显影液过滤系统及显影液的过滤方法技术方案

一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，并被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

Filtration System of Developing Solution and Filtration Method of Developing Solution

The invention relates to a developer filter system, which comprises a circulating filter module and a second filter. The circulating filter module comprises a tank, at least one first filter and a fluid controller. The holding tank is selectively connected to a developer supply tank and receives a developer from the developer supply tank. At least one first filter is a developer liquid in a primary loop configured to filter a circulating filter module. The fluid controller is configured to selectively output the developing liquid from the first filter to the first detection stage. The second filter is arranged between the developer supply tank and the holding tank or between the fluid controller and the detection stage, and is configured to filter the developer from the developer supply tank or from the first filter. The second filter contains a high density polyethylene filter membrane.

【技术实现步骤摘要】
显影液过滤系统及显影液的过滤方法
本公开实施例涉及一种半导体制造技术，特别涉及一种过滤提供给光刻制程使用的显影液的过滤系统以及将显影液过滤的方法。
技术介绍
近年来，半导体集成电路(semiconductorintegratedcircuits)经历了指数级的成长。在集成电路材料以及设计上的技术进步下，产生了多个世代的集成电路，其中每一世代较前一世代具有更小更复杂的电路。在集成电路发展的过程中，当几何尺寸(亦即，制程中所能产出的最小元件或者线)缩小时，功能密度(亦即，每一晶片区域所具有的互连装置的数目)通常会增加。一般而言，此种尺寸缩小的制程可以提供增加生产效率以及降低制造成本的好处，然而，此种尺寸缩小的制程亦会增加制造与生产集成电路的复杂度。在半导体元件制造中，光刻制程(lithography)扮演了相当重要的角色，其用于在晶圆上形成所需的特定图案。光刻制程的基本步骤包括，形成光刻胶层于晶圆表面上，刻印或曝光例如具特定电路布局的图案于光刻胶层上，以及通过供应显影液至光刻胶层上以去除光刻胶层的不需要的部分，进而能在晶圆上形成所需的特定图案。虽然现有的半导体制造机台(包括显影液过滤系统)已经可符合上述一般的目的，但这些半导体制造机台及过滤方法仍不能在各方面令人满意。
技术实现思路
本公开一些实施例提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。其中第二过滤器包含一高密度聚乙烯(HighDensityPolyethylene)过滤膜。本公开实施例另提供一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块、一第二过滤器以及一冷却装置。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。冷却装置是连接第二过滤器，被配置以降低流经第二过滤器的显影液的温度。本公开实施例提供一种显影液的过滤方法，包含提供一显影液至一循环回路。显影液的过滤方法还包含于循环回路中以一第一过滤器过滤显影液。再者，显影液的过滤方法还包含由循环回路输出显影液至一检测级。显影液的过滤方法还包含降低显影液的温度。另外，显影液的过滤方法还包含通过一第二过滤器过滤提供至循环回路前的显影液、循环回路中的显影液或循环回路输出的显影液。附图说明图1为本公开一些实施例的显影液过滤系统以及连接于显影液过滤系统的一检测级与一处理腔室的方块示意图。图2为本公开一些实施例的处理腔室的示意图。图3为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图。图4为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图。图5为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图图6为本公开另一实施例的显影液过滤系统、检测级与处理腔室的方块示意图图7为本公开实施例中的显影液过滤系统中显影液的过滤方法的流程图。附图标记说明：100、100A、100B、100C、100D显影液过滤系统102显影液供应槽104第一抽水泵106第一开关阀108第一热交换器110第二热交换器112第三热交换器114冷却装置150循环过滤模块152容置槽154第二抽水泵156第二开关阀158流体控制器180控制装置200检测级300处理腔室301喷嘴302旋转台303晶圆304储存槽305开关阀306外壳3041连通管路3061废液引道DEP显影液FLT1第一过滤器FLT2第二过滤器TB1第一管路TB2第二管路TBC循环回路TBi输入管路S100、S102、S104、S106、S108操作具体实施方式以下公开的实施方式或实施例是用于说明或完成本公开的多种不同技术特征，所描述的元件及配置方式的特定实施例是用于简化说明本公开，使公开得以更透彻且完整，以将本公开的范围完整地传达予本领域技术人员。当然，本公开也可以许多不同形式实施，而不局限于以下所述的实施例。在下文中所使用的空间相关用词，例如“在…下方”、“下方”、“较低的”、“上方”、“较高的”及类似的用词，是为了便于描述图示中一个元件或特征与另一个(些)元件或特征之间的关系。除了在附图中绘示的方位之外，这些空间相关用词也意欲包含使用中或操作中的装置的不同方位。例如，装置可能被转向不同方位(旋转90度或其他方位)，而在此所使用的空间相关用词也可依此相同解释。此外，若实施例中叙述了一第一特征形成于一第二特征之上或上方，即表示其可能包含上述第一特征与上述第二特征是直接接触的情况，亦可能包含了有附加特征形成于上述第一特征与上述第二特征之间，而使得上述第一特征与第二特征未直接接触的情况。以下不同实施例中可能重复使用相同的元件标号及/或文字，这些重复是为了简化与清晰的目的，而非用以限定所讨论的不同实施例及/或结构之间有特定的关系。另外，在附图中，结构的形状或厚度可能扩大，以简化或便于标示。必须了解的是，未特别图示或描述的元件可以本领域技术人员所熟知的各种形式存在。在半导体元件制造过程中，光刻制程用于在晶圆上形成所需的特定图案。在进行光刻制程之前，是将显影液通过例如一喷洒装置供应至晶圆的光刻胶层上。当晶圆经过光刻制程后，可能会通过电子显微镜发现晶圆上的图案具有缺陷。而造成缺陷的原因可能归因于显影液中含有微粒而通过喷洒而落在晶圆上，进而影响晶圆的图案化。因此，在通过喷洒装置将显影液供应至晶圆的光刻胶层上之前，显影液会通过一过滤系统进行过滤，以过滤显影液中不合要求的微粒(例如是由溶液所产生的沉淀物)。当过滤完成后，再通过一连串的管路系统由过滤系统端输送至所述喷洒装置的一储存槽以进行暂存。本公开实施例提供一种显影液过滤系统，用于供应半导体光刻制程所需的显影液。请先参考图1，图1为本公开一些实施例的显影液过滤系统100以及连接于显影液过滤系统100的一检测级200与一处理腔室300的方块示意图。在图1中，显影液DEP经过显影液过滤系统100过滤后，可经由一第一管路TB1输出至检测级200，并且在检测级200进行检验，以确认过滤后的显影液DEP是否符合预定规格。举例来说，检测级200是可检验显影液过滤系统100所提供的显影液DEP中是否含有过多的微粒，例如是否含有超过150个小于30纳米的微粒。当显影液DEP含有过多微粒时，便可能造成后续制程中晶圆的图形化的缺陷。于某些实施例中，微粒可能是环境中的灰尘或是显影液DEP中的沉淀物质等。当检测级200检测后确认显影液DEP符合所设定的预定规格后(如小于30纳米的微粒少于150个时)，便可将本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影液过滤系统，包含：一循环过滤模块，包含：一容置槽，选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自该显影液供应槽的一显影液；至少一第一过滤器，被配置以过滤该循环过滤模块的一循环回路中的该显影液；以及一流体控制器，被配置以选择地输出来自该第一过滤器的该显影液至一检测级；以及一第二过滤器，设置于该显影液供应槽与该容置槽之间或设置于该流体控制器与该检测级之间，并被配置以过滤来自该显影液供应槽或来自该第一过滤器的该显影液，其中该第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

【技术特征摘要】
1.一种显影液过滤系统，包含：一循环过滤模块，包含：一容置槽，选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自该显影液供应槽的一显影液；至少一第一过滤器，被配置以过滤该循环过滤模块的一循环回路中的该显影液；以及一流体控制器，被配置以选择地输出来自该第一过滤器的该显影液至一检测级；以及一第二过滤器，设置于该显影液供应槽与该容置槽之间或设置于该流体控制器与该检测级之间，并被配置以过滤来自该显影液供应槽或来自该第一过滤器的该显影液，其中该第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。2.如权利要求1所述的显影液过滤系统，其中该显影液包含醚类、酮类或酯类溶剂。3.如权利要求1所述的显影液过滤系统，其中该第一过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。4.如权利要求1所述的显影液过滤系统，其中该第一过滤器的材质不同于该第二过滤器的材质，且该第二过滤器的过滤孔径小于该第一过滤器的过滤孔径。5.如权利要求1、2、3或4所述的显影液过滤系统，还包括至少一热交换器，设置于该循环过滤模块与该显影液供应槽之间、该循环回路中或该循环过滤模块与该第二过滤器之间，并被配置以降低该显影液的温度。6.一种显影液过滤系统，包含：一循环过滤模块，包含：一容置槽，选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自该...

【专利技术属性】
技术研发人员：林子扬，刘朕与，张庆裕，林进祥，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71