述第二转盘(4)均位于所述真空镀膜室(1)的内部。2.根据权利要求1所述的多弧离子数控真空镀膜机,其特征在于:所述第一转盘(3)底部的加热器(5)共2个,且沿所述旋转轴(2)轴向对称设置;所述第二转盘(4)顶部的加热器(5)共2个,且沿所述旋转轴(2)轴向对称设置;所述第二转盘(4)的直径大于所述第一转盘(3)的直径。3.根据权利要求1所述的多弧离子数控真空镀膜机,其特征在于:所述加热器(5)为电阻加热器、电磁加热器、或石英加热器中的一种。4.根据权利要求1所述的多弧离子数控真空镀膜机,其特征在于:还包括底板(6)和车轮(7);所述真空镀膜室(1)固定在所述底板(6)上;所述车轮(7)固定在所述底板(6)的底部。5.根据权利要求4所述的多弧离子数...

【专利技术属性】
技术研发人员:王汉春张金兴罗来山
申请(专利权)人:金山莱宝厦门科技有限公司
类型:新型
国别省市:福建,35

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