一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统及其清洗方法技术方案

本发明专利技术属于半导体行业中对晶圆匀胶工艺用液体处理领域，具体地说是一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统及其清洗方法，清洗系统包括胶头、胶嘴、胶嘴清洗槽、胶嘴清洗管、通断阀、胶路保温管、电控回吸阀及电控回吸阀控制器，胶嘴通过升降组件驱动进入胶嘴清洗槽，通过电控回吸阀在电控回吸阀控制器的作用下，再配合通断阀的控制，在胶嘴清洗槽的洗净腔室中，能高精度回吸胶嘴清洗液，进而实现对胶嘴清洗的目的。本发明专利技术通过精确控制的电控回吸阀，能更有效地对胶嘴残留光刻胶进行清洗，并能绝对阻断胶路内光刻胶与空气接触，从而减少光刻胶浪费，为企业节省成本。

A Nozzle Cleaning System Using Electronic Backdraft Valve and Its Cleaning Method

The invention belongs to the field of liquid treatment for wafer leveling process in semiconductor industry, in particular to a rubber nozzle cleaning system using an electronic control backdraft valve and its cleaning method. The cleaning system includes a rubber head, a rubber nozzle, a rubber nozzle cleaning trough, a rubber nozzle cleaning pipe, an on-off valve, a rubber insulation pipe, an electronic control backdraft valve and an electronic control backdraft valve controller. The rubber nozzle is driven into the rubber through a lifting assembly. Nozzle cleaning groove, under the action of electronic control backdraft valve controller, and with the control of on-off valve, in the cleaning chamber of the nozzle cleaning groove, can suck back the cleaning liquid of the nozzle with high precision, thus realizing the purpose of cleaning the nozzle. The invention can clean the residual photoresist of the rubber nozzle more effectively by accurately controlling the electronic control backdraft valve, and absolutely block the contact between the photoresist and the air in the rubber circuit, thereby reducing the waste of photoresist and saving the cost for the enterprise.

【技术实现步骤摘要】
一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统及其清洗方法
本专利技术属于半导体行业中对晶圆匀胶工艺用液体处理领域，具体地说是一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统及其清洗方法。
技术介绍
在半导体匀胶工艺过程中，胶嘴部分在两次工艺间隔中容易出现光刻胶残留。此残留物在空气中光刻胶中的溶剂挥发后，不易脱落，对后续的工艺造成很严重的影响，影响产品的良率。
技术实现思路
为了解决胶嘴端部光刻胶残留问题，本专利技术的目的在于提供一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统及其清洗方法。该清洗系统及清洗方法能实现多断回吸，能更有效地对胶嘴残留光刻胶进行清洗，并能绝对阻断胶路内光刻胶与空气接触，从而减少光刻胶浪费。本专利技术的目的是通过以下技术方案来实现的：本专利技术包括胶路部分、清洗部分及控制部分，其中胶路部分包括胶头、胶嘴及胶路保温管，所述清洗部分包括胶嘴清洗槽、胶嘴清洗管及胶嘴清洗进液口，所述控制部分包括电控回吸阀、电控回吸阀控制器及通断阀；所述胶头连接于升降组件的输出端，该胶头的一端通过胶路保温管与电控回吸阀相连通，另一端安装有胶嘴，所述胶头和胶嘴由升降组件驱动在胶嘴清洗槽的上方进行升降；光刻胶源通过光刻胶进口与所述电控回吸阀相连，向所述胶嘴提供光刻胶，该电控回吸阀与电控回吸阀控制器电连接；所述胶嘴清洗进液口通过通断阀与胶嘴清洗管的一端相连，该胶嘴清洗管的另一端连通于所述胶嘴清洗槽，向插入该胶嘴清洗槽内的胶嘴喷出清洗液，清洗胶嘴；其中：所述胶嘴清洗槽内设有洗净腔室，该洗净腔室的上端为胶嘴入口部，底端为设有废液出口的废液排出部，中间为与所述胶嘴清洗管另一端相连的清洗液进液口；所述清洗液进液口与插入胶嘴入口部的所述胶嘴的中心位置对齐，即该清洗液进液口的中心线与胶嘴的中心线垂直相交；本专利技术使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统的清洗方法为：所述升降组件带动胶嘴下降插入胶嘴清洗槽，此时所述电控回吸阀对光刻胶进行回吸，在胶嘴的尖端的端部形成空气段，该空气段的上部为胶路光刻胶；所述胶嘴清洗管路在通断阀的作用下喷液、对胶嘴尖端残留的光刻胶进行清洗；在该清洗过程中，所述电控回吸阀在电控回吸阀控制器的作用下，对胶路进行回吸动作，由所述电控回吸阀控制器控制回吸过程中的回吸速度及回吸强度，对胶嘴进行清洗，从而达到光刻胶清洗与回吸的效果。本专利技术的优点与积极效果为：1.本专利技术的胶嘴清洗系统分为胶路部分、清洗部分和控制部分，能独立对胶嘴进行有效清洗。2.本专利技术胶嘴清洗系统中的胶嘴清洗槽，清洗液进液口与胶嘴中心位置对齐，在清洗液喷洒时能形成液体紊流，对胶嘴端部能够有效进行清洗。3.本专利技术胶嘴清洗系统中的电控回吸阀，在电控回吸阀控制器作用下，配合通断阀，能对胶嘴进行高精度回吸，提高工艺能力。附图说明图1为本专利技术清洗系统的结构示意图；其中：1为胶头，2为胶嘴，3为胶嘴清洗槽，4为废液出口，5为胶嘴清洗管，6为通断阀，7为胶嘴清洗进液口，8为电控回吸阀控制器，9为控制线缆，10为光刻胶进口，11为电控回吸阀，12为胶路保温管，13为洗净腔室。具体实施方式下面结合附图对本专利技术作进一步详述。如图1所示，本专利技术的清洗系统包括胶路部分、清洗部分及控制部分，其中胶路部分包括胶头1、胶嘴2及胶路保温管12，清洗部分包括胶嘴清洗槽3、胶嘴清洗管5及胶嘴清洗进液口7，控制部分包括电控回吸阀11、电控回吸阀控制器8及通断阀6。胶头1连接于升降组件的输出端，该胶头1的一端通过胶路保温管12与电控回吸阀11相连通，另一端固接有胶嘴2，该胶嘴2位于胶嘴清洗槽的正上方。胶头1和胶嘴2由升降组件驱动在胶嘴清洗槽3的上方进行升降。光刻胶源通过光刻胶进口10与电控回吸阀11相连，向胶嘴2提供光刻胶；该电控回吸阀11通过控制线缆9与电控回吸阀控制器8电连接，本专利技术的电控回吸阀控制器8为现有技术。胶嘴清洗进液口7通过通断阀6与胶嘴清洗管5的一端相连，该胶嘴清洗管5的另一端连通于胶嘴清洗槽3。胶嘴清洗槽3内设有洗净腔室13，该洗净腔室13的上端为胶嘴入口部，底端为设有废液出口4的废液排出部，中间为与胶嘴清洗管5另一端相连的清洗液进液口。清洗液进液口与插入胶嘴入口部的胶嘴2的中心位置对齐，即该清洗液进液口的中心线与胶嘴2的中心线垂直相交，在清洗液喷洒时能形成液体紊流(螺旋流)，对胶嘴2端部有效进行清洗。本专利技术使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统的清洗方法为：升降组件带动胶嘴2下降插入胶嘴清洗槽3，至图1中的虚线位置；此时电控回吸阀11对光刻胶进行回吸，在胶嘴2的尖端的端部形成一段空气，该段空气的上部为胶路光刻胶；胶嘴清洗管路5在通断阀6的作用下喷液、对胶嘴2尖端残留的光刻胶进行清洗，此为本专利技术的胶嘴清洗过程；在该清洗过程中，电控回吸阀11在电控回吸阀控制器8的作用下，对胶路进行的回吸动作，可以由电控回吸阀控制器8控制回吸过程中的回吸速度及回吸强度，可以对胶嘴2进行有效的清洗，从而达到光刻胶清洗与回吸的效果。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统，其特征在于：包括胶路部分、清洗部分及控制部分，其中胶路部分包括胶头(1)、胶嘴(2)及胶路保温管(12)，所述清洗部分包括胶嘴清洗槽(3)、胶嘴清洗管(5)及胶嘴清洗进液口(7)，所述控制部分包括电控回吸阀(11)、电控回吸阀控制器(8)及通断阀(6)；所述胶头(1)连接于升降组件的输出端，该胶头(1)的一端通过胶路保温管(12)与电控回吸阀(11)相连通，另一端安装有胶嘴(2)，所述胶头(1)和胶嘴(2)由升降组件驱动在胶嘴清洗槽(3)的上方进行升降；光刻胶源通过光刻胶进口(10)与所述电控回吸阀(11)相连，向所述胶嘴(2)提供光刻胶，该电控回吸阀(11)与电控回吸阀控制器(8)电连接；所述胶嘴清洗进液口(7)通过通断阀(6)与胶嘴清洗管(5)的一端相连，该胶嘴清洗管(5)的另一端连通于所述胶嘴清洗槽(3)，向插入该胶嘴清洗槽(3)内的胶嘴(2)喷出清洗液，清洗胶嘴(2)。

【技术特征摘要】
1.一种使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统，其特征在于：包括胶路部分、清洗部分及控制部分，其中胶路部分包括胶头(1)、胶嘴(2)及胶路保温管(12)，所述清洗部分包括胶嘴清洗槽(3)、胶嘴清洗管(5)及胶嘴清洗进液口(7)，所述控制部分包括电控回吸阀(11)、电控回吸阀控制器(8)及通断阀(6)；所述胶头(1)连接于升降组件的输出端，该胶头(1)的一端通过胶路保温管(12)与电控回吸阀(11)相连通，另一端安装有胶嘴(2)，所述胶头(1)和胶嘴(2)由升降组件驱动在胶嘴清洗槽(3)的上方进行升降；光刻胶源通过光刻胶进口(10)与所述电控回吸阀(11)相连，向所述胶嘴(2)提供光刻胶，该电控回吸阀(11)与电控回吸阀控制器(8)电连接；所述胶嘴清洗进液口(7)通过通断阀(6)与胶嘴清洗管(5)的一端相连，该胶嘴清洗管(5)的另一端连通于所述胶嘴清洗槽(3)，向插入该胶嘴清洗槽(3)内的胶嘴(2)喷出清洗液，清洗胶嘴(2)。2.根据权利要求1所述使用电控回吸阀的胶嘴清洗系统，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：耿克涛，高晓旭，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁,21